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ターン優先性の英語
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英訳・英語 turn preference
「ターン優先性」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
検索者と検索対象の行動パターンの一致性も検索結果に加味させ、各ユーザが要求する可能性がある情報を優先的に提示する。例文帳に追加
To preferentially present information that each user may request by considering a behavioral pattern matching between searchers and search objects into search results. - 特許庁
吸入空気量制御装置は、変更パターンが車両加速性能を優先したスポーツモードと燃費優先のノーマルモードとに切り替えられる自動変速機３０を備える車両に搭載されている。例文帳に追加
The intake air amount control device is mounted on a vehicle having the automatic transmission 30 for switching the changing pattern between a sport mode in favor of the vehicular acceleration performance and a normal mode in favor of fuel economy. - 特許庁
第２通信パターンＰ２は、第１通信パターンＰ１のときと同一のＱＰ値をとるとともに低い電波出力Ｖ２及び短い時間間隔Ｔ２をとるパターンに設定され、通信の応答性が優先されている。例文帳に追加
The second communication pattern P2 is set as the pattern setting a QP value identical with that of the first communication pattern P1 and setting low radio output V2 and a short time interval T2, placing priority on the responsiveness of the communication. - 特許庁
そして、パターン化した金型構造をそれぞれの安全性、生産性等の稼働状態に関する情報、製作条件を評価することで優先順位を付ける。例文帳に追加
Then, the patterned die structure is given a priority order by evaluating information related with such an operating status as safety and productivity and manufacturing conditions. - 特許庁
半導体集積回路などの電子デバイスを形成するワークの異物やパターン欠陥の検査において、電気的に不良になる可能性の欠陥を優先的に解析する方法とシステムを提供する。例文帳に追加
To provide a method and a system for preferentially analyzing a defect with the possibility of becoming an electrical failure in the inspection of the foreign matter and pattern defect of a work forming an electronic device such as a semiconductor integrated circuit. - 特許庁
車両が駐車状態の際、車外発信機１０は、高い電波出力Ｖ１及び長い時間間隔Ｔ１をとる通信パターンＰ１によって電波送信を実行し、通信成立性を優先する。例文帳に追加
When a vehicle is in a parked state, a vehicle exterior transmitter 10 performs radio wave transmission by the communication pattern P1 setting high radio output V1 and a long time interval T1, and places priority on communication establishability. - 特許庁
あるいは、入力した検査条件を優先させて検査する場合は、ダメージが生じる可能性のあるパターンを検索し、非検査領域に設定し、表示する。例文帳に追加
Alternatively, in a case that the input inspection condition is made preferential to perform inspection, a pattern having the possibility of causing damage is searched to set and display a non-inspection region. - 特許庁
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「ターン優先性」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
更に、一連の制御タスク達成に至る対話を監視し、上記認識結果に関する組合せを認識パターンとして抽出するとともに、上記認識パターンに関する制御タスクを抽出する認識特性抽出部１０９と、上記認識パターンと上記認識パターンに関する制御タスクに基づいて、上記制御タスクを優先させる辞書制御部１１１とを備えている。例文帳に追加
The device further includes a recognition feature extraction part 109 which monitors a series of conversations leading to control task attainment to extract a combination related to the recognition result as a recognition pattern, and extracts a control task related to the recognition pattern; and a dictionary control part 11 which prioritizes the control task based on the recognition pattern and the control task for the recognition pattern. - 特許庁
画像処理装置１０１は、入力画像を所定の領域に分割する画像分割部１０２と、画像分割部１０２により分割された分割画像の中からパターンの検出できる可能性が高い領域を優先的に選択する領域選択部１０３と、領域選択部１０３により選択された領域に対してパターンの検出処理を行うパターン検出処理部１０４とを有する。例文帳に追加
An image processing device 101 has an image dividing portion 102 for dividing an input image into predetermined areas, an area selecting portion 103, preferentially selecting an area having a high possibility of detecting a pattern from the divided images divided by the image dividing portion 102, and a pattern detection processing portion 104, for performing pattern detection processing to the area selected by the area-selecting portion 103. - 特許庁
顕著性マップは、センサ手段から収集された奥行き情報に基づいて実施される視差顕著性選択からの重み付きのコントリビューションを含み、これにより、センサ手段の環境内の定義された身体近接空間内に存在するパターンに重み付きの優先度が割り振られる。例文帳に追加
The conspicuity map includes weighted contribution from parallax conspicuity selection to be performed based on the depth information collected from the sensor means, thereby a weighted priority is assigned to the pattern within a body proximity space defined in an environment of the sensor means. - 特許庁
半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。例文帳に追加
To provide a technology of which polishing speed is not so dependent on pattern when the surface of a silicon dioxide material layer to be polished is subjected to polishing, and by which a convex can be preferentially polished while suppressing polishing of a concave and the surface thereof can be highly flattened by a very small quantity of polishing. - 特許庁
半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。例文帳に追加
To provide a technique for preferentially polishing a projection under the control for polishing of a recess and for highly flattening polishing surface with extraordinary small quantity of polishing work, with less dependence on pattern of polishing velocity on the occasion of polishing the surface to be polished of a material layer of the silicon dioxide system during manufacture of a semiconductor integrated circuit device. - 特許庁
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