エッジングの英語

したがって反射電極の材料として、ＩＺＯと同じエッジング液でエッチングされてしまうＡｌ等の材料を用いたとしても、両方が互いにエッジングされてしまうようなことはない。例文帳に追加

Thereby, even if a material such as Al which is etched by using an etching liquid for etching the IZO is used as a material for the reflection electrode, it never occurs that the both electrodes are etched together. - 特許庁

造園物質及び／又は舗装物質を予め定められた場所に適切に保持するための細長いエッジング・アセンブリを提供する。例文帳に追加

To provide an elongated edging assembly for holding landscaping and/or paving materials appropriately in a predetermined location. - 特許庁

次に、リッジ７を覆うようにレジスト１８を塗布し、下向きの凹部状のレジスト１８の両側下部を若干エッジングする。例文帳に追加

Then a resist 18 is applied so as to cover the ridge 7, and lower portions of both sides of a downward recessed resist 18 are slightly etched. - 特許庁

例えば、これらの第１鱗パターンP1及び第２鱗パターンP2はエッジング加工等によって削られた後に表面塗装されて描かれる。例文帳に追加

For example, the first and the second scale patterns P1 and P2 are drawn by surface coating after whittling the body by an egging processing or the like. - 特許庁

エッジングおよび／または表面処理に際し、悪臭をマスキングするおよび／または芳香を与えるために適したレンズブランク、ならびに芳香付与レンズ例文帳に追加

LENS BLANK SUITABLE FOR SUITABLE FOR MASKING UNPLEASANT ODOR AND/OR DELIVERING PLEASANT ODOR UPON EDGING AND/OR SURFACING, AND PERFUME DELIVERING LENS - 特許庁

半導体装置製造のエッジング工程において、設計段階で得られる回路依存の情報をもとに、回路的に歩留クリティカルな箇所にモニタを設置する。例文帳に追加

In an edging process of semiconductor manufacture, a monitor is installed at a place which is yield-critical in terms of circuit based upon circuit-dependent information obtained in the design stage. - 特許庁

そして、各モニタの測定結果をエッジング制御装置にフィードバックすることで設計段階での回路依存のバラツキを制御し、半導体装置の製造歩留を向上させる。例文帳に追加

Then measurement results of respective monitors are fed back to an edging controller to control the circuit-dependent variance in the design stage, and the manufacturing yield of the semiconductor device is improved. - 特許庁

厚板の圧延素材に対して行われる幅出し圧延の途中及び／又は幅出し圧延を行った後に、１パス以上エッジング圧延を行うことにより厚板を製造する方法において、幅出し圧延の終了時における板幅の目標値を、エッジング圧延による板幅方向への圧下量の設定値を加味して、設定する。例文帳に追加

In a method for producing the thick plate by performing the edge-rolling at one or more passes on the way of the tentering rolling and/or after applying the tentering rolling, a target value of the plate width at the completing time of the tentering rolling is set by additionally considering the set value of rolling-reduction amount in a plate width direction resulting from the edge-rolling. - 特許庁