線間容量の英語

ビット線寄生容量Ｃｋ１は、ビット線ＢＬと低電位側電源（接地電位）の間に形成される寄生容量であり、隣接ビット線間の容量やメモリセルトランジスタの拡散層容量などから構成される。例文帳に追加

The bit line parasitic capacitance Ck1 is the parasitic capacitance formed between the bit line BL and low voltage power supply (ground potential), and consists of a capacitance between adjacent bit lines and a diffusion layer capacitance of memory cell transistors. - 特許庁

配線間容量を大幅に低減し、配線遅延を大幅に低減する。例文帳に追加

To substantially reduce capacitance between wiring so that wiring delay is reduced substantially. - 特許庁

ビット線間の容量及びビット線の抵抗を構造面から低減する。例文帳に追加

To reduce a capacity between bit lines and resistance of the bit line. - 特許庁

配線間容量の算出方法および配線パターンの設計支援装置例文帳に追加

CALCULATION METHOD FOR INTERCONNECT CAPACITANCE, AND DESIGN SUPPORT DEVICE FOR WIRING PATTERN - 特許庁

第１容量と第２容量とが直接的に接続される場合に第１容量と第２容量との間の接続線の電位を固定した場合にも、第１容量と第２容量との間の接続線の合計総電荷量が変化するのを防止することが可能が電位固定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a potential fixing apparatus capable of preventing a total sum charge quantity of a connecting line between a first capacity and a second capacity from changing even when the potential of a connecting line between the first capacity and the second capacity is fixed in the case where the first capacity and the second capacity are directly connected to each other. - 特許庁

映像信号線１０６HSとゲート配線３１２と間に形成される線間容量３１４の容量値が従前よりも小さくできる。例文帳に追加

The capacity value of the line capacity 314 formed between the video signal line 106HS and the gate wire 312 is made smaller than the conventional art. - 特許庁

書込走査線１０４WSと電源供給線１０５DSL と間に形成される線間容量３０２の容量値が従前よりも小さくなる。例文帳に追加

The capacity value of the line capacitance 302 formed between the write scanning line 104WS and the power supply line 105DSL is made smaller than heretofore. - 特許庁

プロセス技術の微細化に伴って大きな容量を持つようになった配線間（Ｍ１１およびＭ１２間）容量およびスルーホール間（Ｂ１１およびＢ１２間）容量を利用して、付加容量またはキャパシタを形成する。例文帳に追加

An additional capacitance or capacity is formed making use of a capacitance between interconnect lines (M11 and M12) and capacitance between through-holes (B11 and B12) that have large capacity following the advance of microfabrication in the process technology. - 特許庁