リムマの英語

19世紀のドイツで，ウィル・グリム(マット・デイモン)と彼の弟ジェイク(ヒース・レジャー)は村から村へと旅している。例文帳に追加

In 19th-century Germany, Will Grimm (Matt Damon) and his brother Jake (Heath Ledger) travel from village to village.発音を聞く  - 浜島書店 Catch a Wave

交互型位相反転マスクとハーフトーン位相反転トリムマスクとを含む高集積回路素子製造用マスクセットを提供する。例文帳に追加

To provide a mask set for manufacturing a highly integrated circuit device, the mask set including an alternate phase inversion mask and a halftone phase inversion trim mask. - 特許庁

ハーフトーン位相反転トリムマスクは透明基板上に形成されてアクセス配線が消されることを防止する第２不透明パターンと前記アクセス配線と連結されるパス配線を定義するハーフトーンパターンとを含む。例文帳に追加

The halftone phase inversion trim mask contains: a second opaque pattern formed on the transparent substrate to prevent the access line from erasing; and a halftone pattern which defines a bus line connected to the access line. - 特許庁

ゲート領域に対応する位置に配置されるクロムマスク及びフィールドポリ領域に対応する位置に配置される位相反転マスクを含むトリムマスク。例文帳に追加

A trim mask comprises a chrome mask which is arranged on the position corresponding to a gate region and a phase inversion mask which is arranged on the position corresponding to a field poly region. - 特許庁

二重露光プロセスでＣＤの均一性を改良するために、トリムマスク上に散乱バーを設ける方法を含む改良型の相補型移相マスク（ｃ：ＰＳＭ）描像技術について述べる。例文帳に追加

To provide improved complementary phase shift mask (c:PSM) imaging techniques including a method in which scattering bars are provided on the trim mask in order to allow better CD (critical dimensions) uniformity to be achieved in the double exposure process. - 特許庁

光学近接効果補正を実現するように等密度バイアスを補償するために、トリム露光線量を調整したり、トリムマスク上で使用するトリム幅を最適化したりすることができる。例文帳に追加

The trim exposure dose can be regulated, and/or the trim width used on the trim mask can be optimized, to compensate for iso-dense bias so as to achieve optical proximity effect correction. - 特許庁

位相シフタ２１が形成されたレベンソン位相シフトマスクが照明されることで生ずるシフタパターン像１２１と、トリムパターン３１が形成されたトリムマスクが照明されることで生ずるトリムパターン像１３１とが、ゲート電極１１ａから離れる方向へ延長する位置にて互いに重ならないように、その位相シフタ２１を延長する。例文帳に追加

A phase shifter 21 is extended in such a manner that a shifter pattern image 121 produced by illuminating the Levenson phase shift mask having the phase shifter 21 formed thereon and a trim pattern image 131 produced by illuminating a trim mask having a trim pattern 31 formed thereon do not overlap with each other at a position extended in a direction distancing from a gate electrode 11a. - 特許庁