「remove form」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for cleaning the electronic component comprises a step to remove the polymer produced at a step to form micropores 7 by bringing the electronic component into contact with the polymer removing liquid and a step to remove the polymer removing liquid remaining inside the micropores by bringing the electronic component, which is heated to a prescribed temperature, into contact with a treating liquid having the boiling point lower than the prescribed temperature of the electronic component.例文帳に追加

本発明による電子部品の洗浄方法は、電子部品をポリマー除去液に接触させることにより微細孔７の形成工程で生成されたポリマーを除去する工程と、所定の温度に加熱された電子部品をその温度より沸点の低い処理液に接触させることにより微細孔内に残留したポリマー除去液を除去する工程よりなる。 - 特許庁

To form a moisture cutoff layer by hardening a moisture setting composition around the periphery of a moisture cutoff sheet in a hermetic structure for mounting the sheet on the surface of the composition stored in a container, and also to easily remove the hardened composition.例文帳に追加

容器に収容した湿気硬化型組成物の表面に湿気遮断シートを載置する密封構造において、シートの周縁部で組成物を硬化させて湿気遮断層を形成させると共に硬化した組成物を容易に除去できるようにする。 - 特許庁

The claws 2 have a form that they can be fitted to joint sections 14 on the unconnected sides of diaphragm wall sections 13, made of steel precedingly inserted into the soil improvement body 12 of soil cement, and remove solidified bodies in the joint sections 14 or at the peripheries of the joint sections 14.例文帳に追加

爪２は、ソイルセメントの地盤改良体12中に先行して挿入されている鋼製連壁部材13の未接続側の継手部14に嵌合し得る形状をし、継手部14内、もしくは継手部14周辺の固結体を除去する。 - 特許庁

To provide a remover which can remove an electrode material adhering to a collector of an electrode included in a secondary battery more efficiently and in form that is easier to reuse; and to provide a method and apparatus of processing the secondary battery using the remover.例文帳に追加

二次電池が備える電極の集電体に付着している電極材をより効率よく、且つ、より再利用し易い形態で剥離し得る剥離剤、並びに当該剥離剤を用いた二次電池処理方法及び処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can form via holes, a wiring groove or the like by etching a layer insulation film or the like, while restraining enlargement of a pattern size of a hard mask and can properly remove the used hard mask.例文帳に追加

ハードマスクのパターン寸法の拡大を抑制しつつ層間絶縁膜等をエッチングしてビアホールや配線溝等を形成することができ、また、用いたハードマスクを十分に除去することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a motor controller which can reduce the number of parts, minimize circuit size, and moreover change between a linear amplification control and RWM (Power Width Modulation) control which can remove effect of the wave form noise between phases when it is applied to a three phase motor.例文帳に追加

部品点数の削減、回路の小形化ができ、また３相電動機に適用する場合、相間の波形ノイズの影響をなくすることができるリニア増幅制御とＰＷＭ制御との間の切換え可能な電動機制御装置を提供する。 - 特許庁

An exhaust gas is caused to flow through an adsorber 1 packed with carbonaceous material to form a moving bed to perform solid-liquid contact of the carbonaceous material and the exhaust gas and to remove nitrogen oxides and other harmful materials contained in the exhaust gas.例文帳に追加

内部に炭素質材を充填して移動層を形成した吸着塔１に排ガスを流通させて、炭素質材と排ガスとの固気接触を行い、排ガス中に含まれる窒素酸化物及びその他の有害物質を除去する。 - 特許庁

A used grinding stone is crushed after removing additional articles to form porous particles which are washed to remove impurities and a chemical is impregnated into the washed particles which are dried to obtain the particles including the chemical in the pores in a dried state.例文帳に追加

使用済み研削砥石を付設物を除去して破砕することにより多孔粒子を作り、これを洗浄し不純物を除去したものに薬品を含浸させて乾燥し、気孔に薬品が乾燥状態で含有されているものとする。 - 特許庁

