次亜リン酸の英語

この次亜リン酸系イオン吸着材を用いれば、次亜リン酸イオン等を単に吸着するのみならず、その脱着、回収、さらには次亜リン酸系イオン吸着材自体の再生も可能である。例文帳に追加

By using the hypophosphorous acid based ion adsorbent, not only mere adsorption of the hypophosphorous acid ions or the like, but also desorption and recovery thereof, and regeneration of the hypophosphorous acid based ion adsorbent itself are allowed. - 特許庁

またリン酸系失活剤としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、これらのアルキルエステルおよびアリールエステルからなる群から選択される化合物が好適に使用される。例文帳に追加

As the phosphoric acid-based deactivator, a compound selected from the group consisting of phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, and alkyl esters and aryl esters thereof is preferably used. - 特許庁

亜リン酸、次亜リン酸を含有する排水にジルコニウム化合物、又はジルコニウム化合物と硫酸化合物を添加し、該ジルコニウム化合物を排水中で加水分解し、引き続き該排水のｐＨを１０以下に維持することで、排水中に含まれる亜リン酸、次亜リン酸を不溶化させる。例文帳に追加

A zirconium compound or the zirconium compound and a sulfuric acid compound are added to wastewater containing phosphorous acid and hypophosphorous acid to hydrolyze the zirconium compound in wastewater and the pH of the wastewater is succeedingly held to 10 or below to insolubilize phosphorous acid and hypophosphorous acid contained in the wastewater. - 特許庁

無電解メッキの廃液等に含まれ、これまで処理困難であった次亜リン酸イオンまたは亜リン酸イオンを吸着できる次亜リン酸系イオン吸着材を提供する。例文帳に追加

To provide a hypophosphorous acid based ion adsorbent capable of adsorbing hypophosphorous acid ions or phosphorous acid ions contained in waste liquid of electroless plating or the like and difficult to be treated heretofore. - 特許庁

次亜塩素酸塩の有効利用方法、次亜塩素酸の製造方法およびクロロヒドリン系化合物の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR EFFECTIVELY UTILIZING HYPOCHLORITE, METHOD FOR MANUFACTURING HYPOCHLOROUS ACID, AND METHOD FOR MANUFACTURING CHLOROHYDRIN COMPOUND - 特許庁

ベース酸として次亜リン酸を１.３モル／Ｌ以上含有し、次亜リン酸以外の無機酸又は有機酸を含有しないか、或は、ベース酸として次亜リン酸及び補助酸を含有し、次亜リン酸の含有量が１.３モル／Ｌ以上であり、補助酸の含有量が０.５モル／Ｌ以下である無電解スズメッキ浴である。例文帳に追加

The electroless tin plating bath contains hypophosphorous acid of ≥1.3 mol/L as basic acid, does not contain inorganic acid other than hypophosphorous acid or organic acid, or contains hypophosphorous acid and auxiliary acid as basic acid, wherein hypophosphorous acid of ≥1.3 mol/L is contained, and auxiliary acid of ≤0.5 mol/L is contained. - 特許庁

本発明は、無電解ニッケルめっき水溶液を提供し、この溶液は、以下：（Ａ）アルキルスルホン酸のニッケル塩、ならびに（Ｂ）次亜リン酸またはその浴可溶性の塩であって、この浴可溶性の塩は、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム、および次亜リン酸アンモニウムから選択される塩である、次亜リン酸またはその浴可溶性の塩、を含有し、ここで、この溶液には、次亜リン酸ニッケルが添加されておらず、そして不溶性のオルト亜リン酸塩を形成し得るアルカリ金属イオンもアルカリ土類金属イオンも含まれない。例文帳に追加

The aqueous electroless nickel plating solution comprises (A) a nickel salt of an alkyl sulfonic acid, and (B) hypophosphorous acid or a bath soluble salt thereof selected from sodium hypophosphite, potassium hypophosphite and ammonium hypophosphite, wherein the solution contains no added nickel hypophosphite, and is free from alkali or alkaline earth metal ions capable of forming insoluble orthophosphite. - 特許庁

（Ａ）オルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、次亜リン酸、亜リン酸又はこれらの塩よりなるリン酸類と、（Ｂ）脂肪族カルボン酸と、（Ｃ）有機スルホン酸とを含有する前処理液を調製し、上記前処理液に被メッキ物を浸漬する無電解スズ系メッキの前処理方法である。例文帳に追加

In the pretreatment to electroless tin based plating, a pretreatment liquid comprising (A) phosphoric acids selected from orthophosphoric acid, metaphosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, hypophosphoric acid, phosphorous acid or their salts, (B) an aliphatic carboxylic acid, and (C) an organic sulfonic acid is prepared, and the object to be plated is dipped into the pretreatment liquid. - 特許庁