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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > semiconductor layerの意味・解説 > semiconductor layerに関連した英語例文

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semiconductor layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 24027



例文

METHOD OF FORMING NITRIDE-BASED SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加

窒化物系半導体層の形成方法 - 特許庁

The top of the phosphorated boron type semiconductor layer is provided with a conductive type silicon semiconductor layer having the same type main carrier as that of the phosphorated boron type semiconductor layer, and the ohmic electrode in contact with the silicon semiconductor layer.例文帳に追加

リン化硼素系半導体層上に当該層と同一の伝導形の珪素半導体層を設け、その珪素半導体層に接してオーミック電極を設ける。 - 特許庁

The second semiconductor layer 2 is provided on the first semiconductor layer 1, and the third semiconductor layer 3 is selectively provided on a surface of the second semiconductor layer 2.例文帳に追加

第2の半導体層2は第1の半導体層1の上に設けられ、第3の半導体層3は、第2の半導体層2の表面に選択的に設けられる。 - 特許庁

The semiconductor optical element 1 includes a first n-type semiconductor layer 13, the active layer 15, a p-type semiconductor layer 17, and a second n-type semiconductor layer 19.例文帳に追加

半導体光素子1は、第1のn型半導体層13と、活性層15と、p型半導体層17と、第2のn型半導体層19とを備える。 - 特許庁

例文

The third semiconductor layer 5 is GaN.例文帳に追加

第3半導体層5は、GaNである。 - 特許庁


例文

A nitride semiconductor light emitting element has a nitride semiconductor layer, a p-type nitride semiconductor layer, and an active layer laminated in order on an n-type nitride semiconductor layer.例文帳に追加

n型窒化物半導体層上に、窒化物半導体層、p型窒化物半導体層および活性層が順に積層されている窒化物半導体発光素子である。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with; a semiconductor layer; a first metal part facing the semiconductor layer; and an insulating layer provided between the semiconductor layer and the first metal part.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、半導体層と、半導体層と対向する第1メタル部と、半導体層と第1メタル部との間に設けられた絶縁層とを備える。 - 特許庁

ELECTRODE PATTERN FOR EVALUATION OF SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加

半導体層の評価用電極パターン - 特許庁

SEMICONDUCTOR LASER WITH KINK SUPPRESSION LAYER例文帳に追加

キンク抑制層を備えた半導体レーザー - 特許庁

例文

A space is provided under part of a semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層の一部を宙に浮かす。 - 特許庁

例文

MULTI-LAYER WIRING BOARD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

多層配線基板及び半導体装置 - 特許庁

In a semiconductor device, a body layer 19 is provided in a surface of an N-- type semiconductor layer 12.例文帳に追加

N−−型の半導体層12の表面にボディ層19が配置されている。 - 特許庁

The first semiconductor layer 15 and the second semiconductor layer are in contact with each other.例文帳に追加

前記第1の半導体層15と前記第2の半導体層とが接している。 - 特許庁

The semiconductor light-emitting element 1 is provided with a window layer 2 and a semiconductor layer 3.例文帳に追加

半導体発光素子1は、ウインドウ層2と、半導体層3とを備えている。 - 特許庁

The p-type semiconductor layer is provided between the n-type semiconductor layer and the electrode.例文帳に追加

p形半導体層は、n形半導体層と電極との間に設けられる。 - 特許庁

A semiconductor light emitting device has a substrate 110, an n-type semiconductor layer located above the substrate 110, a semiconductor light emitting layer located above the n-type semiconductor layer, and a p-type semiconductor layer located above the semiconductor light emitting layer.例文帳に追加

基板110と、基板110の上方に位置しているn型半導体層と、n型半導体層の上方に位置している半導体発光層と、半導体発光層の上方に位置しているp型半導体層とを備えている。 - 特許庁

A joint 40 of a semiconductor layer 20 and an alloying layer 31 is embedded into the semiconductor layer 20.例文帳に追加

半導体層20と合金化層31との接合部40が、半導体層20内に埋め込まれている。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a semiconductor layer 24, a first insulation layer 48, and a second insulation layer 50.例文帳に追加