To properly remove a white layer by shot-peening while suppressing chipping of rolling teeth in a method for manufacturing a form rolling die in which nitriding treatment is executed in order to achieve surface hardening after heat treatment so that the hardness becomes 50 HRC or more.例文帳に追加

硬さが５０ＨＲＣ以上となるように熱処理を行なった後に窒化処理を施して表面硬化させる転造ダイスの製造方法において、転造加工歯の欠損を抑制しつつショットピーニングで白層を適切に除去できるようにする。 - 特許庁

Provided that the Registrar shall not remove the trade mark from the register if an application for payment of surcharge is made under proviso to sub-section (3) of section 25 in Form TM-10 within six months from the expiration of the last registration of the trade mark.例文帳に追加

ただし，割増手数料納付の申請が当該商標の最後の登録期間の満了から6月以内に様式TM-10により第25条 (3)ただし書に基づいてなされたときは，登録官は登録簿から当該商標を抹消しないものとする。 - 特許庁

A treatment gas is supplied to the inside of a reaction tube 2 of a heat treatment device 1 to form a silicon nitride film on a semiconductor wafer, and a cleaning gas is supplied to the inside of the reaction tube 2 to remove a silicon nitride attached to the inside of the heat treatment device 1.例文帳に追加

熱処理装置１の反応管２内に処理ガスを供給して半導体ウエハ上にシリコン窒化膜を成膜した後、反応管２内にクリーニングガスを供給して熱処理装置１の内部に付着した窒化珪素を除去する。 - 特許庁

A film forming gas is supplied to the inside of a reaction tube 2 of a heat treatment device 1 to form a silicon nitride film on a semiconductor wafer, and a cleaning gas is supplied to the inside of the reaction tube 2 to remove a silicon nitride attached to the inside of the heat treatment device 1.例文帳に追加

熱処理装置１の反応管２内に成膜用ガスを供給して半導体ウエハ上にシリコン窒化膜を成膜した後、反応管２内にクリーニングガスを供給して熱処理装置１の内部に付着した窒化珪素を除去する。 - 特許庁

The hollow punch 40 is relatively moved to the die 35, inserted in the opening 35a through the material to be machined, and passes through the material to be machined to form the hole and at the same time to remove the burr generated at the edge of the hole by the groove 41.例文帳に追加

穴開けパンチ４０は、ダイ３５に対して相対的に移動されて被加工材を介して開口部３５ａに挿入され、被加工材を貫通して穴を形成するとともに、溝４１により穴の縁部に発生するばりを除去する。 - 特許庁

The exhaust gas treating device concerning the third form is characterized by being equipped with a dust collector exhausted gas treating device 21 for causing the exhausted gas to pass through an exhaust passage guiding the exhausted gas so as to decompose and remove harmful substances.例文帳に追加

第３の態様に係る燃焼排ガス処理装置は、排出されるガスを誘導する排気路に、該排出ガスを通過させて、有害物質を分解除去するための集塵装置排出ガス処理装置２１を具備することを特徴とする。 - 特許庁

Thereby the metal constituting the metal layer 15 reacts with the carbon (C) constituting the carbon layer 14 and silicon (Si) or the carbon constituting an n^+ type substrate 1, etc. to form the ohmic electrode 5, so that there is no necessity to remove the carbon layer 14.例文帳に追加

これにより、金属層１５を構成する金属がカーボン層１４を構成する炭素（Ｃ）やｎ^+型基板１を構成するシリコン（Ｓｉ）または炭素と反応してオーミック電極５が形成されるため、カーボン層１４を除去する必要がない。 - 特許庁

A CCD is used as an X-ray sensor 9 and an X-ray permeation image continuously photographed by the X-ray sensor 9 is subjected to integral processing in an operational processing part 24 to remove noise to form a synthetic image to display the same on a display part 25.例文帳に追加

