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硫化ケイ素の英語
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英訳・英語 silicon sulfide
「硫化ケイ素」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
二硫化ケイ素を低エネルギー消費で製造する。例文帳に追加
To produce silicon disulfide with low energy consumption. - 特許庁
正極１と、リチウムまたはリチウム合金を含む負極２と、非水電解質とを備えた非水電解質二次電池において、前記負極活物質表面に酸化ケイ素、硫化ケイ素、酸化リチウムおよび硫化リチウムを含む被膜６が形成されていることを特徴とする。例文帳に追加
The nonaqueous electrolyte secondary battery has a positive electrode 1, a negative electrode 2 containing lithium or the lithium alloy, and a nonaqueous electrolyte, and a film 6 containing silicon oxide, silicon sulfide, lithium oxide, and lithium sulfide is formed on the surface of the negative active material. - 特許庁
リチウム金属と接触させても硫化ケイ素との反応が抑制される硫化物系の無機固体電解質とその形成方法、リチウム電池部材並びにリチウム２次電池を提供する。例文帳に追加
To provide a sulfide inorganic solid electrolyte restrained from reacting with silicon sulfide even if it is brought into contact with lithium metal and to provide its formation method, a lithium battery member and a lithium secondary battery. - 特許庁
硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素、硫化ほう素から選択される１種以上の化合物と、硫化リチウムを反応させて非晶質の固体電解質を生成させる合成工程と、前記非晶質の固体電解質を溶媒中で加熱して結晶化させる結晶化工程を含む固体電解質の製造方法。例文帳に追加
The method of manufacturing the solid electrolyte including the synthesizing step of reacting compounds of one or more kinds selected from phosphorous sulfide, germanium sulfide, silicon sulfide and boron sulfide with lithium sulfide to generate the amorphous solid electrolyte, and the crystallizing step of heating the amorphous solid electrolyte in a solvent to crystallize the electrolyte. - 特許庁
炭化ケイ素を１０〜３０重量％含有すると共に、粗粒黒鉛、窒化ホウ素のうちのいずれか１種、及び／又は、氷晶石、フッ化カリウム、硫化鉄、硫化アンチモン、二硫化モリブデンのうちのいずれか１種以上を含有することを特徴とする。例文帳に追加
The material is characterized by comprising 10-30 wt% of silicon carbide and also comprising any one of large grain graphite and boron nitride and/or any one or more of cryolite, potassium fluoride, iron sulfide, antimony sulfide and molybdenum disulfide. - 特許庁
イオウ元素、リチウム元素、及びホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、リン及びアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも１つの元素を含み、平均粒径が０．０１〜１０μｍである硫化物系電解質粉体であって、好ましくは硫化リチウムとＰ２Ｓ５を用いて得られるものである。例文帳に追加
This is the sulfide-based electrolyte powder which contains at least one element selected from among a group constituted of sulfur element, lithium element, boron, silicon, germanium, phosphorus, and aluminum, and of which the average particle diameter is 0.01 to 10 μm, and preferably, which can be obtained by using lithium sulfide and P2S5. - 特許庁
この窒化ケイ素の粒界相には、金属酸化物（アルミナとイットリアの混合物）が存在しており、この金属酸化物には二硫化モリブデンの粒子が分散している。例文帳に追加
In the grain boundary phase of the silicon nitride, metal oxide (a mixture of aluminum and yttria) exists, in which particles of molybdenum disulfide are dispersed. - 特許庁
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Weblio例文辞書での「硫化ケイ素」に類似した例文 |
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硫化ケイ素
a sulphide
carburetted hydrogen―hydrocarbon
a chemical compound made usually by heating silicon or silicon dioxide with chlorine, called silicon tetrachloride
a hydride
「硫化ケイ素」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
金属側のトルク伝達面５ｂまたは８ｇに、二硫化モリブデン、グラファイト、フッ化カルシウムまたは二酸化ケイ素でなる固体潤滑被膜を設ける。例文帳に追加
A solid lubricant film made of a molybdenum disulfide, a graphite, calcium fluoride, or silicon dioxide is formed on the torque transmission surface 5b or 8g on a metal side. - 特許庁
炭化ケイ素：５〜４０ｍｏｌ％を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有し、相対密度が９５％以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。例文帳に追加
The sputtering target consists of a sintered body having a composition containing 5 to 40 mol% silicon carbide and the balance zinc sulfide and having ≥95% relative density. - 特許庁
直流スパッタリング可能な硫化亜鉛−ケイ素とチタンの複合酸化物−酸化インジウム系焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering target for the formation of an optical logging protection film made of sintered bodies composed of zinc sulfide-silicic and titanic compound oxide-indium oxide, and capable of DC sputtering. - 特許庁
高速でスパッタリングすることが可能な硫化亜鉛−二酸化ケイ素焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering target for forming a protective film of an optical recording medium, which is made of a zinc sulfide-silicon dioxide sintered compact and can perform high-speed sputtering, and its manufacturing method. - 特許庁
ナノサイズのコア・シェル構造体であって、（１）前記コアは、硫化スズ粒子であり、（２）前記シェルは、酸化ケイ素膜である、ことを特徴とするコア・シェル構造体。例文帳に追加
A core-shell structure includes a core-shell structure having a nano size wherein (1) the core is made of tin sulfide particles and (2) the shell is made of a silicon oxide film. - 特許庁
ケイ素とチタンの複合酸化物：１０〜３０モル％、酸化インジウム：０．５〜３０モル％を含有し、残部が硫化亜鉛からなる組成を有することを特徴とする直流スパッタリング可能でかつ異常放電の少ない光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。例文帳に追加
This sputtering target for the formation of the optical logging protection film capable of DC sputtering and low in abnormal discharge comprises 10-30 mole % silicic and titanic compound oxide, 0.5-30 mole % indium oxide and the balance of zinc sulfide. - 特許庁
二酸化ケイ素：１０〜３０原子％、アルゴン、窒素、またはアルゴンおよび窒素の混合成分：０．０１〜１０原子％を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなることを特徴とする高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。例文帳に追加
The sputtering target for forming the protective film of the optical recording medium is the sintered compact which has a composition comprising 10-30 atomic% silicon dioxide, 0.01-10 atomic% argon, nitrogen or a mixture thereof and the balance being zinc sulfide. - 特許庁
重量パーセントで、０．１％から０．５％までの金属銀、３０％から５４％までの二酸化ケイ素、２０％から４０％までの二酸化チタン、１０％から２０％までの酸化クロム、５％から２０％までの酸化モリブデン、５％から１０％までの二硫化モリブデンおよび５％から１０％までのハロゲン化物が含まれるように構成されている。例文帳に追加
The activator is configured to contain, by weight, 0.1-0.5% metallic silver, 30-54% silicon dioxide, 20-40% titanium dioxide, 10-20% chromium oxide, 5-20% molybdenum oxide, 5-10% molybdenum disulfide, and 5-10% halide. - 特許庁
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