「plasma etching system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PLASMA-ETCHING SYSTEM AND ETCHING PROCESS MANAGING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチングシステム及びエッチング工程管理方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置及び処理方法。 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびこれを用いたエッチングの方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング装置、及びプラズマエッチング方法 - 特許庁

END POINT DETECTOR FOR PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング装置用終点検出装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびパターン形成方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM, MOLDING DIE FOR OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

プラズマエッチング法、プラズマエッチング装置、光学素子用成形金型及び光学素子 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置およびそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR DAMAGE-FREE DRY ETCHING OF WAFER例文帳に追加

ダメージのないウェハードライエッチングのプラズマ処理装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING PLASMA ETCHING SYSTEM, METHOD OF PLASMA ETCHING AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング装置のクリーニング方法、プラズマエッチング方法及び半導体装置の作製方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR TUNGSTEN PLASMA ETCHING例文帳に追加

タングステンプラズマエッチング方法とタングステンプラズマエッチング装置 - 特許庁

To provide a plasma etching process and a plasma etching system capable of exhibiting excellent controllability of a processing profile.例文帳に追加

加工形状の制御性に優れたプラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a plasma etching system capable of suitably controlling plasma etching time for a metal thin film.例文帳に追加

金属薄膜のプラズマエッチング時間を適切に制御することの可能なプラズマエッチング装置を得ること。 - 特許庁

METHOD FOR PREVENTING OUT GAS BY OXYGEN PLASMA IRRADIATION IN SILICON SYSTEM PLASMA ETCHING例文帳に追加

シリコン系プラズマエッチングに於ける酸素プラズマ照射によるアウトガス防止方法 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PLASMA ETCHING CHAMBER SYSTEM例文帳に追加

フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステム - 特許庁

PLASMA ETCHING ELECTRODE HAVING IMPROVED HEAT RESISTANCE AND DRY ETCHING SYSTEM EQUIPPED WITH IT例文帳に追加

耐熱性に優れたプラズマエッチング電極及びそれを装着したドライエッチング装置 - 特許庁

To provide a plasma etching chamber of a plasma etching system used in an etching system for producing a photomask, and a method for producing a photomask using it.例文帳に追加

フォトマスク製造のためのエッチング工程に使われるプラズマエッチング装置のプラズマエッチングチャンバと、これを利用したフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching system which can accomplish plasma etching with smaller power consumption.例文帳に追加

より低消費電力でプラズマエッチングが達成できるドライエッチング装置を提供する - 特許庁

METHOD OF ETCHING SUBSTANCE FILM ON SEMICONDUCTOR WAFER, USING SURFACE WAVE PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

表面波プラズマエッチング装置を用いた半導体ウェーハ上の物質膜エッチング方法 - 特許庁

CONTROL METHOD OF PLASMA ETCHING PROCESS DEVICE AND TRIMMING AMOUNT CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置の制御方法およびトリミング量制御システム - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma etching system by which the time and labor for the acquisition of data on etching conditions can be reduced.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置において、エッチング条件のデータ採取の時間と労力を削減する。 - 特許庁

To provide a plasma etching system which ensures high etching rate and high selectivity ratio, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

高いエッチングレートと高い選択比が確保されるプラズマエッチング装置と、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RECESS ON SILICON SUBSTRATE BY ANISOTROPIC ETCHING AND METHOD OF USING PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

シリコン基板に凹部を異方性エッチングにより形成する方法およびプラズマエッチングシステムの使用方法 - 特許庁

To provide a cleaning device for plasma enhanced CVD system having a superior etching capacity.例文帳に追加

エッチング性能の優れたプラズマＣＶＤ装置用クリーニング装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of contamination and dust in the etching chamber of a plasma etching system which dry-etches a wafer by blowing an etching gas upon the wafer from an exhaust nozzle.例文帳に追加

噴出ノズルからエッチングガスをウエーハに吹付けてドライエッチングする装置において、エッチング室内の汚染やダストの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a magnetic neutral line discharge plasma generation device for ion implantion system, plasma etching system, plasma CVD system or the like, which is free of interference or disturbances by an external magnetic fields.例文帳に追加

外部磁場による干渉や擾乱等のない、イオン注入装置、プラズマエッチング装置、プラズマＣＶＤ装置等用の磁気中性線放電プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

First etching gas is supplied into the reaction chamber and plasma is generated by discharge from the plasma etching system in order to etch the antireflection film 2.例文帳に追加

