こんたくとあらいなの英語

メモリーゲート（ＭＧ）のセルフアラインコンタクト（ＳＡＣ）構造部分における十分な絶縁性を確保することができる半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device wherein sufficient insulation can be secured in a self alignment contact (SAC) structure section of a memory gate (MG). - 特許庁

洗い場領域全体において凸部上の湯水を溝内に確実に流し込んで床面の乾燥性を向上させることができ、洗い場領域を滑り難くすることができるようにすること。例文帳に追加

To provide a bathroom floor which can positively lead water/hot water on bumps into grooves over the entire washing place area to improve the drying performance of a floor surface, and makes the washing place resistant to skidding. - 特許庁

微細なパターンを露出させるためのコンタクトホールの形成時、ミスアラインメントを防止できる半導体素子及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor element which can prevent misalignment in forming a contact hole to expose a fine pattern. - 特許庁

アライメントずれによってコンタクト孔１１がトレンチ分離領域８にかかっているため、トレンチ分離領域８もエッチングされる。例文帳に追加

Since a contact hole 11 is moved into a trench separation region 8 due to misalignment, the trench separation region 8 is also etched. - 特許庁

セルフアラインコンタクトを形成する際に、エクステンション領域及びソースドレイン領域におけるシリサイド化されていない部分とコンタクトとが接触することがない半導体装置を実現できるようにする。例文帳に追加

To provide a semiconductor device such that, when a self-align contact is formed, a contact never comes into contact with parts where silicide is not formed in an extension region and a source drain region. - 特許庁

セルフアラインコンタクトエッチング工程を採用し、ボイドのないパッドを形成しうる半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufacturing method in which a self aligned contact etching process is used and capable of forming a pad without a void. - 特許庁

これによって、洗濯液がしみ込んだ衣類に遠心力だけでなく攪拌による機械力も加わるようになり、洗濯液がしみ込んだ状態で揉み洗いできるので、少水量、少洗剤でも洗濯性能を向上することができる。例文帳に追加

Clothes infiltrated with the washing liquid is hereby undergo a mechanical force by agitation as well as centrifugal force for rubbing wash, so that the washing performance is improved even with a small amount of water and detergent. - 特許庁

ハードコンタクトレンズに付着した汚れを、簡便なこすり洗いで落とすとともに、防汚性や親水性を付与するためのハードコンタクトレンズ用洗浄溶液を提供する。例文帳に追加

To obtain a cleaning soln., with which dirt deposited on a lens can be cleaned as well as hydrophilicity can be added to the lens surface to suppress deposition of dirt, by incorporating each specified amt. of a single polymer of specified (meth)acrylate, specified abrasive, surfactant and solvent. - 特許庁