半導体素子は、半導体層24と、第1絶縁層48と、第2絶縁層50を備えている。 - 特許庁

The semiconductor device has an SOI substrate structure, comprising a semiconductor support substrate, an insulating layer formed on the semiconductor support substrate, and an SOI layer formed on the insulating layer.例文帳に追加

また、素子破壊に至る許容電力を向上できる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a semiconductor device including a transistor having an oxide semiconductor layer, the oxide semiconductor layer is provided for a trench formed in an insulation layer.例文帳に追加

また、上記半導体装置の作製工程において、不良を抑制し、歩留まりよく作製する技術を提供する。 - 特許庁

The semiconductor region 15 includes a first conductivity type semiconductor layer 23, an active layer 25, and a second conductivity type semiconductor layer 27.例文帳に追加

半導体領域15は、第1導電型半導体層23、活性層25及び第2導電型半導体層27を含む。 - 特許庁

Next, after forming a polysilicon semiconductor layer as a semiconductor layer, an amorphous silicon semiconductor layer is continuously formed without breaking the vacuum.例文帳に追加

次に半導体層としてポリシリコン半導体層を成膜後アモルファスシリコン半導体層を真空をやぶらずに連続成膜する。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element includes a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態によれば、第1半導体層と、活性層と、第2半導体層と、を備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁

The n-type semiconductor layer 6, intrinsic semiconductor layer, and p-type semiconductor layer 5 are continuously arranged in this order to form a pin diode structure.例文帳に追加

n型半導体層6、真性半導体層およびp型半導体層5の順で連続したpinダイオード構造となる。 - 特許庁

After the laser beam irradiation, the single crystal semiconductor layer is heated at a temperature at which the single crystal semiconductor layer is not melted, so that the lifetime of the single crystal semiconductor layer is improved.例文帳に追加

レーザビームの照射後、単結晶半導体層を溶融させない温度で加熱し、そのライフタイムを向上させる。 - 特許庁

A rectifier element layer 21 includes: a semiconductor layer 24; an electrode layer 23 provided on one end side of the semiconductor layer 24; an electrode layer 26 provided on the other end side of the semiconductor layer 24; and an electrode layer 25 provided between the electrode layer 26 and the semiconductor layer 24.例文帳に追加

整流素子層21は、半導体層24と、半導体層24の一端側に設けられた電極層23と、半導体層24の他端側に設けられた電極層26と、電極層26と半導体層24の間に設けられた電極層25とを備える。 - 特許庁

The second semiconductor deposit layer 118 includes a first semiconductor layer 118a, a second semiconductor layer 118b, a barrier layer 118c and a current constriction layer 111.例文帳に追加

第2の半導体堆積層118は、第1半導体層118a、第2半導体層118b、障壁層118c、および電流狭窄層111を含む。 - 特許庁

The semiconductor stack structure includes a p-type compound semiconductor layer, an active layer, and an n-type compound semiconductor layer, and the p-type compound semiconductor layer is positioned closer to a support substrate side than the n-type compound semiconductor layer.例文帳に追加

半導体積層構造体はp型化合物半導体層、活性層及びn型化合物半導体層を有し、p型化合物半導体層がn型化合物半導体層よりも支持基板側に位置する。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element comprises an n-type first semiconductor layer, a p-type second semiconductor layer, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態に係る半導体発光素子は、n形の第1半導体層と、p形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を備える。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element comprises: a first semiconductor layer of a first conductivity type; a second semiconductor layer of a second conductivity type; a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer; a first electrode layer electrically connected to the first semiconductor layer; and a second electrode layer electrically connected to the second semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態に係る半導体発光素子は、第1導電形の第1半導体層と、第2導電形の第2半導体層と、第1半導体層と第2半導体層との間に設けられた発光層と、第1半導体層と導通する第1電極層と、第2半導体層と導通する第2電極層と、を備える。 - 特許庁

First, the semiconductor substrate serving as a base of the semiconductor layer is prepared.例文帳に追加

まず、半導体層の基となる半導体基板を準備する。 - 特許庁

A semiconductor substrate is prepared which is such that an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer are stacked on an n-type semiconductor substrate.例文帳に追加

N型の半導体基板上にN型の半導体層とP型の半導体層が積層した半導体基板を用意する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR LAYER AND ITS PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

半導体素子、半導体層および半導体層の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING END FACE OF SEMICONDUCTOR LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体層の端面の形成方法および半導体装置 - 特許庁

NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER, NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

窒化物半導体層、窒化物半導体素子とその製造方法 - 特許庁

The semiconductor layer 12 is formed on the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体層12は半導体基板11に形成されている。 - 特許庁

ETCHING OF SEMICONDUCTOR LAYER AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体のエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

The upper barrier layer is composed of a p-type boron phosphide (BP)-based semiconductor, especially an amorphous boron phosphide-based semiconductor.例文帳に追加

特に非晶質のリン化硼素系半導体とする。 - 特許庁

The substrate for the light-emitting element includes a semiconductor layer (an n-type semiconductor layer 5, a light-emitting layer 6, a p-type semiconductor layer 7, and a substrate 4) including the light-emitting layer 6, and the base substrate 2 bonded to the semiconductor layer through an intermediate layer 35.例文帳に追加

発光素子用基板は、発光層6を含む半導体層(n型半導体層5、発光層6、p型半導体層7、基板4)と、半導体層と中間層35を介して接合された基礎基板2とを備える。 - 特許庁

The semiconductor device includes a first semiconductor layer 1 and a second semiconductor layer 2 heterojunctioned with the first semiconductor layer 1.例文帳に追加

半導体装置の一態様には、第1の半導体層1と、第1の半導体層1とヘテロ接合した第2の半導体層2と、が設けられている。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF SINGLE CRYSTAL SEMICONDUCTOR LAYER, FORMATION METHOD OF CRYSTALLINE SEMICONDUCTOR LAYER, FORMATION METHOD OF POLYCRYSTALLINE SEMICONDUCTOR LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

単結晶半導体層の形成方法、結晶性半導体層の形成方法、多結晶半導体層の形成方法、及び、半導体装置の作製方法 - 特許庁

A semiconductor device 100 has a substrate 110, an n-type semiconductor layer 130, a semiconductor light emitting layer 140 and a p-type semiconductor layer 150 in this order.例文帳に追加

半導体素子100は、基板110、n型半導体層130、半導体発光層140、及びp型半導体層150を、この順に備える。 - 特許庁

For example, let the first covering layer be an insulation layer 30, and let the second covering layer be an outer semiconductor layer 40.例文帳に追加

例えば、絶縁層30を第一被覆層とし、外部半導電層40を第二被覆層とする。 - 特許庁

For instance, an insulating layer 30 is used as the first covering layer and an external semiconductor layer 40 is used as the second covering layer.例文帳に追加

例えば、絶縁層30を第一被覆層とし、外部半導電層40を第二被覆層とする。 - 特許庁

The semiconductor layer includes a lower clad layer 104, an active layer 105, and an upper clad layer 106.例文帳に追加

半導体エピタキシャル層は、下部クラッド層104、活性層105、上部クラッド層106を含む。 - 特許庁

The luminescent layer is provided between the first semiconductor layer and the first electrode layer.例文帳に追加

発光層は、第1半導体層と第1電極層との間に設けられる。 - 特許庁

The light-emitting element includes a semiconductor layer 51, and a gold electrode layer 52 formed on the semiconductor layer 51 and electrically connected to the semiconductor layer 51.例文帳に追加

半導体層51と、この半導体層51上に形成され、前記半導体層51との電気的に接続される金電極層52を有する。 - 特許庁

The semiconductor element layer 3 and cooling layer 8 are in such a relationship that the semiconductor element layer 3 is cooled in different degrees of cooling depending on many different places inside the semiconductor element layer 3.例文帳に追加

半導体素子層3と冷却層8とは、半導体素子層3の複数部位でそれぞれに互いに冷却度合いが異なる関係にある。 - 特許庁

The first semiconductor deposit layer 114 includes a fist semiconductor layer 114a, a second semiconductor layer 114b and a current catchment basin layer 107a.例文帳に追加

第1の半導体堆積層114は、第1半導体層114a、第2半導体層114b、および電流流域層107aを含む。 - 特許庁

例文

A semiconductor light-emitting element comprises a light-emitting layer, a light-transmitting layer, a first nitride semiconductor layer, and a second nitride semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態によれば、発光層と、透光層と、第1窒化物半導体層と、第2窒化物半導体層と、を備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁




  
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