トポ化学の英語

グラフト重合により基体表面に配設したグラフトポリマー層を構成するグラフトポリマー鎖が別種のモノマーまたはオリゴマーとの共重合体により膜厚方向に化学組成が多層構造化されているナノ構造機能体とする。例文帳に追加

This nano structure functional material is obtained by converting a chemical composition of a graft polymer chain constituting a graft polymer layer arranged on the substrate surface by graft polymerization in the film thickness direction into a multilayered structure with a copolymer with a monomer or an oligomer of a different kind. - 特許庁

レジストポリマーは、酸の存在下に添加剤と化学的に反応して、水性アルカリ性現像液に不溶性である非架橋性生成物を発生するように適合される。例文帳に追加

The resist polymer is adapted to chemically react with the additive in the presence of the acid to generate a non-crosslinking reaction product that is insoluble in an aqueous alkaline developer solution. - 特許庁

上記の化学式で表されるパーフルオロスルホン酸基を側鎖に有する高分子４フッ化エチレン（デュポン社「Nafion（登録商標）」）の繰り返し単位からなるグラフトポリマーを主成分とした超親水性塗料組成物である。例文帳に追加

The super hydrophilic coating composition contains, as the main ingredient, a graft polymer comprising a tetrafluoroethylene polymer having perfluorosulfonic acid groups expressed by the formula in the side chains (Dupont Company Nafion (R)). - 特許庁

化学増幅型レジストの反応阻害物質によるレジストポイゾニングの発生を抑え、信頼性が高い配線構造を有する半導体装置を実現できるようにする。例文帳に追加

To realize a semiconductor device with a highly reliable interconnection structure by restraining generation of resist poisoning due to a reaction blocking material of a chemical amplification type resist. - 特許庁

本発明は、ポリカルボン酸またはその塩の側鎖にオリゴアルキレングリコール類および／または多価アルコール類とが化学的に結合したグラフトポリマーを含有することを特徴とする乾燥収縮低減型セメント分散剤、ならびにポリカルボン酸またはその塩の側鎖にオリゴアルキレングリコール類および／または多価アルコール類と、ポリアルキレングリコールあるいはその誘導体とが化学的に結合したグラフトポリマーを含有することを特徴とする乾燥収縮低減型セメント分散剤。例文帳に追加

The drying shrinkage-reducing cement dispersant contains a graft polymer in which oligoalkylene glycols and/or polyhydric alcohols are chemically bonded to the side chain of the polycarboxylic acid or its salt or contains a graft polymer in which oligoalkylene glycols and/or polyhydric alcohols and a polyalkylene glycol or its derivative are chemically bonded to the side chain of the polycarboxylic acid or its salt. - 特許庁

フォトポリマー層１１の両主面側に、このフォトポリマー層１１による化学反応を回避する機能を有し、かつ光学的に透明なバリア層１２、１３を具備し、少なくともいずれか一のバリア層側に、光学的に透明で等方な非晶性の支持体１５が配されてなる構成を有するホログラム記録媒体１０を提供する。例文帳に追加

The hologram recording medium 10 is constituted so that the barrier layers 12, 13 which have a function of avoiding chemical reaction by a photopolymer layer 11 and are optically transparent are disposed on both of the main surface sides of the photopolymer layer 11 and a substrate 15 which is optically transparent, isotropic and amorphous is disposed on at least either side of the barrier layer sides. - 特許庁

電気化学的センサーへの使用のためのレドックスポリマーは、疎水性ポリマー主鎖(例、疎水性ポリ（メチルメタクリレート)ポリマー主鎖)および前記疎水性ポリマー主鎖に結合した少なくとも1個の親水性ポリマーアーム(親水性オリゴ(N-ビニルピロリジノン)ポリマーアーム)を含む。例文帳に追加

This redox polymer for use in the electrochemical sensor contains a hydrophobic polymer backbone (e.g., hydrophobic poly-(methylmethacrylate) polymer chain) and at least one hydrophilic polymer arm (hydrophilic oligo (N-vinylpyrrolidinon) polymer arm) coupled with the hydrophobic polymer backbone. - 特許庁

本発明は、スマート・カット（登録商標）法のようなイオン注入ステップ、ボンディング・ステップ及び剥離ステップに基づく層転写プロセスによって生じる基板の周辺領域に隆起残余トポグラフィーを備える半導体装置の境界の化学的機械的研磨装置に関する。例文帳に追加

This invention relates to a device for chemical and mechanical polishing of the boundary of a semiconductor device, including a protruding residual topography in a peripheral region of a substrate resulting from a layer transfer process based on an ion implantation step, a bonding step and a detachment step, such as a Smart-Cut (R) method. - 特許庁