「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(119ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming a film pattern which is capable of improving the adhesive power of a film pattern to a board while the film pattern keeps high liquid repellency as desired.例文帳に追加

所望の撥液性を維持したまま、基板と膜パターンとの密着力を向上できる膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern for uniformly forming a resist pattern having pattern dimensions which are not more than the limit of the resolution of an exposure device.例文帳に追加

露光装置の解像限界以下のパターン寸法を持つレジストパターンを均一に形成することができるレジストパターン形成方法を得る。 - 特許庁

METAL TONER FOR CONDUCTOR PATTERN FORMATION, METHOD FOR MANUFACTURING METAL TONER FOR CONDUCTOR PATTERN FORMATION, AND USAGE OF METAL TONER FOR CONDUCTOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

導体パターン形成用金属トナー、導体パターン形成用金属トナーの製造方法および導体パターン形成用金属トナーの使用方法 - 特許庁

METAL TONER FOR FORMING CONDUCTOR PATTERN, MANUFACTURE OF METAL TONER FOR FORMING CONDUCTOR PATTERN, AND USING METHOD OF METAL TONER FOR FORMING CONDUCTOR PATTERN例文帳に追加

導体パターン形成用金属トナー、導体パターン形成用金属トナーの製造方法、および導体パターン形成用金属トナーの使用方法 - 特許庁

(4) A conductor pattern is formed by forming the resist pattern by using the method described in (3), and etching or plating the portions not covered with the resist pattern.例文帳に追加

（４）（３）記載の方法によりレジストパターンを形成し、レジストパターンに覆われていない部分をエッチングまたはめっきし、導体パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a mask scanning lithography method by which a pattern can be formed with high dimensional accuracy without relying upon the kind of a character pattern nor other patterns existing in the periphery of the character pattern.例文帳に追加

キャラクタパターンの種類やキャラクタパターンの周辺に位置する他のパターンに依存することなく、高精度な寸法のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming device which can form a high-quality high-definition pattern, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

この発明は、高精細なパターンを高い品質で形成できるパターン形成装置、およびパターン形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICROSCOPIC PASSAGE STRUCTURE例文帳に追加

導電性パターンの形成方法、積層基板の製造方法及び微細流路構造体の製造方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの検査方法、液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD OF ALIGNING FOR CHARGED PARTICLE BEAM, PATTERN ALIGNING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線調整方法、パターン転写方法及びこれらの方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN USING OFFSET PRINTING, METHOD OF FORMING LENS, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

オフセット印刷を用いたパターン形成方法、レンズ形成方法および液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR PATTERN TRANSFER, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

パターン転写用マスク、パターン転写方法、露光方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE, OPTICAL ELEMENT AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、光学素子の製造方法、基板の製造方法、光学素子、及び露光装置 - 特許庁

PATTERN DISPOSITION METHOD, MASK PREPARED USING METHOD, AND TRANSFER METHOD USING MASK例文帳に追加

パターン配置方法およびその方法を用いて作成されたマスク、並びにそのマスクを用いた転写方法 - 特許庁

CRYSTAL DEFECT RESTORATION METHOD, CRYSTAL PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND X-RAY DOSE DETECTION BODY例文帳に追加

結晶欠陥の回復方法、結晶体の作製方法、パターン形成方法、Ｘ線量の検出体 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、基板の加工方法及びデバイスの作製方法 - 特許庁

PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, METHOD FOR MANUFACTURING THE MASK FOR EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン補正方法、露光用マスク、露光用マスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

REFERENCE PATTERN DETERMINATION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, POSITION DETECTION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, AND EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

基準パターン決定方法とその装置、位置検出方法とその装置、及び、露光方法とその装置 - 特許庁

CREATION METHOD OF REFERENCE PATTERN INFORMATION, POSITION MEASURING METHOD, POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

基準パターン情報の作成方法、位置計測方法、位置計測装置、露光方法、及び露光装置 - 特許庁

METHOD FOR APPLYING PHOTORESIST, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER BY USING THESE METHODS例文帳に追加

フォトレジスト塗布方法、レジストパターン形成方法およびそれを用いたマスター情報担体の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, THE GRAY TONE MASK, METHOD FOR INSPECTING THE GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、グレートーンマスクの検査方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁

RESIST PATTERN SURFACE MODIFYING METHOD, IMPRINTING METHOD, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

レジストパターンの表面改質方法、及びインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF PATTERN OF MAGNETIC LAYER, MANUFACTURING METHOD OF MAGNETORESISTIVE ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC STORAGE MEDIUM例文帳に追加

