| 意味 | 例文 |
semiconductor layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 24027件
A semiconductor layer for a light-emitting element layered with an n-type semiconductor layer 2, an active layer and a p-type semiconductor layer 3 is formed on a substrate 1.例文帳に追加
基板1上に発光素子用のn型半導体層2、活性層及びp型半導体層3を積層した半導体層を形成してある。 - 特許庁
A semiconductor light-emitting element includes a buffer layer, a substrate layer, a first semiconductor layer, a light-emitting part, and a second semiconductor layer.例文帳に追加
実施形態によれば、バッファ層と、下地層と、第1半導体層と、発光部と、第2半導体層と、を備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁
An n-type semiconductor layer 2 is formed, as a resistive layer, on a substrate 1 separately from the n-type semiconductor layer 2 of a light-emitting semiconductor layer.例文帳に追加
基板1上には、発光用の半導体層のn型半導体層2と分離させて抵抗層としてのn型半導体層2を形成してある。 - 特許庁
The stress between the layer composed of the semiconductor, to which the oxygen element is added, and the semiconductor layer is made smaller than that between an oxide layer and the semiconductor layer.例文帳に追加
酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH ELECTRIC FIELD SHIELD LAYER例文帳に追加
電界シールド層を備えた半導体装置 - 特許庁
SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE PROTECTION LAYER例文帳に追加
粘着性保護層を有する半導体ウェハ - 特許庁
The second semiconductor layer may be formed above the first semiconductor layer by being apart therefrom.例文帳に追加
第2の半導体層は、第1の半導体層上に離間して設けられていてもよい。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE INCLUDING POROUS LAYER例文帳に追加
多孔質層を含む半導体発光デバイス - 特許庁
Electrodes are connected to the semiconductor layer and the reversely conductive semiconductor layer.例文帳に追加
ところが、ワイヤーのループを低くすれば、ワイヤーが共通電極配線にかかってしまう。 - 特許庁
The semiconductor lower layer 30 and the semiconductor upper layer 40 form a heterojunction 72.例文帳に追加
半導体下層30と半導体上層40は、ヘテロ接合72を構成している。 - 特許庁
An n^- semiconductor layer 2 being an epitaxial layer is provided on a p^- semiconductor substrate.例文帳に追加
p^-半導体基板1上にはエピタキシャル層であるn^-半導体層2が設けられている。 - 特許庁
A second semiconductor spacer layer 19 is provided on the first semiconductor spacer layer 17.例文帳に追加
第2の半導体スペーサ層19は、第1の半導体スペーサ層17上に設けられる。 - 特許庁
The first semiconductor layer includes a first semiconductor layer extending perpendicular to a substrate.例文帳に追加
第1半導体層は、基板に対して垂直方向に延びる第1半導体層を含む。 - 特許庁
Thereafter, a p-type semiconductor layer 2003 is formed on the n-type semiconductor layer 2004.例文帳に追加
次いで、n型半導体層2004上にp型半導体層2003を形成する。 - 特許庁
An N-type semiconductor layer 74 is formed on the layer 72 to manufacture a semiconductor light-emitting element.例文帳に追加
その上にN型半導体層74を形成して半導体発光素子を製造する。 - 特許庁
NONDESTRUCTIVE INSPECTION METHOD FOR OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER, AND METHOD OF MANUFACTURING OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
酸化物半導体層の非破壊検査方法、及び酸化物半導体層の作製方法 - 特許庁
PASSIVATION LAYER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE PACKAGING例文帳に追加
半導体デバイスパッケージング用のパッシベーション層 - 特許庁
Consequently, the semiconductor layer of the sample 10 is etched and etch pits are produced on the surface of the semiconductor layer.例文帳に追加
これにより、試料10の半導体層はエッチングされ、その表面にエッチピットが出る。 - 特許庁
The semiconductor device has a gate electrode for applying a voltage to the quantum well layer of the semiconductor upper layer.例文帳に追加
半導体上層の量子井戸層に電圧を印加するゲート電極を備えている。 - 特許庁
An n-type semiconductor layer 3 is formed on the insulating layer 2 on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1上の絶縁層2上にn形半導体層3を備える。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
窒化ガリウム系半導体層の形成方法 - 特許庁
On the void nitride semiconductor layer, a nitride semiconductor layer for forming an element is formed.例文帳に追加
ボイド窒化物半導体層の上に素子形成用窒化物半導体層を形成する。 - 特許庁
The semiconductor device includes an insulating layer 30.例文帳に追加
半導体装置は、絶縁層30を含む。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MIXED CRYSTAL LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR LIGHT- EMITTING ELEMENT例文帳に追加
半導体混晶層の製造方法、及び半導体デバイスと半導体発光素子 - 特許庁
SEMICONDUCTOR LAYER, DEPOSITING METHOD, SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE AND SEMICONDUCTOR LUMINESCENT DEVICE例文帳に追加
半導体層とその成膜方法、半導体発光素子、及び半導体発光装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
半導体装置の製造方法、半導体装置および半導体層の形成方法 - 特許庁
The nitride semiconductor light-emitting element includes an n-type nitride semiconductor layer and a nitride semiconductor active layer, has a first p-type nitride semiconductor layer between the n-type nitride semiconductor layer and the nitride semiconductor active layer, and has a second p-type nitride semiconductor layer at a side opposite to a side having the first p-type nitride semiconductor layer when viewed from the nitride semiconductor active layer.例文帳に追加
