孔研磨機の英語

被研磨物表面を研磨するためのパッドであって、温度を２５℃から６０℃へ上昇した際の温度上昇による弾性率低下量が２５℃における弾性率に対して２５％以下であること、及び無機充填物を含まず、実質的に発泡孔を有さない樹脂からなる研磨用パッド。例文帳に追加

In the pad for polishing the surface of the article to be polished, the quantity of an elastic modulus lowered by a temperature rise at a time when the temperature is elevated from 25°C to 60°C is 25 % or less to the elastic modulus at 25°C, inorganic fillers are not contained and the pad is composed substantially of a resin having no foamed hole. - 特許庁

焼結後のセラミック素子の空孔に無機粉末を充填した後、湿式バレル研磨を行い、湿式バレル研磨工程におけるセラミック素子の空孔への液体の侵入を抑制、防止する。例文帳に追加

In a mask creating device, the hole of the ceramic element after sintering is filled with inorganic powder, wet barrel polishing is performed and the invasion of liquid to the hole of the ceramic element in the wet barrel polishing process is restricted and prevented. - 特許庁

研磨を行うパッド部２の裏面側に粘着シート３を介して剥離紙６が貼着され、使用時には前記剥離紙６を剥がして研磨機定盤７に固定する研磨パッド１であって、前記研磨機定盤７に固定される裏面側から前記パッド部の表面側に連通孔８が形成された。例文帳に追加

In a polishing pad at which released paper 6 is affixed onto the back surface of a pad section 2 for polishing through an adhesive sheet 3 and which is fixed onto a surface plate 7 of a polishing machine after the released paper is removed before its use, a communicating hole 8 is formed in the surface of the pad section from the back surface fixed onto the surface plate 7. - 特許庁

繊維が樹脂により固定された板状体からなり、少なくとも被研磨物に当接される表面層は、有機繊維が樹脂により固定され実質的に多孔質でない層からなっている研磨用パッド。例文帳に追加

The polishing pad consists of a plate-like body wherein fiber is fixed by resin and at least a surface layer in contact with a polishing object is formed of a layer wherein organic fiber is fixed by resin and is not porous practically. - 特許庁

配線溝孔３に埋め込んだ導電体層を研磨して埋込配線４を研磨したのち、気体状態の有機系ガス５により前記埋込配線４の露出部表面の清浄化・熱処理を行う。例文帳に追加

A conductor layer buried in a wiring line groove 3 is polished to polish a buried wiring layer 4, and thereafter the exposed surface of the buried wiring layer 4 is cleaned/subjected to heat treatment with use of an organic gas 5. - 特許庁

多孔性材料から形成される微細経路を備える薄膜を、化学的機械的研磨法を用いて作製する方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING MEMBRANE COMPRISING MICROPASSAGE MADE FROM POROUS MATERIAL, BY CHEMICAL MECHANICAL POLISHING - 特許庁

多孔性材料から形成される微細経路を有する薄膜を、化学的機械的研磨法を用いて作製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a membrane comprising micropassages made from a porous material, by using a chemical mechanical polishing method. - 特許庁

また、研磨層３１の貫通孔３４は支持板３２までは形成されていないので、機械強度が不足することもない。例文帳に追加

In addition, since the through hole 34 of the polishing layer 31 is not formed up to the supporting plate 32, sufficient mechanical strength can be ensured. - 特許庁