半導体物性の英語

被測定薄膜の物性値を半導体装置の薄膜の物性値に近いものとし、信頼性に優れた半導体装置の熱的設計を可能にする。例文帳に追加

To enable thermal design of a semiconductor device having superior reliability by approximately physical values of a thin film to be measured to that of the thin film of a semiconductor device. - 特許庁

レジストが形成されている半導体にイオンの導入すると、イオンとレジストの成分とが反応してガス（解離ガス）が発生し、解離ガスの成分が半導体に導入され、該半導体の物性を低下させる要因となっている。例文帳に追加

To solve a problem of ion introduction onto a semiconductor formed with a resist that causes a factor to deteriorate the properties of the semiconductor because a reaction between ions and a component of the resist generates a gas (dissociated gas) resulting in that the component of the dissociated gas is introduced into the semiconductor. - 特許庁

ハロゲン系化合物やリン系難燃剤を添加せずに、他の物性に悪影響を及ぼすことなく、ＵＬ９４試験において幅広い厚みでの高度な難燃性効果を有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを用いて半導体素子を封止してなる半導体装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an epoxy resin composition for sealing a semiconductor, which has a high flame-retarding effect at a thickness in a wide range in the UL94 test by adding neither a halogen compound nor a phosphorus-containing flame retardant without adversely influencing other physical properties, and a semiconductor device made by using it for sealing a semiconductor element. - 特許庁

結晶性シリコン層を用いた半導体装置の製造方法において、安価なガラス基板を使用すること、良好な半導体物性を有する結晶性シリコン層を形成すること、さらにスループットを改善することを目的とする。例文帳に追加

To use an inexpensive glass substrate, form a crystalline silicon layer having proper semiconductor physical properties and further improve the throughput, in a method of manufacturing a semiconductor device which uses crystalline silicon layers. - 特許庁

機械的物性、熱安定性、亀裂に対する抵抗性及び低誘電性に優れたシロキサン系樹脂を提供し、これを半導体層間絶縁膜の形成に適用して低誘電性半導体層間絶縁膜を提供する。例文帳に追加

To provide a siloxane-based resin excellent in mechanical properties, heat stability, crack resistance and low permittivity, and to provide a semiconductor interlayer insulating film having low permittivity by applying the resin for forming the semiconductor interlayer insulating film. - 特許庁

優れた機械的物性及び低い誘電率を有するシロキサン系樹脂を提供し、これを半導体層間絶縁膜の形成に適用することにより低誘電率半導体層間絶縁膜を提供する。例文帳に追加

To provide a siloxane-based resin having a low dielectric constant in addition to excellent mechanical properties and to provide an interlayer insulating film with low dielectric constant for semiconductor by using the same in formation of the interlayer insulating film for the semiconductor. - 特許庁

前記加熱処理により基板が収縮するため、半導体膜に形成された歪みが緩和され、該半導体膜の物性を向上することを可能とする。例文帳に追加

As a substrate is shrunk by the heat treatment, the distortion formed in the semiconductor film is relaxed and it is enabled to raise the physical properties of the semiconductor film. - 特許庁

異なる物性を持った液体を配管内で混合可能な半導体ウェハの研磨装置、継手、および撹拌コマを提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor wafer polishing apparatus capable of mixing liquids having respectively different physical properties in piping, and to provide a joint and a stirring top included in the polishing apparatus. - 特許庁