「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(118ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, METHOD OF FORMING PATTERN BY USING THE PHOTOMASK, AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置 - 特許庁

PATTERN RECOGNITION DEVICE, METHOD, AND PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM WITH PATTERN RECOGNITION PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加

パターン認識装置、パターン認識方法、パターン認識プログラムおよびパターン認識プログラムを記録した記録媒体。 - 特許庁

This method for forming the nanometer order pattern comprises forming the nanometer order pattern with the polymer composition.例文帳に追加

この重合体組成物を用いてナノオーダーパターンを形成するナノオーダーパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

To provide a pattern forming method without causing a misregistration of a pair space pattern in a trench gate forming.例文帳に追加

トレンチゲート形成において、ペアスペースパターンの位置ずれの生じないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern which extends lifetime of a developing liquid, and also to provide a pattern forming system.例文帳に追加

現像液の寿命を延ばすことのできるパターン形成方法及び露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide an antenna pattern frame having an antenna radiator formed on a surface, and to provide a method of manufacturing the antenna pattern frame.例文帳に追加

本発明はアンテナ放射体を表面に形成したアンテナパターンフレーム及びその製造方法する。 - 特許庁

CONSECUTIVE PATTERN-PLATING METHOD FOR METAL STRIP AND EQUIPMENT, AND METAL STRIP PRODUCT PATTERN-PLATED THEREBY例文帳に追加

金属条の連続部分メッキ方法とその装置及びこれによって得られる部分メッキ金属条製品 - 特許庁

The binary-coding pattern creating method of this invention includes: a basic pattern shape creating step F10 of creating a basic pattern shape of a binary-coding pattern; a lighting sequence determining step F20 of determining the lighting sequence of pixels configuring the basic pattern; and a rectangular pattern creating step F30 of creating a rectangular pattern acting like the binary-coding pattern on the basis of the basic pattern.例文帳に追加

二値化用パターンの基本パターンの形状を演算により作成する基本パターン形状作成ステップＦ１０と、基本パターンを構成するピクセルの点灯順序を決定する点灯順序決定ステップＦ２０と、基本パターンに基づいて、二値化用パターンとして機能する矩形状パターンを作成する矩形状パターン作成ステップＦ３０とをそなえる。 - 特許庁

The method includes a step wherein a pattern collapse measuring pattern including an evaluation pattern and a fixation pattern is exposed on a resist formed on a wafer, a step to develop the resist, and a step to find the presence or absence of pattern collapse of the evaluation pattern by measuring the change of the position of center of gravity in a pattern collapse measuring pattern developed on the resist.例文帳に追加

ウェハ上に形成されたレジストに、評価パターンと固定パターンを含むパターン倒れ測定パターンを露光する工程と、レジストに対して現像プロセスを行う工程と、レジストに現像されたパターン倒れ測定パターンの重心位置の変動を測定して評価パターンのパターン倒れの有無を調べる工程とを有する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming device for forming a finger line pattern 73 into a thick film and preventing the surface of a bus line pattern 71 on the intersection part of the finger line pattern 73 from becoming rugged when applying and forming the finger line pattern 73 which intersects the bus line pattern 71 formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されたバス配線パターン７１に交差するフィンガー配線パターン７３を塗布形成する際に、フィンガー配線パターン７３を厚膜に形成することができるとともに、その交差部におけるバス配線パターン７１の表面が凸凹になることを抑制する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method, a pattern data generation method, and a pattern drawing apparatus capable of highly accurately and adjusting a drawing position of a drawing block by conforming a drawing pattern to a foundation pattern to draw on the object to be drawn.例文帳に追加

描画ブロックの描画位置を高精度に調整して描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画することができるパターン描画方法、描画データ生成方法、ならびにパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a method of manufacturing a semiconductor device, capable of forming a pattern in which a pattern region where pattern elements are periodically arrayed and a pattern region without such periodicity coexist with a high resolution.例文帳に追加

パターン要素が周期的に配列されたパターン領域と、このような周期性のないパターン領域とが混在しているパターンを高い解像度で形成することができるパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a generating method of a mask pattern to improve process margin, manufacturing method of a mask, a manufacturing method of a semiconductor device, and a pattern data generating program.例文帳に追加

プロセスマージンを向上するマスクパターン生成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びパターンデータ生成プログラムを提供すること。 - 特許庁

MAGNETIC PATTERN TRANSFERRING METHOD, MAGNETIC PATTERN TRANSFERRING DEVICE, PRODUCTION METHOD FOR MASTER FOR MAGNETIC TRANSFER, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND PRODUCTION METHOD FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気パターン転写方法、磁気パターン転写装置、並びに磁気転写用マスター体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which damage hardly occurs when releasing the template, and a method of manufacturing a semiconductor device using the pattern forming method.例文帳に追加

