Resist laminationとは 意味・読み方・使い方

A resist layer is laminated on a substrate by a laminating device 2, and information on a lamination time is exposed on the substrate.例文帳に追加

ラミネート装置２が基板にレジスト層をラミネートするとともに、ラミネート日時を表す情報を基板に露光する。 - 特許庁

The transcription film for forming a barrier rib is formed by forming a lamination layer composed of a resist film and a barrier rib forming material on a supporting film.例文帳に追加

隔壁形成用転写フィルムは、レジスト膜と隔壁形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されている。 - 特許庁

Then a resist 15 is patterned, and the wiring material lamination layer 12 is anisotropically etched, by utilizing a resist pattern containing a hard mask HM of the first and second insulating films 13 and 14, to form a wiring pattern 12 (Fig. 1 (b)).例文帳に追加

次に、レジスト１５をパターニングし、第１、第２絶縁膜１３，１４のハードマスクＨＭを含むレジストパターンに従って配線材料積層１２が異方性エッチングされ配線パターン１２が形成される（図１（ｂ））。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition allowing an excellent cured film to be formed, the film having good circuit embedding property, work efficiency, easy peelability from a support, and various properties required by a solder resist and a permanent resist, to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and to provide a lamination method and a photosensitive permanent resist.例文帳に追加

良好な回路の埋め込み性、作業性、支持体からの易はく離性、及びソルダーレジスト・永久レジストに要求される諸特性を備えた優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、それを用いた感光性エレメント、ラミネート方法、感光性永久レジストを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in film forming property, lamination property and tackiness and having various properties necessary for a solder resist, such as plating resistance, HAST resistance, soldering heat resistance, cracking resistance and resolution, and a photosensitive film and a photosensitive permanent resist using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

フィルム形成性、ラミネート性及びタック性に優れ、耐めっき性、ＨＡＳＴ耐性、はんだ耐熱性、耐クラック性及び解像性等のソルダーレジストに要求される諸特性を十分に有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び感光性永久レジストを提供する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition which is excellent in plating resistance, stability after lamination and reduction of development residues and can inhibit discoloration in soldering; a photosensitive film; a permanent mask resist; and a method for producing the permanent mask resist.例文帳に追加

耐めっき性、ラミネート後の安定性及び現像残渣の抑制に優れ、且つ、はんだ処理時の変色を抑制することが可能な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及び永久マスクレジストの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, by processing the MTJ lamination film with the resist pattern, the element array formed by combining the MTJ elements 23 and dummy elements 28 are arranged in the lattice-shaped dense pattern.例文帳に追加

そして、このレジストパターンを用いてＭＴＪ積層膜を加工することで、ＭＴＪ素子２３とダミー素子２８とを合わせた素子アレイを格子状の密集パターンに配置する。 - 特許庁

After the lamination of a polycrystalline ITO layer 20a and the formation of a resist mask by a photolithography process, the polycrystalline ITO layer 20a is etched using, for example, a hydrochloric acid-based etchant.例文帳に追加

多結晶ＩＴＯ層２０ａを積層し、フォトリソグラフ工程によりレジストマスクを形成した後、多結晶ＩＴＯ層２０ａを例えば塩酸系のエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