自然酸化の英語

溶存酸素濃度が極めて小さいので、自然酸化が生じない。例文帳に追加

Since the dissolved oxygen concentration is considerably low, natural oxidation can be prevented. - 特許庁

自然酸化物層が自然生成された半導体基板を、炉内またはＲＴＯ室（急速熱酸化室）に入れ、高温水素ガスを室内に導入して自然酸化物層を脱酸する。例文帳に追加

A semiconductor substrate 100, wherein a natural oxide layer 102 is naturally generated is put in a furnace or an RTO chamber (rapid thermal oxidation chamber) and a hot hydrogen gas is introduced into the chamber so that the natural oxide layer 102 is deoxidized. - 特許庁

この酸化膜の厚みは、自然酸化膜よりは大きく８０ｎｍ以下の範囲である。例文帳に追加

The oxide film is thicker than a native oxide but not thicker than 80 nm. - 特許庁

自然酸化膜を除去したウェーハの炉外への取り出しによる自然酸化膜の再形成を防ぎ、しかも自然酸化膜に含まれた不純物に起因する酸化膜の面内膜厚均一性の低下を解消する半導体ウェーハの酸化膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an oxide film on a semiconductor wafer preventing the reformation of a natural oxide film due to an extraction to the outside of the oven of the wafer from which the natural oxide film is removed, and solving the deterioration of the in-plane film-thickness uniformity of the oxide film resulting from impurities contained in the natural oxide film. - 特許庁

水系に浸漬した金属の自然電位を測定する第１自然電位測定工程と、該第１自然電位測定工程において測定した前記自然電位に基づいて、前記水系に酸化剤を発生させる酸化剤発生工程と、を少なくとも行う水系における酸化剤濃度の制御方法を提供する。例文帳に追加

The method of controlling the concentration of the oxidizing agent in the water base includes at least: performing a first natural potential measuring step of measuring the natural potential of a metal dipped in the water base; and performing an oxidizing agent generating step of generating the oxidizing agent in the water base. - 特許庁

金属の自然電位は、酸化剤濃度と正の相関性を有するため、金属の自然電位を測定し、この自然電位を一定に保つことで、酸化剤濃度を所定の範囲に制御することが可能である。例文帳に追加

The natural potential of the metal has a positive correlation with the concentration of the oxidizing agent and then, the concentration of the oxidizing agent is controllable in a prescribed range by measuring the natural potential of the metal and keeping the natural potential constant. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁

このようにすると、シリコン酸化膜３ａの下には自然酸化膜がほとんど存在しない為、シリコン酸化膜３ａの膜質が向上する。例文帳に追加

Since the native oxide layer hardly exist under the silicon oxide film 3a, film quality of the silicon oxide film 3a is enhanced. - 特許庁