Ｘ線センサ９としてＣＣＤを使用し、Ｘ線センサ９で連続して撮像したＸ線透過画像を演算処理部２４で積分処理してノイズを除去して連続した合成画像を形成して表示部２５に表示する。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing a multi-layered resist structure substrate and a T type dummy gate structure substrate, which can form a coated oxide film layer of a uniform thickness, can easily remove a resist layer and can prevent reduction in mechanical strength of the substrate.例文帳に追加

塗布酸化膜層の厚みが均一であり、かつ、レジスト層の除去が容易であり、さらに、基板の機械的強度の低下を生じることのない多層レジスト構造基板およびＴ型ダミーゲート構造基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When an oxide film pattern is used as an etching mask to form a metal film pattern, the oxide film pattern is formed and then, the cleaning liquid is used to remove the etching by-product layers around the oxide film pattern before dry-etching the metal film.例文帳に追加

金属膜パターンを形成するために、酸化膜パターンをエッチングマスクとして利用する場合には、酸化膜パターンを形成した後、金属膜を乾式エッチングする前に該洗浄液を使用して酸化膜パターン周囲のエッチング副産物層を除去できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the high-purity metals having purity above 4N5 (99.995 wt.%) constituted by mixing the electrodeposited metals manufactured by using the hydrochloric acid-base bath and the electrodeposited metals manufactured by using the sulfuric acid-base bath and subjecting the mixture to vacuum to remove a gaseous component and to form an ingot.例文帳に追加

塩酸系浴を用いて製造した電析金属と硫酸系浴を用いて製造した電析金属とを混合し、これを真空溶解してインゴットとするガス成分を除き４Ｎ５（９９．９９５ｗｔ％）以上の純度を有する高純度金属の製造方法。 - 特許庁

The resist layer laminated on a workpiece and made of the heat mode type recording material is irradiated with laser light to form a plurality of latent image parts, the workpiece is etched using the resist layer with the latent image parts formed as a mask to remove the latent image parts and a part of the workpiece under the latent image parts to form a plurality of recessed parts in a surface of the workpiece.例文帳に追加

被加工物上に積層されたヒートモード型の記録材料で構成されたレジスト層にレーザ光を照射して複数の潜像部を形成し、潜像部が形成されたレジスト層をマスクとして被加工物をエッチングして、潜像部及び潜像部の下方に在る被加工物の一部を除去して、被加工物の表面に複数の凹部を形成する。 - 特許庁

The objective method for the production of a formed deoxyribonucleic acid containing a transduced aromatic compound comprises (1) a step to mix a deoxyribonucleic acid with an aromatic compound in a polar solvent without generating precipitate, (2) a step to remove the polar solvent and obtain a solid component and (3) a step to form the solid component to a desired form.例文帳に追加

（１）デオキシリボ核酸と芳香族化合物とを極性溶媒中で沈殿を生成させることなく混合する工程と、（２）前記極性溶媒を除去して固形分を得る工程と、（３）前記固形分を所望の形状に成型する工程と、を有することを特徴とする、芳香族化合物が導入されたデオキシリボ核酸成型体の製造方法。 - 特許庁

The above method comprises a first step to form a diffusion layer on a crystalline silicon substrate whose conductivity type is opposite to that of the diffusion layer, a second step to remove a part of the diffusion layer by etching using sodium silicate (Na_2SiO_3), and a third step to form a first electrode electrically connected to the diffusion layer and a second electrode electrically connected to the substrate.例文帳に追加

結晶系シリコン基板に逆導電型層となる拡散層を形成するステップと、この拡散層の一部を珪酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳｉＯ_３）でエッチング除去するステップと、この拡散層と電気的に接続する第１の電極及び前記基板と電気的に接続する第２の電極を形成するステップとを備える。 - 特許庁

Thus, oxidation of iron powder surfaces is promoted when adsorbing arsenic to oxidize arsenic present in the water A to be treated in a form of trivalent arsenous acid ions to a form of pentavalent arsenic acid ions in advance, to promote adsorption of arsenic to iron oxide or hydroxide produced on the surfaces of iron powder, and to efficiently remove arsenic.例文帳に追加

