stress densityとは 意味・読み方・使い方

Density of pads in a chip central part wherein the concentration of stress is made higher than density of pads in a chip peripheral part.例文帳に追加

また、応力の集中するチップ中央部のパッドの密度を、チップ周辺部のパッドの密度より高くする。 - 特許庁

For example, density of a pad 30 in a peripheral part of a chip 10 wherein concentration of stress is made higher than density of pads in a chip central part.例文帳に追加

例えば、応力の集中するチップ１０周辺部のパッド３０の密度を、チップ中央部のパッドの密度より高くする。 - 特許庁

Then, the size B_1 of the magnetic density vector B in each fine region s when the size of a magnetic field is H_0 in the B-H curve when the stress σ is the equivalent stress σξ is determined as the size of magnetic flux density corresponding to the equivalent stress σξ.例文帳に追加

次に、応力σが相当応力σξであるときのＢ−Ｈ曲線において、磁界の大きさがＨ_0のときの各微小領域ｓの磁束密度ベクトルＢの大きさＢ_1を、「相当応力σξに対応する磁束密度の大きさ」として求める。 - 特許庁

Further, the plate spring has an apparent density of 0.1-0.7 g/cm^3, a maximum bending stress at least in one direction is 0.5 MPa or more, and bending stress in bending quantity of 1.5 times with respect to the bending quantity showing the maximum bending stress may be half or more with respect to the maximum bending stress.例文帳に追加

また、０．１〜０．７ｇ／ｃｍ^3の見掛け密度を有し、少なくとも一方向における最大曲げ応力が０．５ＭＰａ以上であり、最大曲げ応力を示す曲げ量に対して１．５倍の曲げ量における曲げ応力が、最大曲げ応力に対して１／２以上であってもよい。 - 特許庁

To reduce stress in a developer, stabilize toner chargeability and prevent uneven toner density in a development device using a two-component developer.例文帳に追加

二成分現像剤を用いた現像装置において、現像剤のストレスを低減し、トナー帯電性の安定化とトナー濃度ムラを防止すること。 - 特許庁

To provide a three-dimensional charge distribution measuring device capable of measuring a three-dimensional charge density distribution by a pulse electrostatic stress method.例文帳に追加

パルス静電応力法により３次元の電荷密度分布を測定することのできる３次元電荷分布測定装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARRIER EQUIPPED WITH CONDUCTIVE THROUGH-VIA WITH LOW STRESS AND LOW DEFECT DENSITY, AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE CARRIER例文帳に追加

低応力及び低欠陥密度の導電性貫通ビアを備えたシリコン・キャリアの製造方法及び該キャリアを有する半導体デバイス - 特許庁

When the magnetic flux density distribution shows the curved shape, the distance from the stress concentration part to the top of the curved shape is measured.例文帳に追加

その磁束密度分布がその曲線形状を示すときはその応力集中部からその曲線形状の頂点までの距離を求める。 - 特許庁