「projection lithography」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To monitor polarization performance of an optical system in a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置内の光学システムの偏光性能を監視する。 - 特許庁

To provide an immersion-type lithography projection device with improved functionality.例文帳に追加

改善された機能性を有する浸漬式リソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY PROJECTION ASSEMBLY, LOAD-LOCK AND METHOD FOR TRANSFERRING ARTICLE例文帳に追加

リソグラフィー投影組立体、ロード・ロック、および物体移送方法 - 特許庁

DETECTION ASSEMBLY AND LITHOGRAPHY PROJECTION SYSTEM EQUIPPED WITH DETECTION ASSEMBLY例文帳に追加

検出組立体および該検出組立体を備えたリソグラフ投影装置 - 特許庁

LITHOGRAPHY PROJECTION SYSTEM WITH TEMPERATURE- CONTROLLED HEAT SHIELD例文帳に追加

温度制御された熱シールドを有するリソグラフィ投影装置 - 特許庁

BALANCED POSITIONING SYSTEM FOR USE IN LITHOGRAPHY PROJECTION EQUIPMENT例文帳に追加

リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム - 特許庁

PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET RAY LITHOGRAPHY EQUIPMENT TO WHICH IT IS APPLIED例文帳に追加

投影光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置 - 特許庁

In order to shape the wave front of the lithography projection apparatus, projection optical components may be used.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置の波面を成形するために、投影光学部品を用いることができる。 - 特許庁

PROJECTION OBJECTIVELENS FOR MICRO LITHOGRAPHY OR THE LIKE, AND METHOD FOR ADJUSTING PROJECTION OBJECTIVE LENS例文帳に追加

マイクロリソグラフィ用等の投影対物レンズ及び投影対物レンズの調整方法 - 特許庁

This electron-beam lithography method consists of a combination of electron-beam projection lithography and an electron-beam writing method.例文帳に追加

本発明は、電子線投射リソグラフィーと電子線書き込み方法の組み合わせからなっている電子線リソグラフィー方法である。 - 特許庁

IMMERSION LITHOGRAPHY DEVICE AND METHOD (IMMERSION LITHOGRAPHY DEVICE HAVING UNIFORM PRESSURE, AT LEAST ON PROJECTION OPTICAL COMPONENT AND WAFER)例文帳に追加

浸漬リソグラフィ装置および方法（少なくとも投影光学コンポーネントとウェハ上で等圧力を有する浸漬リソグラフィ装置） - 特許庁

In the lithography projector, the space between the final element of the projection system and the substrate table of the lithography projector is surrounded by a sealing member.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置において、投影システムの最終素子とリソグラフィ投影装置の基板テーブル間のスペースをシール部材にて囲む。 - 特許庁

In a method of verifying the characteristics of a lithography projection apparatus for a reference lithography projection apparatus, optimization of the characteristics of a projection optical system is included in the verification.例文帳に追加

本明細書には、リソグラフィ投影装置の特性を参照リソグラフィ投影装置に対して照合する方法が説明されており、照合には、投影光学系の特性の最適化が含まれる。 - 特許庁

CORRECTION OF VARIATION OF WIRING WIDTH IN SUBFIELD OF E-BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY例文帳に追加

Ｅ−ビーム投影リソグラフィにおけるサブフィールド内配線幅変動の補正 - 特許庁

OBJECTIVE LENS, PARTICULARLY OBJECTIVE LENS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURE OF THE LENS例文帳に追加

対物レンズ、特に、半導体リソグラフィー投影露光装置の対物レンズ、およびその製造方法 - 特許庁

LENS SYSTEM, ESPECIALLY, PROJECTION LENS SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY例文帳に追加

レンズシステム、特に半導体リソグラフィーでのプロジェクションレンズシステム - 特許庁

The lithography apparatus patterns a projection beam of radiation by a patterning system.例文帳に追加

本リソグラフィ装置は、パターン形成システムにより放射投影ビームにパターンを付与する。 - 特許庁

EMITTER FOR ELECTRON BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY, ITS OPERATING METHOD AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子ビームプロジェクションリソグラフィ用エミッタ、その作動方法及び製造方法 - 特許庁

GAS BEARING USED FOR VACUUM CHAMBER AND APPLICATION OF ITS LITHOGRAPHY PROJECTION DEVICE例文帳に追加

真空室に用いる気体軸受およびそのリソグラフィ投影装置での適用 - 特許庁

To provide a method of compensating birefringence of a mask of a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置のマスクの複屈折を補償する方法を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING ADJUSTABLE PROJECTION SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

調整可能な投影系を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a lithography apparatus having an illumination system for supplying projection beams of radiation.例文帳に追加

放射線の投影ビームを供給するための照明システムを備えるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

MOVABLE SUPPORT IN VACUUM CHAMBER AND APPLICATION OF MOVABLE SUPPORT TO LITHOGRAPHY PROJECTION APPARATUS例文帳に追加

真空室内の可動サポートおよびリソグラフィ投影装置への可動サポートの応用 - 特許庁

METHOD OF WASHING SURFACE BY REMOVING PARTICLE THEREFROM, WASHING APPARATUS, AND LITHOGRAPHY PROJECTION APPARATUS例文帳に追加

表面から粒子を除去して洗浄する方法、洗浄装置およびリソグラフィ投影装置 - 特許庁

To make the effective control of optical performance of oil immersion lithography projection system possible.例文帳に追加