これにより、ヒ素吸着時において、鉄粉表面の酸化が促進されるとともに、被処理水Ａ中に３価の亜ヒ酸イオンの形態で存在していたヒ素が前もって５価のヒ酸イオンの形態に酸化されているので、鉄粉表面に生成した鉄の酸化物や水酸化物へのヒ素の吸着が促進され、ヒ素が効率的に除去できる。 - 特許庁

In a state where a hole forming material 5 is mixed into main materials 2 and auxiliary materials 3 constituting the acoustic matching member 1, they are pressurized to connect the main materials 2 each other to remove the hole forming material 5 to form the acoustic matching member 1.例文帳に追加

音響整合部材１を構成する主材料２と補助材料３に空孔形成材５を混合した状態で、加圧して前記主材料２どうしを結合し、空孔形成材５を除去することによって音響整合部材１を形成する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device, designed to form multi-layers containing at least one active layer on the front side of a substrate composed of a semiconductor material, thereafter, at least partially remove the substrate thus formed, and then join the multi-layers to a hetero-substrate.例文帳に追加

少なくとも１つの活性層を含んでいる多重層を半導体材料から成る基板の表側上に形成した後、この基板を少なくとも部分的に除去し、その後多重層をヘテロ基板と接合するようにした光放射デバイスを提供する。 - 特許庁

To obtain a laser beam machine with which, when a double-side substrate has the top and bottom layers composed of copper foil, and a laser beam is used to remove an inner-layer resin without removing the bottom-layer copper foil to thereby form a blind hole, the chance of such a failure that the bottom-layer copper foil suffers penetration is reduced.例文帳に追加

上層および下層に銅箔を有した両面基板において、レーザ光により下層銅箔を残し内層の樹脂を除去し止まり穴を作成する際に、下層銅箔が貫通する不具合を減少させることが可能なレーザ加工機を得る。 - 特許庁

Metal silicon as the raw material is pulverized into ≤1 mm, is thereafter dispersed into an acid aqueous solution or a basic aqueous solution to form a slurry shape, and is subjected to leaching treatment at a leaching temperature of ≥100°C under the pressurization of ≥1 atom to remove impurities.例文帳に追加

原料の金属シリコンを１ｍｍ以下に粉砕した後、酸性水溶液又は塩基性水溶液に分散させてスラリー状とし、浸出温度を１００℃以上、１ｔｏｍ以上の加圧下において浸出処理を行うことにより不純物を除去する。 - 特許庁

A method for operating such a power plant comprises steps for making a fuel stream pass through the inert gas isolation unit 74 to remove N2 from the fuel stream forming a concentrated stream, and then combusting the concentrated stream together with an oxidant stream to form a combustion stream.例文帳に追加

発電装置を作動させる方法は、燃料流を不活性ガス隔離ユニット７４に通して燃料流からＮ２を除去すると共に濃縮流を形成し、この濃縮流と酸化剤７８流を燃焼させて燃焼流を形成することからなる。 - 特許庁

A silicon oxidation film 7 is deposited on only the side of a silicon nitriding film 6 of a peripheral area, a first gate material 5 and a gate oxidation film 4, and next the silicon oxidation films 6, 7 form a trench 9 as a mask to remove the silicon oxidation film 7.例文帳に追加

周辺領域のシリコン窒化膜６、第１のゲート材５、ゲート酸化膜４の側面上のみにシリコン酸化膜７を堆積し、次いでこのシリコン酸化膜７及びシリコン窒化膜６をマスクとしてトレンチ９を形成し、シリコン酸化膜７を除去する。 - 特許庁

To overcome the problems that a conventional form causes many voids to remain in a concrete surface because redundant water and air in concrete are hard to remove, imposes a heavy burden on a worker due to the possession of relatively great weight, and causes the peeling of a finishing paint, the slip-off of a tile and the like.例文帳に追加

