未照射～の英語

データ処理システム５は、検出された散乱線データから吸収線量データを取得し、吸収線量データと照射計画をもとに、既照射と未照射の照射を含む線量分布を算出する。例文帳に追加

A data processing system 5 acquires absorbed dose data from the detected scattered ray data and calculates a dose distribution including the irradiated and un-irradiated radiation based on the absorbed dose data and the radiation planning. - 特許庁

長日植物に光を照射して栽培するにあたり、栽培開始から１４日以下の栽培初期期間のみは夜間も照射し、該栽培初期期間の夜間の照射条件を、照射強度２klx 未満かつ照射時間１２時間以下とすることを特徴とする成長促進方法。例文帳に追加

This method for stimulating the growth of a long-day plant comprises irradiating the long-day plant with light also in night only for an initial culture period ranging from a culture-starting day to ≤14 days under conditions comprising an irradiation strength of <2 klx and an irradiation time of ≤12 hours, when the long-day plant is cultured under the irradiation of light. - 特許庁

密封容器３は、紫外線照射ランプ１と、この紫外線照射ランプ１から紫外線を受け入れて処理される未処理ガスを通過させる照射容器５とを不活性ガス雰囲気６中に保持し、上記照射容器５は、上記紫外線照射ランプ１を包囲して配置される。例文帳に追加

The hermetically sealed container 3 is constituted so that the ultraviolet irradiation lamp 1 and an irradiation container 5 receiving ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 1 to permit the untreated gas to pass while treating the same are held in an inert gas atmosphere and the irradiation container 5 is arranged so as to surround the ultraviolet irradiation lamp 1. - 特許庁

読み取り電圧を紫外線未照射のしきい値と照射後のしきい値の間に設定して読み取ることができる。例文帳に追加

Readout can be performed by setting a readout voltage between the threshold before the ultraviolet light irradiation and the threshold after irradiation. - 特許庁

ターゲット支持体23の傾斜させる方向の変更により、ターゲット22における電子ビーム16の照射点を未照射部分に変更する。例文帳に追加

By changing the direction in which the target support 23 is tilted, an irradiation point of the electron beam 16 in the target 22 is changed into a non-irradiation part. - 特許庁

照射燃料の未臨界中性子増倍体系への装荷方法及び照射燃料の実効増倍率算出方法例文帳に追加

METHOD FOR LOADING IRRADIATED FUEL INTO SUBCRITICAL NEUTRON MULTIPLICATION SYSTEM AND METHOD FOR CALCULATING EFFECTIVE MULTIPLICATION FACTOR OF IRRADIATED FUEL - 特許庁

次に、上側から、例えば、ＵＶ光を未硬化の接着層（３００ａ）に照射することによって、光照射済みの接着層（３００ｂ）を形成する。例文帳に追加

The uncured adhesive layer (300a) is then irradiated with e.g. UV rays from an upper side to form an irradiated adhesive layer (300b). - 特許庁

イオンビーム照射処理を１往復行った後、基板回転機構７０を制御し、基板２を１８０度回転させた後、イオンビーム照射装置１００に再投入し、イオンビーム照射処理未完了の範囲をイオンビーム照射し、基板の全面にイオンビーム照射させることを特徴としたイオンビーム照射方法。例文帳に追加

The present invention controls a substrate rotation mechanism 70 after one round trip of ion beam irradiation processing, inputs a substrate 2 into an ion beam irradiation device 100 again after rotating the substrate by 180 degrees, and irradiates a range where ion beam irradiation processing has not yet been completed with ion beams to irradiate the whole surface of the substrate with ion beams. - 特許庁