「projection lithography」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The sealing coating is used for providing the substrate which is used for the lithography projection device for reducing a risk of contaminating one or more components of immersion liquid and a lithography device, and a device manufacturing method.例文帳に追加

この密封コーティングにより、液浸液及びリソグラフィ装置の１つ又は複数のコンポーネントの汚染の危険を軽減するリソグラフィ投影装置に使用する基板、およびデバイス製造方法を提供することが出来る。 - 特許庁

A final element 50 in a projection system that is a parallel plate used for sealing a projection system PL against an immersion liquid 10 in immersion lithography changes an incidence angle of projection beams when the final element inclines to the optical axis of the device.例文帳に追加

液浸リソグラフィで投影系ＰＬを浸液１０から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素５０が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。 - 特許庁

A lithography projection apparatus includes an illumination system having a reflection type integrator with rectangular cross section.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、長方形の断面を持つ反射型インテグレータを有する照明装置を含む。 - 特許庁

To provide an improved mask used for ion beam and/or projection electron beam lithography.例文帳に追加

イオン・ビームおよび／または投影電子ビーム・リソグラフィに使用する改良されたマスクを提供する。 - 特許庁

Further, this is concerned with an electron optics lithography, which is applicable to even the projection and electron-beam writing method.例文帳に追加

さらに、本発明は投射リソグラフィーにも電子線書き込み方法にも適用可能な電子光学的リソグラフィーシステムに関する。 - 特許庁

To enhance the accuracy of focusing in electron beam lithography by reducing the effect of chromatic aberration of a projection lens system.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーで、投影レンズ系の色収差の影響を減らしてフォーカシングの精度を高める。 - 特許庁

A lithography apparatus includes a projection system, a fluid handling structure, a metrology device, and a recycle control device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は投影システム、流体取扱い構造、メトロロジーデバイス、及びリサイクル制御デバイスを含む。 - 特許庁

A lithography projection apparatus includes a collision protection apparatus for protecting internal components against damages from collision.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、衝突からの損傷に対して内部部品を保護する衝突保護装置を備える。 - 特許庁

In a lithography projection system, for example, for ultraviolet light of wavelength of 13 nm is generated by an undulater 10 of an electron storage ring.例文帳に追加

リソグラフ投影装置において、例えば波長１３ｎｍの超紫外放射光が電子貯蔵リングのアンジュレータ１０によって発生される。 - 特許庁

The lithography apparatus includes an illumination system IL, a support, a substrate table, a projection system PS, and a detector 14.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、照明系ＩＬと支持体と基板テーブルと投影系ＰＳと検出器１４とを含む。 - 特許庁

A lithography projection equipment 1 includes a supporting structure MT which is constituted so that it might hold the pattern forming means (for instance, a reticle).例文帳に追加

リソグラフィ投影装置１は、パターン形成手段（例えばレチクル）を保持するように構成された支持構造ＭＴを含む。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method capable of effectively masking a part of a mask of a lithography projection apparatus during scanning and a static exposure.例文帳に追加

走査中及び静止露光中に、リソグラフィ投影装置のマスクの一部を効果的にマスキングし得る装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

A lithography device comprises an array of individually controllable elements that modulates a beam of radiation, and a projection system that projects the modulated beam onto the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する個別制御可能な要素のアレイと、調整されたビームを基板に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithography system in which the space between a projection lens and a wafer table can be filled with water quickly.例文帳に追加

投影レンズとウエハテーブルとの間の水満たしを速やかに行なうことができる液浸リソグラフィーシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a lithography projection apparatus which is constructed so as to project patterns from a patterning device to a substrate.例文帳に追加

パターニングデバイスから基板へとパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To improve the lithography performance of an apparatus having a liquid that fills the space between a final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填する液体を有する装置の描画性能を向上させること。 - 特許庁

To provide an electron projection lithography method which appropriately corrects variations in the optimum dose caused by the proximity effect and has improved line width control.例文帳に追加

近接効果による最適ドーズ量の変動を適切に補正して、線幅制御性を向上させた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography device and a device manufacturing method for improving a critical size profile in a projection pattern.例文帳に追加

投影パターンにおける臨界寸法プロファイルを改善するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

A lithography projector uses the volume of a second liquid for locking a first liquid to the space between the projection system and the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、投影システムと基板の間のスペースに第１の液体を閉じ込めるために第２の液体の体積を使用する。 - 特許庁

FILTER WINDOW, LITHOGRAPHY PROJECTION APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING FILTER WINDOW, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

フィルタ・ウィンドウ、リソグラフ投影装置、フィルタ・ウィンドウの製造方法、デバイスの製造方法、及びそれらによって製造されたデバイス - 特許庁

In the immersion-type lithography apparatus, an immersion liquid is confined between a final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

投射系の最終要素と基板の間に浸漬液を閉じ込めた浸漬式リソグラフィ投射装置を開示する。 - 特許庁

SUPPORTING APPARATUS, LITHOGRAPHY PROJECTION EQUIPMENT, METHOD FOR MANUFACTURING APPARATUS USING SUPPORTING APPARATUS, AND POSITION CONTROLLING SYSTEM CONSTRUCTED TO BE USED IN SUPPORTING APPARATUS例文帳に追加