従来の型枠では、コンクリート中の余剰水や空気などが抜け難いため、コンクリート表面にボイドが多数残り、また、比較的重量があるために作業者への負担が大きく、更に仕上げ塗料の剥離やタイルの滑落などを引き起こす。 - 特許庁

The plating method comprises: a deaeration stage where a plating liquid is deaerated in a pressure-reduced atmosphere so as to remove gas components dissolved in the plating liquid; and a plating stage where a substrate is dipped into the plating liquid obtained by the aeration stage so as to form a plating layer on the surface of the substrate.例文帳に追加

めっき液を減圧雰囲気下で脱気して該めっき液に溶解していたガス成分を除去する脱気工程と、前記脱気工程により得られためっき液に基板を浸漬して該基板の表面にめっき層を形成するめっき工程とを有する。 - 特許庁

To provide a composition in the form of a chewing gum composition or a confectionery composition containing stain removing agent selected from anionic and non-ionic surfactants and methods of using the same to remove stains from dental material including teeth.例文帳に追加

アニオン性及び非イオン性界面活性剤から選択される汚れ除去剤を含有するチューインガム組成物又は糖菓組成物の形態にある組成物、及び歯を包含する歯科的材料から汚れを除去するためにそれを使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electric-bulb form fluorescent lamp which is separable, without breaking the globe or the cover, and which is designed to be separated efficiently such that general consumers will not easily remove them.例文帳に追加

本発明は上記課題を解決ないしは低減するために、一般消費者の取り外しは容易にすることなくグローブおよびカバー体を破損せずに分離可能として、分離作業の効率改善を図った電球形蛍光ランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

To easily form a PZT thin film of high quality having specified film thickness by forming layers of a PZT precursor soln. diluted with butoxyethanol for several times to specified thickness by solgel method, heat treating the layers to remove the solvent and then pyrolyzing to crystallize them.例文帳に追加

ゾル−ゲル法に基づくマルチコーティングプロセスを用いる強誘電性の膜の形成方法、特にアルコキシド型の液体ＰＺＴ前駆体溶液、特にＰｂ（Ｚｒ_XＴｉ_1-X）Ｏ_3前駆体溶液の高品質のＰＺＴ薄膜の製造方法を開示する。 - 特許庁

A part of the filtered water from the filtering device of the precoat type preliminary filter 15 is mixed with a filtering aid to form a slurry, and the preliminary filter is backwashed to remove a cake film by introducing the part of the filtered water from the preliminary filter or the part of the filtered water and pressurized air.例文帳に追加

プレコート式予備濾過器１５の濾過装置の濾過水の一部は濾過助剤と混合してスラリーを形成し、且つ、該予備濾過器の濾過水の一部又は該濾過水の一部と加圧空気の導入により該予備濾過器を逆洗にかけてケーク膜除去する。 - 特許庁

First, a raw stone (base rock material) is cracked roughly into round slices to prepare the preform for the lithic core, after which the raw material is processed to form a lithic core, which is then struck consistently from the same direction to remove all same-sized vertical lithic flakes from the core. 例文帳に追加

まず、原石（母岩石材）を輪切り状に大きく荒割りして打面を準備し、石核の素材をつくり出したのちに調整加工を加えて石核を作り、これを連続的に同一方向から加撃してほぼ同じ大きさの縦長剥片を打ちはがしていく。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This method for forming a protective film consisting of MgO, is provided by applying a solution containing a metal-organic compound: Mg(OCH2CH2OCH3)2 which is a MgO precursor, to form a solution film, heating the film in the atmosphere to remove the most part of the organic component.例文帳に追加

MgO 前駆体である金属−有機化合物Mg(OCH_2CH_2OCH_3)_2を含む溶液を塗布することによって前面板内面上に形成された溶液膜を、大気中で加熱することにより、溶液中の有機成分が除去されてMgO から成る保護膜が形成される。 - 特許庁

A low-frequency component is extracted from an input image to generate a low-frequency component image (S201), and each pixel of the input image is converted so as to remove a peripheral color based on the low-frequency component image to thereby form a converted image (S202).例文帳に追加

