ずいはんりゅうしほうしゃの英語

ポリッシング装置１０１は、定盤２と、被研磨物である半導体ウェハ３が貼り付けられたウェハ保持治具４を定盤２の研磨面に押しつけるフィクスチャー５と、研磨砥液６を供給する研磨剤供給部１０２と、研磨屑１１を含む研磨砥液６を洗い流す流体噴射部１０３とで構成され、研磨剤供給部１０２を定盤２の回転方向に対しウェハ保持治具４の上流側でかつ定盤２の半径方向に配置し、研磨により生じる研磨屑１１を含む研磨砥液６を定盤２上から洗い流すための流体を噴射する流体噴射部１０３をウェハ保持治具４の下流側でかつ定盤２の半径方向に配置する。例文帳に追加

The fluid jet part 103 ejecting fluid for washing away the abrasive fluid 6 including the polishing chips 11 generated by the polishing is disposed in the downstream of the wafer retainer jig 4 and in the radius direction of the surface plate 2. - 特許庁

第１エア吹き出し口１０６ａから吹き出されるエア１０９は、図１４に示すようにカウンタ胴２７の外周面を沿うように傾斜する傾斜角度α１を有して紙搬送方向上流側に吹き出される。例文帳に追加

An air 109 blown from a first air blowing port 106a has an inclined angle α1 inclined along the outer peripheral surface of the counter cylinder 27 as shown in Fig.14 and is blown at the upstream side of the sheet transporting direction. - 特許庁

二次電子放出率測定器は、荷電粒子線を絞る静電レンズ１０４及び不必要な入射電子を反射させるための反射電極１０５を含むように作製し、且つ、この装置を真空容器内に設置することで、従来の測定装置とは異なり、安価で小型の測定装置が供給できるとともに荷電粒子生成装置の種類に関わらず容易に二次電子放出率を測定することができる。例文帳に追加

The secondary electron emission rate measuring instrument is manufactured so that it includes an electrostatic lens 104 for narrowing charged particle rays and a reflection electrode 105 for reflecting unneeded incident electrons, and is installed in a vacuum container, thus providing an inexpensive and compact measuring instrument as compared with the conventional measuring instrument and measuring secondary electron emission rate easily regardless of the type of a charged particle generator. - 特許庁

後者の説によれば、法隆寺金堂釈迦三尊像のような7世紀前半の像は北魏の作風を源流とするものと見、それよりも3次元的空間把握の進んだ像を時代の下がる北斉・北周・隋の影響下にあるものと見る。例文帳に追加

According to the latter theory, statues of the early seventh century, such as the Shaka Sanzon-zo of Kondo of Horyu-ji Temple, are regarded as having their roots in the style of the Northern Wei Dynasty, and the statues with further understanding of three-dimensional space are regarded as having been influenced by Northern Qi, Northern Zhou, and Sui Dynasties that are dated later in history.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

しかし実際には図１２（ｃ）のようにトナー４０が搬送方向上流側に流れ、結果として画像の後ろにずれた位置に転写されたトナー４０がブラーとなり画質を低下させる。例文帳に追加

As shown in Fig 12(c), the toner 40 actually flows to an upstream side in the carrying direction, consequently, the toner 40 which was transferred to a position shifted behind the image causes blurring, and the image quality is deteriorated. - 特許庁

半導体装置のトリミング方法は、ポリシリコンヒューズ１０１を溶断部１０１ａにおいて溶融し且つ電流が流れている状態で印加電圧を強制遮断するような電圧パルスをポリシリコンヒューズ１０１に印加してトリミングを行ない、封止樹脂による膜ストレスの影響を回避している。例文帳に追加

The trimming method of the semiconductor device is that the polysilicon fuse 101 is melted at the blowout section 101a, and trimming is performed, by applying a voltage pulse so as to forcibly block an applying voltage in a condition with a current flowing to the polysilicon fuse 101, thereby avoiding the affection of the film stress caused by the sealing resin. - 特許庁

特に凹版オフセット印刷法等に使用した際に転写不良等を生じにくい上、基板の表面に印刷して焼き付けた後のインキパターン中にアウトガスのもとになる成分が残留せず、印刷特性や乾燥性等と、前記インキパターンの透明性や耐薬品性等とのバランスに優れたインキ組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an ink composition that hardly cause poor transcription etc. when used especially for intaglio offset printing method etc., does not remain any component to cause an outgas in an ink pattern after printed and then glazed on a surface of a substrate, and is excellent in balance between printing characteristics and drying property, etc. and transparency or chemical resistance, etc. of the ink pattern. - 特許庁