反応室内に第１のエッチングガスを供給し、プラズマエッチング装置からの放電によりプラズマを生成して反射防止膜２をエッチングする。 - 特許庁

After the steam is added, the process gas is supplied to an atmospheric pressure plasma etching system 30.例文帳に追加

水蒸気添加後の処理ガスを常圧プラズマエッチング装置３０へ供給する。 - 特許庁

To provide a plasma etching system of quartz crystal plates which is capable of efficiently and extremely thinly working the quartz crystal plates, and a plasma etching method.例文帳に追加

水晶板を効率よく極薄に加工することができる水晶板のプラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND ITS MONITORING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置、それを用いた半導体装置の製造方法およびそのモニター方法 - 特許庁

To provide an extreme-ultraviolet photomask, a method of manufacturing a photomask, and a plasma etching chamber system.例文帳に追加

極紫外線フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステムを提供する。 - 特許庁

A sample stage 9 for mounting a wafer 10 is provided in an etching treatment chamber 4 in a microwave plasma etching system.例文帳に追加

マイクロ波プラズマエッチング装置のエッチング処理室４に、ウェハ１０を載置するための試料台９が設置されている。 - 特許庁

In the focus ring for the plasma etching system, concentration of Fe measured in secondary ion mass spectrometry is 1×103 counts or lower, and the plasma etching system using the focus ring is also provided.例文帳に追加

二次イオン質量分析で測定したＦｅ濃度が１×１０^3ｃｏｕｎｔｓ以下であるプラズマエッチング装置用フォーカスリング及び上記のフォーカスリングを有してなるプラズマエッチング装置。 - 特許庁

A plasma etching apparatus 1 comprises a process chamber 2 and an evacuation system P which is connected to the process chamber 2.例文帳に追加

プラズマエッチング装置１は、処理室２と、処理室２に接続された排気装置Ｐとを備える。 - 特許庁

To provide a plasma etching system treating the flexible object with high productivity and high working precision.例文帳に追加

生産性が高く、加工精度の高い、可撓性被処理物を処理するプラズマエッチング装置の提供。 - 特許庁

A plasma processing system 11 is provided with a processing chamber for performing etching processing, and a control unit 41.例文帳に追加

プラズマ処理装置１１は、エッチング処理を行う処理室１２と、制御装置４１とを備える。 - 特許庁

The extreme-ultraviolet photomask, the method of manufacturing a photomask, and the plasma etching chamber system are provided.例文帳に追加

極紫外線フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステム装置が提供される。 - 特許庁

When the recipe of plasma cleaning treatment is set, a decision is made whether the recipe is for the plasma etching (PE) system or the reactive ion etching (RIE) system by means of a personal computer 15, and the limitation of plasma treatment is read from an internal memory if the recipe is for the RIE system.例文帳に追加

プラズマ洗浄処理のレシピ設定をする際には、パソコン１５により、プラズマエッチング（ＰＥ）方式かリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）方式かのどちらであるかを判定し、ＲＩＥ方式であればプラズマ処理制限を内部メモリから読み込む。 - 特許庁

To obtain a plasma etching system in which the end point of etching can be detected with a high accuracy regardless of the aging of an optical system or a measuring equipment, contamination of an observation window, or the like.例文帳に追加

光学系や測定計の経時変化、観測窓の汚れ等の影響を受けずに、エッチングの終点を高精度に検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method and a plasma etching device capable of reducing dust in the case of trigger discharge in an etching process for generating a high frequency plasma (RF plasma) by using a trigger discharging system.例文帳に追加

トリガー放電方式を用いて高周波プラズマ（ＲＦプラズマ）を発生させるエッチング工程において、トリガー放電の際の発塵を低減し得る半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method and apparatus relating to ion-assisted etching processing in a plasma processing system.例文帳に追加

プラズマ処理システムにおけるイオン支援エッチング処理に関する改良された方法及び装置を開示する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ACTIVELY CONTROLLING RF PEAK-TO- PEAK VOLTAGE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置のＲＦピークトゥピーク電圧を能動的に制御する装置および方法 - 特許庁

To provide a dry etching system capable of surely detecting the end point of etching by detecting minute changes in emission intensity of plasma.例文帳に追加

プラズマの微小な発光強度の変化の検出によるエッチングの終点の検知を確実に行うことができるドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