| 例文 (10件) |
surface concentration of contaminationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
Matters relating to monitoring of the dose, the dose equivalent, the concentration of radioactive materials and the surface contamination density of radioactive materials of objects contaminated by radioactive materials, and the decontamination例文帳に追加
放射線測定器の管理に関すること。 - 経済産業省
To provide a particle concentration detector capable of more suitably reducing the contamination of a detection surface.例文帳に追加
検出面の汚れをより好適に軽減することのできる粒子濃度検出装置を提供する。 - 特許庁
To eliminate the difference of boron concentration on the surface of a wafer and in a bulk by providing a method for eliminating boron contamination accompanying the annealing treatment of a silicon wafer and namely a method for preventing the increase of the boron concentration near the surface of the wafer accompanying the annealing treatment.例文帳に追加
シリコンウェーハのアニール処理に伴うボロン汚染の消滅方法、即ちアニール処理に伴うウェーハ表面近傍のボロン濃度増加の防止方法を提供することにより、ウェーハの表面とバルク中のボロン濃度差を無くすことである。 - 特許庁
To reduce iron concentration and carbon contamination of a substance surface and thereby to improve reliability, in SC-1 cleaning used for cleaning of a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板洗浄に使用されるＳＣ−１洗浄において、基板表面の鉄濃度を低減しかつ炭素汚染を低減して信頼性を向上させる。 - 特許庁
These notices specify the radiation exposure doses in the controlled area and the environmental monitoring area, the surface contamination limit, radiation exposure dose limits of radiation workers, radioactivity concentration limits outside of theenvironmental monitoring area, etc.例文帳に追加
これらの告示では、管理区域、周辺監視区域に係る線量、表面密度限度、放射線業務従事者の線量限度、周辺監視区域外の濃度限度などが定められている。 - 経済産業省
To provide a radioactive source accommodation fixture for facilitating handling of a radioactive source used for calibration of radioactive ray detector capable of measuring radioactive concentration, surface contamination density, and surface dose equivalent of a drum can in which radioactive substance is sealed, and shortening the handling time of the radioactive source.例文帳に追加
放射性物質が封入されたドラム缶の放射能濃度、表面汚染密度、表面線量当量率を測定可能な放射線検出器の校正のために使用される放射線源の取り扱いを簡易にし、放射線源の取扱時間を短くすることが可能な放射線源収容治具を提供する - 特許庁
To solve the large fluctuations in the intensity of the fluorescent X rays from an element to be measured and to perform the evaluation of the injection amount of ions, the evaluation of the concentration of an element in a thin film and the evaluation of the contamination quantity on the surface of a sample in-line with high precision.例文帳に追加
測定目的元素からの蛍光X線強度の大きな変動を解決するとともに、これまで困難であった、高精度な、イオン注入量評価、薄膜中の元素濃度評価、試料表面の汚染量評価をインラインで行なうことを可能とする。 - 特許庁
Cleaning the semiconductor substrate with the solution containing a small amount of CN^- ion and adjusted at pH 9 to 14 at a temperature of 50°C or below, preferably at a range of 30 to 40°C, removes the initial metallic contamination of a surface copper concentration of about 10^13 atom/cm^2 to 10^9 atom/cm^2 or below.例文帳に追加
半導体基板を、少量のＣＮ^−イオン含有，ｐＨ９〜１４に調整された溶液によって、５０℃以下、好ましくは３０℃〜４０℃の範囲の温度で洗浄処理することで、当初の表面銅濃度約１０^１３原子／ｃｍ^２の金属汚染が、１０^９原子／ｃｍ^２以下にまで除去される。 - 特許庁
To suppress a property variation caused by contamination or damage and to improve a reliability by protecting a surface which is in a sensitive state caused by a low impurity concentration of a diffusion layer of an IIL which corresponds to a base region of a PNP bipolar transistor.例文帳に追加
ＩＩＬのＰＮＰバイポーラトランジスタのベース領域に相当する拡散層の不純物濃度が低濃度のために敏感な状態となっている表面を保護して、コンタミネーションやダメージによる特性変動の抑制、信頼性の向上を図る。 - 特許庁
To provide an efficient and reliable method of manufacturing a semiconductor wafer without metal contamination, by which, when a semiconductor wafer surface is etched or cleaned, the metal concentration of the wafer surface to be manufactured is not directly analyzed, but an analytical value is indirectly and instantly obtained and regulated to make the value below a predetermined value, and to provide a device for monitoring the same.例文帳に追加
半導体ウエーハ表面をエッチングや洗浄する場合に、製造されるウエーハ表面の金属濃度を直接分析することなく、間接的に即時に分析値を得て、それを所定値以下に管理することにより効率的で確実な金属汚染の無い半導体ウエーハの製造方法とこれをモニタリングする装置を提供する。 - 特許庁
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