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facial angleの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
ROTATION ANGLE DETECTOR FOR OBJECT, FACIAL ROTATION ANGLE DETECTION PROGRAM, AND FACIAL ROTATION ANGLE DETECTION METHOD例文帳に追加
オブジェクトの回転角度検出装置、顔の回転角度検出プログラムおよび顔の回転角度検出方法 - 特許庁
To reduce time for inspection of visual angle properties in a liquid crystal display device and to solve the problem that facial (two dimensional) inspection can not be performed.例文帳に追加
液晶表示装置における視角特性の検査の時間短縮、および面(2次元)的検査ができない課題を解決する。 - 特許庁
In this sensor chip 30, the facial azimuth is a (100) face, and the directions of orthogonal <110> crystal axes x, y are arranged so as to be rotated only at an angle θ ranging from 15° to 37° against straight lines A and B in parallel to the side part of the sensor chip 30.例文帳に追加
センサチップ30は面方位が(100)面であり、その相直交する<110>結晶軸x、yの方向が、センサチップ30の辺部と平行な直線A、Bに対して15°〜37°の角度θだけ回転した配置となっている。 - 特許庁
This method for polishing the workpiece made of the crystal material into a desired facial shape by scanning and moving a polishing tool sufficiently small for the workpiece on the workpiece comprises a step for obtaining an average inclination angle of a contact plane at points in polishing regions of the workpiece and a step for changing polishing conditions in accordance with the average inclination angle obtained in the angle acquisition step.例文帳に追加
結晶材料からなるワークに、当該ワークに対して十分小さな研磨工具を走査移動させて前記ワークを所望の面形状に研磨する方法であって、前記ワークの研磨対象領域における点の接平面の平均傾斜角度を取得するステップと、前記角度取得ステップで取得した前記平均傾斜角度に従って研磨条件を変化させるステップとを有する研磨方法を提供する。 - 特許庁
A substantially long full multi-inkjet substrate is formed by continuously arranging a plurality of parallelogram ink feeding holes in which the side face is surrounded by (111) faces by an angle of 35.26 degree to a long side on an Si single crystal substrate in which the section of the short side is (100), the section of the long side is (110) and a facial direction is (110).例文帳に追加
短辺の断面が(100)、長辺の断面が(110)で面方位が(110)のSi単結晶基板に、長辺と35.26度をなす角度で、側面が(111)面で囲まれた平行四辺形のインク供給口を複数連続的に配置することによって、実質上長尺のフルマルチインクジェット基板を形成する。 - 特許庁
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