また、n型窒化物半導体層と窒化物半導体活性層とを含み、n型窒化物半導体層と窒化物半導体活性層との間に第1のp型窒化物半導体層を備え、窒化物半導体活性層から見て第1のp型窒化物半導体層がある側とは反対側に第2のp型窒化物半導体層を備えた窒化物半導体発光素子である。 - 特許庁
This semiconductor device is equipped with a semiconductor substrate, the buffer layer of a nitride semiconductor that is formed on the semiconductor substrate, and the channel layer of the nitride semiconductor that is formed in an upper layer as compared with the buffer layer.例文帳に追加
半導体基板と、この半導体基板上に形成された窒化物半導体のバッファ層と、このバッファ層よりも上層に形成された窒化物半導体のチャネル層とを備える。 - 特許庁
An optical semiconductor element comprises: an n-type semiconductor layer; a p-type semiconductor layer; a functional portion provided between the n-type semiconductor layer and the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
実施形態によれば、n形半導体層と、p形半導体層と、n形半導体層とp形半導体層との間に設けられた機能部と、を備えた光半導体素子が提供される。 - 特許庁
A nitride semiconductor device 110 comprises: a first semiconductor layer 3; a second semiconductor layer 4; a third semiconductor layer 5; a fourth semiconductor layer 6; a first electrode 10; a second electrode 8; and a third electrode 9.例文帳に追加
窒化物半導体装置110は、第1半導体層3、第2半導体層4、第3半導体層5、第4半導体層6、第1電極10、第2電極8及び第3電極9を備える。 - 特許庁
A first semiconductor layer 2, an active layer 4, a second semiconductor layer 6 and a contact layer 7 are sequentially laminated on a substrate 1.例文帳に追加
基板1上に第一半導体層2、活性層4、第二半導体層6及びコンタクト層7が順次積層されている。 - 特許庁
A transparent electrode layer covers the insulating layer and p-type compound semiconductor layer, and is in ohmic contact with the p-type compound semiconductor layer.例文帳に追加
透明電極層が絶縁層及びp型化合物半導体層を覆い、p型化合物半導体層にオーミックコンタクトする。 - 特許庁
The semiconductor substrate has a printed board layer and a package resin layer.例文帳に追加
半導体基板は、プリント基板層とパッケージ樹脂層を有する。 - 特許庁
The semiconductor layer 220 is located on the first wiring layer 150.例文帳に追加
半導体層220は、第1配線層150上に位置する。 - 特許庁
The charge storage layer surrounds side faces of the first semiconductor layer.例文帳に追加
電荷蓄積層は、第1半導体層の側面を取り囲む。 - 特許庁
The active layer 115 is formed on the lower semiconductor layer.例文帳に追加
活性層115は、下部半導体層上に形成されている。 - 特許庁
A reflection layer 16 is formed on end surfaces 14 of the p-type semiconductor layer 11, the light emitting layer 12 and the n-type semiconductor layer 13.例文帳に追加
p型半導体層11、発光層12およびn型半導体層13の端面14に反射層16を形成する。 - 特許庁
An active layer 17 contains a gallium nitride-based semiconductor layer 21a.例文帳に追加
活性層17は窒化ガリウム系半導体層21aを含む。 - 特許庁
The gate electrode layer 7 is formed under the semiconductor layer.例文帳に追加
ゲート電極層7は半導体層の下に形成されている。 - 特許庁
The semiconductor light-emitting element comprises a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, a luminescent layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer, a first electrode layer, and a second electrode layer.例文帳に追加
半導体発光素子は、第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、第1電極層と、第2電極層と、を備える。 - 特許庁
According to an embodiment, a semiconductor light-emitting element comprises a first semiconductor layer including a layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer including a layer of a second conductivity type and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.例文帳に追加
実施形態によれば、第1導電形の層を含む第1半導体層と、第2導電形の層を含む第2半導体層と、第1半導体層と第2半導体層との間に設けられた発光層と、を備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁
An optical waveguide core 102 is constructed by laminating: a p-type semiconductor layer 121; an n-type semiconductor layer 122; an insulating layer 123; a modulation layer 124 composed of a p-type semiconductor; an insulating layer 125; a p-type semiconductor layer 126; and an n-type semiconductor layer 127.例文帳に追加
光導波路コア102は、p型半導体層121、n型半導体層122、絶縁層123、p型半導体からなる変調層124、絶縁層125、p型半導体層126、n型半導体層127が積層されて構成されている。 - 特許庁
A p-type buffer layer 12, a p-type semiconductor layer 14, an n-type semiconductor layer 16, a p-type semiconductor layer 18, an n-type semiconductor layer 20, and an n-type semiconductor layer 30 serving as a light absorbing layer are successively laminated on a p-type substrate 10 to form a pnpn structure.例文帳に追加
p形基板10上に、p形バッファ層12,p形半導体層14,n形半導体層16,p形半導体層18,n形半導体層20、光吸収層であるn形半導体層を順次積層し、pnpn構造を作る。 - 特許庁
The structure has a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.例文帳に追加
構造体は、第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を有する。 - 特許庁
The structure includes a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type and a luminescent layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.例文帳に追加
構造体は、第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、第1半導体層と第2半導体層との間に設けられた発光層と、を有する。 - 特許庁
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