液浸リソグラフィ投影システムの光学性能を効果的に制御可能にする。 - 特許庁

COMBINATION OF STRUCTURE AND TWO OR MORE ACTIVE DAMPING SYSTEMS, LITHOGRAPHY DEVICE, AND PROJECTION ASSEMBLY例文帳に追加

構造物と２以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ - 特許庁

LITHOGRAPHY PROJECTION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィ投影装置及びそのようなリソグラフィ投影装置を使用したデバイス製造方法 - 特許庁

A lithography apparatus comprises illumination system, a patterning device PD and a projection system.例文帳に追加

露光装置は放射系と、パターニング用デバイスＰＤと、投影系と、を備える。 - 特許庁

ELECTRONIC BEAM FOCUSING DEVICE AND ELECTRONIC BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM ADOPTING THE SAME例文帳に追加

電子ビームフォーカシング装置およびこれを採用した電子ビームプロジェクションリソグラフィシステム - 特許庁

METHOD OF CORRECTING LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND THE OBJECTIVE例文帳に追加

リソグラフィ投影対物レンズの補正方法およびリソグラフィ投影対物レンズ - 特許庁

To provide an improved Abbe arm correction system for a lithography projection system.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置のための、アッベ・アームの較正を改良したシステムを提供すること。 - 特許庁

OFF-AXIS PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXTREME ULTRA VIOLET LITHOGRAPHY EQUIPMENT THAT EMPLOYS THE SAME例文帳に追加

非軸上プロジェクション光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置 - 特許庁

To provide an improved method to structure a projection system for a lithography apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置の投影システムを構成する改良された方法を提供すること。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus for EUV lithography has a foil trap.例文帳に追加

本発明は、フォイル・トラップを有する、ＥＵＶリソグラフィのためのリソグラフィ投影装置である。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus having projection beams of uniform intensity, and to provide a method for manufacturing a device.例文帳に追加

一様な強度の投影ビームを有するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method for correcting phase variations in optical projection lithography.例文帳に追加

光投影リソグラフィにおける位相変動を補正する改良された方法を提供する。 - 特許庁

EUV LITHOGRAPHY REFLECTION DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, EUV LITHOGRAPHY MASK APPLYING THE SAME, PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND LITHOGRAPHY APPARATUS例文帳に追加

超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス及びその製造方法、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置 - 特許庁

MARKER STRUCTURE FOR LITHOGRAPHY, LITHOGRAPHIC PROJECTION DEVICE PROVIDED WITH SUCH MARKER STRUCTURE FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD OF ALIGNING SUBSTRATE USING SUCH MARKER STRUCTURE FOR LITHOGRAPHY例文帳に追加

リソグラフィ用マーカ構造、このようなリソグラフィ用マーカ構造を備えるリソグラフィ投影機器およびこのようなリソグラフィ用マーカ構造を使用して基板を位置合わせする方法 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of conducting both charged particle beam lithography by a character projection method for drawing one or more patterns of many patterns arranged in an aperture, and a charged particle beam lithography by a variable shaped beam method.例文帳に追加

アパーチャに多数配置されたパターンの一つから複数のパターンを描画する一括描画方式での荷電粒子ビーム描画と、可変成形ビーム描画方式による荷電粒子ビーム描画との両方を行う。 - 特許庁

SILICA GLASS OPTICAL MATERIAL FOR PROJECTION LENS AND PROJECTION LENS USED IN VACUUM ULTRAVIOLET RAY LITHOGRAPHY例文帳に追加

真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料および投影レンズ - 特許庁

The lithography projection apparatus, whose liquid supplying system supplies a dipping liquid between the last element of the projection apparatus and a substrate, is disclosed.例文帳に追加

液体供給システムが投射装置の最後の要素と基板との間に浸漬液を供給する、リソグラフィ投射装置が開示される。 - 特許庁

METHOD OF ADJUSTING HEIGHT OF PROJECTION ON SUPPORTING SURFACE OF SUPPORTING TABLE, LITHOGRAPHY PROJECTION APPARATUS, AND TABLE SUPPORTING ITEM INSIDE APPARATUS例文帳に追加

支持テーブルの支持表面上の突起の高さを調節する方法、リソグラフィ投影装置、およびリソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブル - 特許庁

To more accurately measure wave aberration of a projection optical system in a projection lithography having an interferometer mounted.例文帳に追加

干渉計を搭載した投影露光装置において、投影光学系の波面収差をより高精度に計測すること。 - 特許庁

To provide an illumination optical system, an illumination system, and a projection exposure system for projection lithography that arrange a body visual field of an imaging optical system.例文帳に追加

結像光学系の物体視野を配置することができる投影リソグラフィ用の照明光学系、照明系、投影露光系、を提供する。 - 特許庁