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remove formの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 305件
Whenever after the expiry of the said period of one month such fees have not been paid, the Registrar may remove the mark from the register as of the date of the expiration of the last registration, but may upon payment of the renewal fee upon Form TM5, together with the additional fee, restore the mark to the register if satisfied that it is just so to do and upon such conditions as he may think fit to impose.例文帳に追加
前記1月の期間の満了後,当該手数料が納付されない場合は,登録官は,最終登録の満了日に当該標章を登録簿から抹消することができるが,追加手数料と共に更新手数料が様式TM5により納付されたときは,そのようにすることが公正であると判断される場合は,課することが適切であると考える条件に基づいて,当該標章を登録簿に回復することができる。 - 特許庁
The cleaner may include a surrounding cover designed to form a storage capacity surrounding at least the radiating condenser, an inlet configured to supply at least one of cleaning gas and a cleaning solution to the storage capacity to clean at least the radiating condenser, and an outlet configured to remove at least one of the cleaning gas and the cleaning solution from the storage capacity.例文帳に追加
このクリーニング装置は例えば、少なくとも放射集光器の周囲を包囲する収容容積を形成するよう設計されている包囲カバーと、少なくとも放射集光器をクリーニングすべくクリーニングガス及びクリーニング液の少なくとも一方を収容容積に供給するよう構成されているインレットと、クリーニングガス及びクリーニング液の少なくとも一方を収容容積から取り除くよう構成されているアウトレットと、を備えてもよい。 - 特許庁
The method of producing a porous film composed mainly of silica includes: a process to apply and dry on a substrate a sol reactive liquid containing organic matter, silica precursor materials, alcohol, catalyst made of acid or base, and water; a process to calcine the substrate, remove the organic matter and form a silica porous film on the substrate; and a process to perform UV ozone treatment to the silica porous film.例文帳に追加
シリカを主成分とする多孔質膜の製造方法であって、有機物、シリカ前駆体物質、アルコール、酸又は塩基からなる触媒、及び水を含有するゾル反応液を基材上に塗布して乾燥させる工程、前記基材を焼成して前記有機物を除去して基材上にシリカ多孔質膜を形成する工程、前記シリカ多孔質膜に対してUVオゾン処理を行う工程を有する多孔質膜の製造方法。 - 特許庁
The method of forming the conductive pattern includes: a coating step to apply paste containing AlN powder, glass frit and a solvent on a substrate; a drying step to dry the paste applied and to form a dry coating film; a laser drawing step to draw conductive patterns on the dry coating film by irradiation of laser beams; and a development step to remove unirradiated part of laser light out of the dry coating film by using a developer.例文帳に追加
本発明の導電パターン形成方法によれば、AlN粉末、ガラスフリット及び溶剤を含むペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー光の照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー描画工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザー光の未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする - 特許庁
A plate-shaped or bottomed cylindrical blank in drawn by a punch 2 and dies 1 to form a bottomed cylinder (work W) having a prescribed shape, the work W is moved in the outer side direction of the dies 1 together with the punch 2, and in order to remove the punch 2 inside the work W, a pressurized gas of 90-600 KPa is supplied into the work W.例文帳に追加
パンチ2とダイ1とで平板状または有底筒状のブランクを絞り加工して所定形状の有底筒体(ワークW)に形成し、そのワークWをパンチ2とともにダイ1の外側方向へ移動し、そのワークW内のパンチ2を離脱すべく、ワークWに対して相対移動を開始する時期から離脱するまでの間に、90〜600KPaの圧力気体をワークW内に供給して、ワークWからパンチ2を離脱させるようにした絞り加工方法である。 - 特許庁
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