テンプレートを剥離する際に破壊されにくいパターン形成方法及びこのパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND FABRICATION METHOD OF CIRCUIT PATTERN BODY USING THE METHOD, OR ALIGNER AND CIRCUIT PATTERN BODY FABRICATED BY THE ALIGNER例文帳に追加

露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン体製造方法、または露光装置及びその露光装置により製造された回路パターン体 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resin pattern for lost wax precision casting method and this casting method with which various kinds of problems caused by the wax pattern are dissolved.例文帳に追加

ロウ模型に起因する各種課題を解決するためのロストワックス精密鋳造法用樹脂模型の製造方法及びその鋳造法を提供する。 - 特許庁

PATTERN-FORMING MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING POROUS STRUCTURE, ELECTROCHEMICAL CELL, METHOD FOR PRODUCING POROUS CARBON STRUCTURE, AND THE POROUS CARBON STRUCTURE例文帳に追加

パターン形成材料、パターン形成方法、多孔質構造体の製造方法、電気化学セル、多孔質カーボン構造体の製造方法、および多孔質カーボン構造体 - 特許庁

To provide a pattern recognition method for generating defective data and compensating shortage to improve a recognition ratio and a teaching data generating method to be used for the pattern recognition method.例文帳に追加

欠陥データを生成して不足分を補い認識率を高めるパターン認識方法と、それに用いる教示データの生成方法を提供する。 - 特許庁

MESH FOR PRINTING PATTERN APERTURE OF MASK, METHOD OF CREATING MESH PATTERN DATA, MASK, TWO-LAYER STRUCTURED MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK AND METHOD OF MANUFACTURING TWO-LAYER STRUCTURED MASK例文帳に追加

マスクの印刷パターン開口用のメッシュ、メッシュパターンデータの作成方法、マスク、２層構造マスク、マスク製造方法及び２層構造マスク製造方法 - 特許庁

MESH FOR PRINTING PATTERN APERTURE OF MASK, MASK, TWO-LAYER STRUCTURED MASK, METHOD OF CREATING MESH PATTERN DATA, METHOD OF MANUFACTURING MASK AND METHOD OF MANUFACTURING TWO-LAYER STRUCTURED MASK例文帳に追加

マスクの印刷パターン開口用のメッシュ、マスク、２層構造マスク、メッシュパターンデータの作成方法、マスク製造方法及び２層構造マスク製造方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SILICON GERMANIUM SACRIFICIAL LAYER AND FORMING METHOD OF SELF-ALIGNED CONTACT USING FORMING METHOD OF THE SAME PATTERN例文帳に追加

シリコンゲルマニウム犠牲層を用いた半導体素子の微細パターンの形成方法及びそのパターンの形成方法を用いた自己整列コンタクトの形成方法 - 特許庁

The protective layer 4 is provided by a coating method or a transfer method after transfer of the pattern layer 3 or is provided by the transfer method simultaneously with the pattern layer 3.例文帳に追加

保護層４は、絵柄層３の転写後に塗布法又は転写法により設けるか、若しくは、絵柄層３と同時に転写法により設ける。 - 特許庁

To provide a pattern forming material satisfying both high resolution and thin line adhesion, and forming a high-definition pattern, and also to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高解像度と細線密着性を両立でき、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of forming a pattern free of disconnection and twist without producing reticulations in a photosensitive layer, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

感光層にレチキュレーションを発生させることなく、断線やヨレのないパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In a signal quality evaluating method concerned with one implementation, a prescribed reproduced signal, a first pattern corresponding to the signal waveform pattern of the reproduced signal, an arbitrary pattern (a second or a third pattern) corresponding to the signal waveform pattern other than the first pattern are used.例文帳に追加

所定の再生信号、この再生信号の信号波形パターンに対応した第１のパターン、およびこの第１のパターン以外であって再生信号の信号波形パターンに対応した任意のパターン（第２または第３のパターン）が用いられる。 - 特許庁

The test pattern generation method, test pattern generation system, and test pattern generation device generate the test pattern through the use of a failure simulation execution means for executing failure simulation, and a test pattern generation means for generating the test pattern.例文帳に追加

テストパターンの生成方法及びテストパターンの生成システム並びにテストパターン生成装置において、故障シミュレーションを実行する故障シミュレーション実行手段と、テストパターンを生成するテストパターン生成手段とを用いて、テストパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a pattern identification device and a pattern identification method capable of identifying a class of the pattern with high precision in smaller operation load.例文帳に追加