磁性層パターンの形成方法、磁気抵抗素子の製造方法、及び磁気記憶媒体の製造方法 - 特許庁

INSPECTION APPARATUS, INSPECTION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE USING THE INSPECTION APPARATUS AND THE INSPECTION METHOD例文帳に追加

検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁

PATTERN TRANSFERRING METHOD USING MASK, HALFTONE MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT SUBSTRATE例文帳に追加

マスクを用いたパターンの転写方法、ハーフトーンマスク、及びその製造方法、並びに回路基板の製造方法 - 特許庁

CLEANING APPARATUS, CLEANING SYSTEM, PATTERN FORMING APPARATUS, CLEANING METHOD, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

清掃装置及び清掃システム、パターン形成装置、清掃方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

LETTERPRESS PRINTING APPARATUS, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

凸版印刷装置及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

パターン形成方法、半導体装置の製造方法、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

レジストパターン形成方法及び電子素子の製造方法並びに半導体集積回路の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MASK, FORMING METHOD OF PATTERN, PHOTOMASK FOR MEASURING DISTORTION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクの製造方法、パターンの形成方法、歪計測用フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, TREATMENT DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTRATE, AND THIN FILM PATTERNING METHOD例文帳に追加

フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク基板用処理装置、及び薄膜パターニング方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN IN ORGANIC POLYMER FILM, METHOD OF FORMING MULTILAYER WIRING, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

有機ポリマー膜へのパターン形成方法、多層配線の形成方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING FILM PATTERN, METHOD OF PRODUCING ELECTRICALLY CONDUCTIVE LAYER, METHOD OF PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜パターンの製造方法、導電層の製造方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

To provide a method and device for substrate alignment, and to provide method and device for pattern inspection that use the method and the device.例文帳に追加

基板整列方法及び装置、これを用いた基板のパターン検査方法及び装置が開示される。 - 特許庁

NANOIMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD, RESIN PATTERN MANUFACTURING METHOD BY NANOIMPRINT METHOD, AND NANOIMPRINT MOLD例文帳に追加

ナノインプリント用モールドの製造方法、ナノインプリント法による樹脂パターンの製造方法、及び、ナノインプリント用モールド - 特許庁

MOVING BODY DRIVING METHOD AND APPARATUS, ALIGNING METHOD AND APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD AND APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び装置、露光方法及び装置、パターン形成方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

EXPOSING METHOD OF CIRCUIT PATTERN OF CHIP-PERIPHERY PORTION, AND EXPOSING METHOD OF ALIGNMENT MARK, AND SEMICONDUCTOR-DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE EXPOSING METHOD例文帳に追加

チップ周辺部の回路パターン及びアライメントマークの露光方法とそれを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

DESIGNING METHOD OF ILLUMINATION LIGHT SOURCE, MASK PATTERN DESIGNING METHOD, PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム - 特許庁

A method for creating (S5) correction pattern data comprises a step of extracting (S1) a metal pattern from layout pattern data, extracting (S2) and expanding (S3) the minimum area violation pattern, detecting and improving (S4) an interconnection interval violation, and compensating a pattern width.例文帳に追加

レイアウトパターンデータからメタルパターンを抽出（Ｓ１）し、最小面積違反パターンを抽出（Ｓ２）して拡張（Ｓ３）し、配線間隔違反を検出、改善（Ｓ４）し、パターン幅を補正して修正パターンデータを生成（Ｓ５）する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a porous pattern, capable of forming the porous pattern with a controlled structure by easy processes and, moreover, capable of forming the pattern only in a desired area, to provide the porous pattern, and to provide a method for forming the porous pattern.例文帳に追加

構造の制御された多孔質パターンを容易なプロセスで、しかも、所望の場所のみに形成することができる多孔質パターン形成用組成物、多孔質パターンおよびその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material in which fogging due to a printout dye is suppressed and which is excellent in sensitivity, and a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

焼出し染料のカブリが抑制され、かつ、感度に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is equipped with a dummy pattern (actual dummy pattern) that is effectively arranged to an actual pattern such as a wiring and as high in pattern density as required, and to provide a method of arranging the actual dummy pattern.例文帳に追加

配線などの実パターンに対し効果的に配置されたダミーパターン（実ダミーパターン）を具備し、所望のパターン密度を有する半導体装置及びそのような実ダミーパターンを配置する方法を提供する。 - 特許庁

CALIBRATION METHOD, DEVICE AND METHOD FOR DRIVING MOVABLE BODY, DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE, DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN, AND DEVICE MANUFACURING METHOD例文帳に追加

較正方法、移動体駆動方法及び装置、露光方法及び装置、パターン形成方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