乾式排気の英語

乾式エッチング装置用排気エレクトロ—ド及び半導体装置製造用乾式エッチング装置の工程チャンバ—例文帳に追加

DRY ETCHING DEVICE EXHAUST ELECTRODE AND PROCESS CHAMBER OF FETCHING DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

本発明微粉末用集塵機は、粉塵を含む混合気体を取り込み粉塵を回収して気体を排気する乾式集塵機50と、乾式集塵機50の排気側に取り付けられる湿式集塵機1とを具える。例文帳に追加

This dust collector for fine powder comprises a dry type dust collector 50 which takes in mixed gas containing dusts, recovers the dust and discharges the gas and a wet type dust collector 1 which is attached to the discharge side of the dry type dust collector 50. - 特許庁

ウェーハ上でのプラズマの形成を均一にし、また工程チャンバーが占める体積を減らす乾式エッチング装置用排気エレクトロード及び半導体装置製造用乾式エッチング装置の工程チャンバーを提供する。例文帳に追加

To provide a dry etching device exhaust electrode which makes uniform formation of plasma on a wafer and reduces a volume occupied by a process chamber, and the process chamber of a semiconductor device manufacturing dry etching device. - 特許庁

本発明による乾式エッチング装置用排気エレクトロード１１は、ウェーハ５が置かれる電極板１２を支持する電極ハウジング１３の側壁に多数の排気口１４を対称的に形成させて、排気口１４を管連結口１５に連結させてなる。例文帳に追加

In a dry etching device exhaust electrode 11, a plurality of exhaust ports 14 are formed symmetrically on the sidewall of an electrode housing 13 for supporting an electrode plate 12 on which a wafer is mounted, and the exhaust port 14 is coupled to a pipe connection port 15. - 特許庁

自動車等の内燃機関から排出される排気ガスをできるだけ完全に浄化し、特に乾式の触媒装置を通過した後の排気ガス中の一酸化炭素、炭化水素または微細なカーボン粒子などの含有量を可及的に少なくすることである。例文帳に追加

To clean the exhaust gas discharged from an internal combustion engine of a car or the like as perfectly as possible and to reduce the content of carbon monoxide, hydrocarbon or fine carbon particles especially in exhaust gas that has passed through a dry catalyst device to the utmost. - 特許庁

ロータリーキルン１から排出された排気ガスは冷却塔５で廃液あるいは廃液と水との混合液を噴射することにより急冷された後、乾式サイクロン６で分級される。例文帳に追加

The exhaust gas discharged from a rotary kiln 1 is rapidly cooled by injection of waste-liquid or mixture of water and waste-liquid, and classified in a dry cyclone 6. - 特許庁

プラズマチャンバ１内は真空ポンプ６，７により排気され、この排ガスは分離供給部９からの希釈ガスにより希釈された後、希釈排ガスとなって乾式精製部８に供給される。例文帳に追加

The plasma chamber 1 is evacuated by means of vacuum pumps 6 and 7 and the exhaust gas is diluted by dilute gas from a separating/supplying section 9 before being supplied as diluted exhaust gas to a dry refining section 8. - 特許庁