入力画像から低周波成分を抽出して低周波成分画像を生成し（Ｓ２０１）、入力画像について、その画素ごとに低周波成分画像に基づく周辺色を除去するように変換した変換後画像を作成する（Ｓ２０２）。 - 特許庁

Therefore, the method does not includes phases to form a sacrifice layer and remove it in the manufacture process, the manufacture process is simple, it is possible to make air-gaps which have limitless selection in answer to frequencies, and the process can offer FBAR whose performance is improved.例文帳に追加

よって、製造工程上犠牲層を形成及び除去する段階を含まないので製造工程が単純であり、周波数に応じて無限の選択肢を有するエアーギャップを形成できるので性能が向上されたＦＢＡＲを提供することができる。 - 特許庁

To provide a chemical loop combustion method power generation plant system without polluting the surroundings which can remove a metal oxide and the minute particle of a reduced form of the metal oxide from a gas and reduce the amount of the minute particle discharged to the atmosphere along with an exhaust gas.例文帳に追加

金属酸化物と金属酸化物の還元体の微粒子を、ガスから除去し、もって排ガスとともに大気中に放出される微粒子の量を減少させて、環境を汚染することのない化学ループ燃焼方式発電プラントシステムを提供すること。 - 特許庁

To reinforce a frame-work itself without having to cover opening portions with additional walls while leaving existing wooden columns and beams intact, to freely remove an earthquake resisting wall, or to form a wide living space not intruded by the earthquake resisting wall in a simple way.例文帳に追加

木造の柱，梁はそのままとしながら、開口部分を更なる壁でふさぐことなしに骨組み自体の補強が出来、もっと自由に耐震壁の撤去、或いは耐震壁で邪魔とされない広い住空間が可能となるような手軽な方法での補強方法を提供する。 - 特許庁

In the coating film forming method for spreading and fixing a coating liquid on a substrate to form the coating film, a sheet-like material is brought into contact with the coating surface during or after spreading the coating liquid to remove at least a part of the coating liquid on the substrate to eliminate the flowability.例文帳に追加

基板に塗布液を伸展及び固定し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、塗布液の伸展中又は伸展後に塗布面にシート状の物体を接触させ、前記塗布液から少なくとも一部を除去してその流動性を失わせることを特徴とする。 - 特許庁

To remove the adverse effects of displacement between image reference positions specified in advance and color image information writing positions for detecting corresponding image reference positions, and to accurately form register marks CR based upon a color shift correction mode in the image reference positions.例文帳に追加

予め規定された画像基準位置と画像基準位置検出用の各色の画像情報の書込み位置との間の位置ずれの影響を除去できるようにすると共に、画像基準位置に色ずれ補正モードに基づくレジストマークＣＲを精度良く形成できるようにする。 - 特許庁

In this etching process, for the first region, the insulating layer 30 is etched to form a through hole 34 for electrical connection with the metal pattern 18, and for the second region, the insulating layer 30 and the semiconductor pattern 16 are etched to remove the second portion 28 of the semiconductor pattern 16.例文帳に追加

エッチング工程で、第１領域では絶縁層３０をエッチングして金属パターン１８との電気的接続のための貫通穴３４を形成し、第２領域では絶縁層３０及び半導体パターン１６をエッチングして、半導体パターン１６の第２部分２８を除去する。 - 特許庁

The method comprises a process to form the resin sheet having blind holes which are opened in one sheet surface and extend in the direction of the other sheet surface and a process to remove a resin at the bottom and penetrate the blind holes through by applying ultrasonic wave to the bottom of the blind holes.例文帳に追加

一方の板面に開口し他方の板面方向に伸びる非貫通孔を有する樹脂板を形成する工程、及び該非貫通孔の底部に超音波を印加し、該底部の樹脂を除去して孔を貫通させる工程を有することを特徴とする孔構造体の製造方法。 - 特許庁