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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「内拡度」の英訳

内拡度


「内拡度」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 954



例文

また、高濃ハロ散層15に、n+型エクステンション散層13が形成されている。例文帳に追加

In addition, an n^+-type extension diffusion layer 13 is formed within the high-concentration halogen diffusion layer 15. - 特許庁

散炉の部の温を正確に測定することができる散炉用熱電対を得る。例文帳に追加

To provide a thermocouple for a diffusion furnace capable of accurately measuring the temperature inside the diffusion furnace. - 特許庁

その導電型の第一高濃散区、第一導電型と相反する第二導電型の第二高濃散区、第二導電型の第三高濃散区、及び第一導電型の第四高濃散区は、井戸に位置する。例文帳に追加

A field oxidized layer isolates first and second high concentration diffusion regions from third and fourth high concentration diffusion regions. - 特許庁

p^-散領域5には、このp^-散領域5よりも高濃のp型の不純物を含むp散領域20が複数個形成される。例文帳に追加

Within the p^- diffusion region 5, a plurality of p diffusion regions 20 containing p-type impurities are formed, which have high concentration as compared with the p^- diffusion region 5. - 特許庁

明瞭が低下することなく区画毎に適切な容の声放送が可能な声放送システムおよび声放送装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a loudspeaking broadcast system and a louodspeaking broadcast apparatus capable of making loudspeaking broadcast with proper contents to each section without decreasing the articulation. - 特許庁

更に大ボタンが押下されると、選択された番組の時間枠を大して詳細容が見える程大表示される。例文帳に追加

When the magnification button is depressed once more, the image is displayed with magnification to a degree viewable of detailed contents by magnifying the time frame of the selected program. - 特許庁

例文

第2不純物散層206-12の不純物の濃勾配は、第1不純物散層206-10の不純物の濃勾配と等しい。例文帳に追加

The concentration gradient of the impurity in the second impurity diffusion layer 206-12 equals the concentration gradient of the impurity in the first impurity diffusion layer 206-10. - 特許庁

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「内拡度」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 954



例文

へのバインダーガスの散がなく、温分布も均一化される。例文帳に追加

The diffusion of an inverter gas to the furnace is eliminated and the temperature distribution is also made uniform. - 特許庁

可変素子4でを変えることにより光源から発せられた光の同一面での輝を局部的に増減させる。例文帳に追加

By varying the diffusivity with the diffusivity-variable element 4, a coplanar luminance of light emitted from the light sources is increased and decreased locally. - 特許庁

重複する散角領域に入射し散された光全体の強が、積層した散フィルム全体の散光強の5%以上であることが好ましい。例文帳に追加

It is desirable to set the intensity of the entire light diffused after it is made incident on the superposed diffusion angle areas to5% of the intensity of diffused light of the entire laminated diffusion films. - 特許庁

あるいは第1孔型でフランジ傾斜角大し、かつウェブ法を幅した後、フランジ傾斜角よりも側面の傾斜角が小さい孔型によりウェブ幅圧延を行う。例文帳に追加

Alternatively, after the flange angle of gradient is expanded by the first hole die and the web internal dimension is also expanded, the web internal dimension is expanded and rolled by a hole die having a smaller angle of gradient in the internal side surface than the flange angle of gradient. - 特許庁

次に、第2の散工程において、上記散層源12からウェーハ部に不純物を熱散させ、ウェーハ11の上記径方向に散深さが増大する高濃不純物散層19を形成する。例文帳に追加

Next, in a second diffusion step, the impurities are thermally diffused from the diffusion layer source 12 to inside the wafer, and a heavily-doped impurity diffusion layer 19, which increases a diffusion depth in the diametric direction of the wafer 11, is formed. - 特許庁

ホーニング加工装置の砥石径を初期径速V0で径し、砥石とワーク周面との接触圧Pが第1の接触圧P1に達した時点で径速を初期径速V0よりも低い第1の加工用径速V1に下げる。例文帳に追加

The grinding stick diameter of a honing device is enlarged at initial diameter enlarging speed VO, and at the moment when the contact pressure P between the grinding stick and the inner peripheral surface of a workpiece reaches the first contact pressure P1, the diameter enlarging speed is lowered to the first machining diameter enlarging speed V1 lower than the initial diameter enlarging speed V0. - 特許庁

径治具10が径支持用心材13を蔵できるので、予め径治具10に径支持用心材13を蔵しておき、径支持用心材13を被覆材1に貫通させることにより、被覆材1の径から被覆まで一で行うことができ、作業性が向上すると共に生産コストの低減を図ることができる。例文帳に追加

Since the jig 10 can contain the material 13, the material 13 is previously contained in the jig 10, and the material 13 is passed through the material 1 to radially enlarge and coat with the material 1 at once, thereby improving operability and reducing the production cost. - 特許庁

例文

高濃不純物散層と非散層の2層構造の散ウェーハ製造において、非散層の転位密を所要レベルに簡便にしかも自在に調節する。例文帳に追加

To easily and freely adjust dislocation density in a non-diffusion layer to a required level, in manufacturing of a diffusion wafer having a double structure of a heavily-doped impurity diffusion layer and the non-diffusion layer. - 特許庁

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「内拡度」の英訳に関連した単語・英語表現
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