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内拡度の英語
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「内拡度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 954件
また、高濃度ハロ拡散層15内に、n+型エクステンション拡散層13が形成されている。例文帳に追加
In addition, an n^+-type extension diffusion layer 13 is formed within the high-concentration halogen diffusion layer 15. - 特許庁
拡散炉の内部の温度を正確に測定することができる拡散炉用熱電対を得る。例文帳に追加
To provide a thermocouple for a diffusion furnace capable of accurately measuring the temperature inside the diffusion furnace. - 特許庁
その導電型の第一高濃度拡散区、第一導電型と相反する第二導電型の第二高濃度拡散区、第二導電型の第三高濃度拡散区、及び第一導電型の第四高濃度拡散区は、井戸内に位置する。例文帳に追加
A field oxidized layer isolates first and second high concentration diffusion regions from third and fourth high concentration diffusion regions. - 特許庁
p^-拡散領域5内には、このp^-拡散領域5よりも高濃度のp型の不純物を含むp拡散領域20が複数個形成される。例文帳に追加
Within the p^- diffusion region 5, a plurality of p diffusion regions 20 containing p-type impurities are formed, which have high concentration as compared with the p^- diffusion region 5. - 特許庁
明瞭度が低下することなく区画毎に適切な内容の拡声放送が可能な拡声放送システムおよび拡声放送装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a loudspeaking broadcast system and a louodspeaking broadcast apparatus capable of making loudspeaking broadcast with proper contents to each section without decreasing the articulation. - 特許庁
更に拡大ボタンが押下されると、選択された番組の時間枠を拡大して詳細内容が見える程度に拡大表示される。例文帳に追加
When the magnification button is depressed once more, the image is displayed with magnification to a degree viewable of detailed contents by magnifying the time frame of the selected program. - 特許庁
第2不純物拡散層206-12内の不純物の濃度勾配は、第1不純物拡散層206-10内の不純物の濃度勾配と等しい。例文帳に追加
The concentration gradient of the impurity in the second impurity diffusion layer 206-12 equals the concentration gradient of the impurity in the first impurity diffusion layer 206-10. - 特許庁
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「内拡度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 954件
炉内へのバインダーガスの拡散がなく、温度分布も均一化される。例文帳に追加
The diffusion of an inverter gas to the furnace is eliminated and the temperature distribution is also made uniform. - 特許庁
拡散度可変素子4で拡散度を変えることにより光源から発せられた光の同一面内での輝度を局部的に増減させる。例文帳に追加
By varying the diffusivity with the diffusivity-variable element 4, a coplanar luminance of light emitted from the light sources is increased and decreased locally. - 特許庁
重複する拡散角度領域内に入射し拡散された光全体の強度が、積層した拡散フィルム全体の拡散光強度の5%以上であることが好ましい。例文帳に追加
It is desirable to set the intensity of the entire light diffused after it is made incident on the superposed diffusion angle areas to ≥5% of the intensity of diffused light of the entire laminated diffusion films. - 特許庁
あるいは第1孔型でフランジ傾斜角度を拡大し、かつウェブ内法を拡幅した後、フランジ傾斜角度よりも内側面の傾斜角度が小さい孔型によりウェブ内法拡幅圧延を行う。例文帳に追加
Alternatively, after the flange angle of gradient is expanded by the first hole die and the web internal dimension is also expanded, the web internal dimension is expanded and rolled by a hole die having a smaller angle of gradient in the internal side surface than the flange angle of gradient. - 特許庁
次に、第2の拡散工程において、上記拡散層源12からウェーハ内部に不純物を熱拡散させ、ウェーハ11の上記径方向に拡散深さが増大する高濃度不純物拡散層19を形成する。例文帳に追加
Next, in a second diffusion step, the impurities are thermally diffused from the diffusion layer source 12 to inside the wafer, and a heavily-doped impurity diffusion layer 19, which increases a diffusion depth in the diametric direction of the wafer 11, is formed. - 特許庁
ホーニング加工装置の砥石径を初期拡径速度V0で拡径し、砥石とワーク内周面との接触圧Pが第1の接触圧P1に達した時点で拡径速度を初期拡径速度V0よりも低い第1の加工用拡径速度V1に下げる。例文帳に追加
The grinding stick diameter of a honing device is enlarged at initial diameter enlarging speed VO, and at the moment when the contact pressure P between the grinding stick and the inner peripheral surface of a workpiece reaches the first contact pressure P1, the diameter enlarging speed is lowered to the first machining diameter enlarging speed V1 lower than the initial diameter enlarging speed V0. - 特許庁
拡径治具10が拡径支持用心材13を内蔵できるので、予め拡径治具10に拡径支持用心材13を内蔵しておき、拡径支持用心材13を被覆材1に貫通させることにより、被覆材1の拡径から被覆まで一度で行うことができ、作業性が向上すると共に生産コストの低減を図ることができる。例文帳に追加
Since the jig 10 can contain the material 13, the material 13 is previously contained in the jig 10, and the material 13 is passed through the material 1 to radially enlarge and coat with the material 1 at once, thereby improving operability and reducing the production cost. - 特許庁
高濃度不純物拡散層と非拡散層の2層構造の拡散ウェーハ製造において、非拡散層内の転位密度を所要レベルに簡便にしかも自在に調節する。例文帳に追加
To easily and freely adjust dislocation density in a non-diffusion layer to a required level, in manufacturing of a diffusion wafer having a double structure of a heavily-doped impurity diffusion layer and the non-diffusion layer. - 特許庁
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