応力密度の英語

圧縮応力層１２２は、高密度プラズマ（ＨＤＰ）堆積方法を使用して堆積された高応力窒化珪素を含むことができる。例文帳に追加

The compressive stress layer 122 may include a high stress silicon nitride deposited using a high density plasma (HDP) deposition method. - 特許庁

大きな曲げ応力や軸応力がかかっても、高密度ポリエチレン管がフランジ管継手から抜落しない管接合部の構造を提供する。例文帳に追加

To prevent falling of a polyethylene pipe from a flange fitting even when large bending stress or axial stress is applied. - 特許庁

次に、応力σが相当応力σξであるときのＢ−Ｈ曲線において、磁界の大きさがＨ_0のときの各微小領域ｓの磁束密度ベクトルＢの大きさＢ_1を、「相当応力σξに対応する磁束密度の大きさ」として求める。例文帳に追加

Then, the size B_1 of the magnetic density vector B in each fine region s when the size of a magnetic field is H_0 in the B-H curve when the stress σ is the equivalent stress σξ is determined as the size of magnetic flux density corresponding to the equivalent stress σξ. - 特許庁

パルス静電応力法により３次元の電荷密度分布を測定することのできる３次元電荷分布測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a three-dimensional charge distribution measuring device capable of measuring a three-dimensional charge density distribution by a pulse electrostatic stress method. - 特許庁

低応力及び低欠陥密度の導電性貫通ビアを備えたシリコン・キャリアの製造方法及び該キャリアを有する半導体デバイス例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARRIER EQUIPPED WITH CONDUCTIVE THROUGH-VIA WITH LOW STRESS AND LOW DEFECT DENSITY, AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE CARRIER - 特許庁

その磁束密度分布がその曲線形状を示すときはその応力集中部からその曲線形状の頂点までの距離を求める。例文帳に追加

When the magnetic flux density distribution shows the curved shape, the distance from the stress concentration part to the top of the curved shape is measured. - 特許庁

前記ガスケット基材を形成する弾性体は、密度０．０５〜１．０ｇ／ｃｍ^３、２５％圧縮応力０．０５ＭＰａ〜２ＭＰａである。例文帳に追加

The elastic body to be formed into the gasket base material has the density of 0.05-1.0 g/cm^3 and 25% compressive stress of 0.05 MPa-2 MPa. - 特許庁

被処理体の表面に高密度で且つ高い応力のシリコン酸化膜を形成することが可能な成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film forming method capable of forming a silicon oxide film having a high density and a high stress on a workpiece surface. - 特許庁