「variable shaped beam」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a drawing method employing a variable area type electron beam drawing apparatus which is designed to effectively use an electron beam shaped in a triangle and to increase a drawing speed.例文帳に追加

三角形に成形された電子ビームを有効に活用し、描画速度を向上させるようにした可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法を実現するにある。 - 特許庁

This invention relates to the field of electron beam lithography, particularly, to the shaped beam lithography which is used in an integrated circuit manufacturing process to form spots having variable shapes on a photoresist.例文帳に追加

本発明は電子ビーム・リソグラフィの分野に関し、特に、集積回路製造プロセスにおいて使用され、フォトレジスト上に形状可変スポットを生成する整形ビーム・リソグラフィに関する。 - 特許庁

A variable aperture within an aperture adjustment device is used to shape the ion beam before the substrate is implanted by a shaped ion beam, especially to finally shape the ion beam in a position near the substrate.例文帳に追加

イオンビームの形状を変化させ、特に、基板付近で、イオンビームの最終形状を変化させ、その後、成形後のイオンビームにより、基板に対しイオン注入を実行する可変開口を有する開口調整装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A cell which is frequently used or a cell with a higher effect of reducing the number of shots by performing CP exposure than by performing variable shaped beam exposure is selected as the standard.例文帳に追加

このスタンダードセルには、使用頻度のより高い、あるいは、ＣＰ露光を行なうことにより可変成形ビーム露光を行なった場合よりショット数の削減効果のより高いセルを選択する。 - 特許庁

A variable slit device (9) which variably shields a part of an incident slit-shaped light beam (24) comprises: a plurality of light shielding members (9b) arranged in parallel to an illumination optical path; and an actuator (9c) to change each position of a plurality of light shielding members against the illumination optical path.例文帳に追加

入射するスリット状の光束（２４）の一部を可変的に遮る可変スリット装置（９）は、照明光路に対して並列的に配列された複数の遮光部材（９ｂ）と、照明光路に対する複数の遮光部材の位置をそれぞれ変化させるアクチュエータ（９ｃ）とを備えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nanoimprint mold, a manufacturing method of an optical element, and a forming method of a resist pattern capable of forming a resist pattern in which circular patterns of about 200 nm are regularly arranged with a practical productivity by using a variable shaped beam electron beam writer and forming a uneven nano-structure from the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

Several ten-several hundred variable wavelength laser media are shaped into a stripe shape with a width of 10-50 μm and a thickness of several μm to be parallelly arranged on a substrate 1 with a length of 10-20 mm and, irradiated with ultraviolet laser beam from two directions to form stripe patterns due to interference and cyclical unevennesses (diffraction lattices) are formed by an optical etching method.例文帳に追加

長さ１０〜２０ｍｍの基板１上に可変波長レーザー媒質を幅１０〜５０μｍ、厚さ数μｍのストライプ状に整形して数１０〜数１００本平行にならべ、それぞれに紫外レーザー光を２方向から照射して干渉による縞模様を作り、光エッチング法で周期的な凹凸（回折格子）を作る。 - 特許庁