共蒸着の英語

ホスト蒸着材料に対するゲスト蒸着材料のドーピング比率を正確に保持しながら、被蒸着体に共蒸着することができる真空蒸着方法を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum vapor deposition method for performing co-deposition on a body for vapor deposition while correctly maintaining the doping ratio of a guest vapor deposition material to a host vapor deposition material. - 特許庁

共蒸着の濃度比率を正確に制御しながら蒸着を行なうことができる真空蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum deposition system capable of performing vapor deposition while correctly controlling the concentration ratio of co-vapor deposition. - 特許庁

クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。例文帳に追加

To correctly measure the vapor deposition rate of each vapor deposition source in multiple co-evaporation by avoiding cross-talk. - 特許庁

この蒸着用複合材料を真空蒸着することにより、純アルミニウムの第１の蒸着層とその上に形成されたアルミニウムとカーボンとの共蒸着層とを有するメタルバック膜が得られる。例文帳に追加

By subjecting the composite material for vapor deposition to vacuum deposition, a metal back film having a first vapor deposited layer of pure aluminum and a co-vapor deposited layer of aluminum and carbon formed thereon can be obtained. - 特許庁

次にゲスト蒸着材料３の加熱温度を保持したまま、ホスト蒸着材料２を加熱して蒸発させると共に膜厚計６で時間当りのホスト蒸着材料２の蒸着膜厚を測定し、膜厚計６で測定されるホスト蒸着材料２の単位時間当りの蒸着膜厚に対する上記のゲスト蒸着材料３の単位時間あたりの蒸着膜厚の比がホスト蒸着材料２に対するゲスト蒸着材料３のドーピング比率に一致するよう、ホスト蒸着材料２の加熱温度を制御する。例文帳に追加

The heating temperature of the host vapor deposition material 2 is controlled so that the ratio of the thickness of the vapor-deposited film per unit time of the guest vapor deposition material 3 to be measured by the film thickness gauge 6 to that of the host vapor deposition material 2 agrees with the doping ratio of the guest vapor deposition material 3 to the host vapor deposition material 2. - 特許庁

蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。例文帳に追加

To provide an evaporation doner substrate that makes it possible to evaporate only a desired evaporation material in the case of performing deposition by an evaporation method, thus the use efficiency of an evaporation material can be increased resulting in reduction in production cost, and further a film with high uniformity can be deposited. - 特許庁

ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置例文帳に追加

IONIZED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING HELICAL MAGNETIC RESONANCE COIL - 特許庁