より少ない演算負荷で、高精度にパターンのクラスを識別することができるパターン識別装置およびパターン識別方法を提供すること。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

パターン形成方法、パターン形成材料、並びに、これらを用いた感光性膜、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

By selecting a material to be adhered, the method is applicable to the pattern forming material, a fine particle pattern forming material and an electroconductive pattern material.例文帳に追加

付着される物質を選択し、画像形成材料、微粒子パターン形成材料、導電性パターン材料への応用が可能である。 - 特許庁

To provide a durable optical pattern display body which can be easily manufactured, a method for manufacturing the optical pattern display body, and a data storage medium having an optical pattern.例文帳に追加

容易に製造できる丈夫な光学パターン表示体、その製造方法、及び光学パターンを有するデータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method and a mask pattern correction apparatus that reduce a correction error associated with flare correction to enhance a dimensional accuracy of a resist pattern.例文帳に追加

マスクパターン補正方法及びマスクパターン補正装置に関し、フレア補正に伴う補正誤差を小さくして、レジストパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁

FLUORESCENT PATTERN FORMING METHOD, ARTICLE HAVING FLUORESCENT PATTERN, LAMINATE, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND TRANSFER LAMINATE FOR FORMING FLUORESCENT PATTERN例文帳に追加

蛍光絵柄形成方法、蛍光絵柄を有する物品、積層体、及び磁気記録媒体、並びに蛍光絵柄形成用の転写用積層体 - 特許庁

To provide an apparatus for forming a nano pattern capable of forming the uniform nano pattern at a low cost, and a method for forming the nano pattern using the same.例文帳に追加

低費用にて均一なナノパターンを形成することができるナノパターン形成装置及びこれを用いたナノパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method or the like, using a pattern in which a range for a specific axis is not specified in pattern matching.例文帳に追加

ターンマッチングにおいて、特定の軸における範囲が指定されていないパターンを用いることができるパターンマッチング方法等を提供する。 - 特許庁

To form a pattern, such as wiring in a self-alignment manner, when a pattern is formed by a liquid drop discharge method, and further to achieve higher adhesion of the pattern.例文帳に追加

液滴吐出方法により配線等のパターンを形成する場合、自己整合的に形成し、さらに該パターンの密着性を高める。 - 特許庁

DESIGNING DEVICE FOR TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT, DESIGNING METHOD FOR TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT, AND RECORDING MEDIUM WITH TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT DESIGN PROGRAM RECORDED例文帳に追加

タイヤトレッドパターン配列の設計装置、タイヤトレッドパターン配列の設計方法及びタイヤトレッドパターン配列設計プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

PATTERN FIGURE EVALUATING METHOD, PATTERN FIGURE EVALUATING DEVICE, PATTERN FIGURE EVALUATING DATA GENERATING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR FIGURE EVALUATING SYSTEM EMPLOYING THEM例文帳に追加

パターン形状評価方法，パターン形状評価装置，パターン形状評価データ生成装置およびそれを用いた半導体形状評価システム - 特許庁

To provide a binary-coding pattern creating method that can automatically create a centralized type of binary-coding pattern and simply create a minimum-sized binary-coding pattern.例文帳に追加

集中型の二値化用パターンを自動的に作成できるほか、最小の二値化用パターンを簡便に作成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern correction apparatus and a pattern correction method which are capable of correcting a pattern with lower power in a short cycle time.例文帳に追加

より低出力で短いサイクルタイムでパターンを修正することが可能なパターン修正装置、およびパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure mask and a pattern forming method for improving the light intensity distribution of a two-dimensional pattern and forming a fine resist pattern.例文帳に追加

２次元パターンの光強度分布を改善し、良好なレジストパターンを形成できる露光用マスク及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device which can form a desired pattern in a processing substrate by using F_2 laser beam.例文帳に追加

Ｆ_２レーザ光を用いて、被加工基板に所望のパターンを形成することのできるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern making method for improving workability significantly by enabling automatically performing a work to draw a graphic pattern without relation to a circuit on a wiring pattern.例文帳に追加

回路に関係がない図形パターンを配線パターン上に描く作業を自動的に実行可能にして、作業性を大幅に向上させる。 - 特許庁

In the pattern by this pattern creation method, contrast of the pattern is varied depending on an irradiation direction and an observation direction, and appearance of the hologram style is formed.例文帳に追加

本図柄作成方法による図柄は照射方向と観察方向によって図柄のコントラストが変化しホログラム調の外観を有する。 - 特許庁