支持器具、リソグラフィ投影装置および支持器具を使用した器具製造方法および支持器具内で使用するよう配置構成された位置制御システム - 特許庁

To provide a method which can economically manufacture a circuit unique to a user and an electron-beam projection lithography system.例文帳に追加

顧客特有の回路を少量でも経済的に製造することのできる方法および電子線投射リソグラフィーシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a lithography device for controlling in high precision the position of a substrate table by referring to the position of a projection lens.例文帳に追加

投影レンズの位置を参照することにより、基板テーブルの位置を高精度に制御するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection objective lens which is suitable for immersion lithography and whose imaging quality is stable even in the event of prolonged contact being made with immersion liquid.例文帳に追加

液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。 - 特許庁

To provide an improved cooling arrangement for an optical element in a vacuum optical system such as a projection system of an extreme ultraviolet (EUV) lithography apparatus.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ装置の投影システムといった真空光学システム内の光学要素のための向上された冷却配置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography projection apparatus and a device manufacturing method capable of compensating for or improving the effect of a thick pellicle.例文帳に追加

厚いペリクルの効果が補償され又は改善されることができる、リソグラフ投影装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce non-operating time in the maintenance work of a lithography projection equipment, particularly due to purge/gas supply shutdown.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置の保守作業に、特にパージ・ガス供給停止に伴う非稼働時間を低減する。 - 特許庁

A lithography apparatus comprises an illumination system, patterning means, a substrate table, a projection system, a detector, and a controller.例文帳に追加

照射システムと、パターン化手段と、基板テーブルと、投影システムと、検出器と、制御器とから構成される。 - 特許庁

The charged-particle beam lithography apparatus images a pattern on a substrate with the projected charged-particle beam through a projection system.例文帳に追加

本発明は、荷電粒子線を用いて投影系を介して基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置である。 - 特許庁

To provide a method of detecting aberrations in a projection lens used in an optical lithography system.例文帳に追加

光学リソグラフィ・システムで利用される投影レンズに関連する収差を検出する方法を提供すること。 - 特許庁

To disclose a lithography projector in which a space between the final element of a projection system and a substrate is filled with liquid.例文帳に追加

投影システムの最終要素と基板間の空間を液体で充填するリソグラフィ投影装置を開示する。 - 特許庁

The projection objective for lithography includes an optical arrangement 12 of optical elements between an object plane O and an image plane B.例文帳に追加

リソグラフィ用投影対物レンズは、物体平面Ｏと像平面Ｂとの間に光学素子の光学的構成１２を備える。 - 特許庁

A reflection mask is attached on an adaptable film on a mask table in lithography projection equipment.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置内で、反射タイプ・マスクがマスク・テーブル上の順応性膜に取り付けられている。 - 特許庁

The lithography apparatus comprises: an illumination system IL for providing a projection beam of radiation PB; and a support structure MT for supporting a patterning means MA.例文帳に追加

放射の投影ビームＰＢを提供するための照明装置ＩＬと、パターン形成手段ＭＡを支持するための支持構造体ＭＴとを有する。 - 特許庁

To provide a refractive projection objective lens which is suitable for immersion lithography and has satisfactory correction conditions for the lateral chromatic aberration.例文帳に追加

液浸リソグラフィ−に適するとともに、横色収差に関して良好な補正状態を有する屈折性投影対物レンズを提供する。 - 特許庁

To provide a projection objective which is suitable for immersion lithography and whose imaging quality is stable even in the event of prolonged contact being made with immersion liquid.例文帳に追加

液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。 - 特許庁

To provide a lithography projection apparatus having an exposure device and a measurement device the accuracy and the device manufacturing method of which have been improved.例文帳に追加

精度およびデバイス製造方法を改善した、露光装置と測定装置とを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a supporting apparatus which supports a component to be supported preventing a supporting component from vibrating in a lithography projection equipment.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置内で、支持部品に対して振動を防止して被支持部品を支持する支持器具を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposing a resist layer of a substrate to a mask pattern image, and provide a lithography projection apparatus.例文帳に追加

基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning gas system for reducing supplying volume for cleaning gas, in a lithography projection system.例文帳に追加

リソグラフ投影装置において洗浄ガスの供給容積を減少させるための洗浄ガスシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus comprising an illumination system, a patterning system, a projection system, and a combining system.例文帳に追加

照明システムと、パターン形成システムと、投影システムと、組合せシステムとを備えるリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide lithography equipment capable of reducing alignment errors due to misalignment in a projection system and the other portion.例文帳に追加

投影システムとその他の部分のミスアライメントから生じるアライメントエラーを低減できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method to measure the properties of the projection lens of a lithography apparatus such as a numerical aperture and telecentric property.例文帳に追加

リソグラフィ機器の投影レンズ開口数及びテレセントリック性等の特性を測定する方法の提供。 - 特許庁

To provide a servo control method and device with which the positioning error relating to vibration in a lithography projection device can be reduced.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置における振動関連の位置決めの誤差を減らすサーボ制御方法および装置を提供する。 - 特許庁