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自然酸化の英語
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英訳・英語 natural oxidation
「自然酸化」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 440件
ここで、酸化物層12は自然酸化、人工酸化のどちらで形成されたものでも良い。例文帳に追加
The oxide layer 12 can be formed by naturally or artificially oxidizing the element constituting the semiconductor. - 特許庁
次に、自然酸化膜厚に基づいて熱酸化後の熱酸化膜厚規格を設定する。例文帳に追加
A thermal oxidation film thickness standard after the thermal oxidation is set on the basis of the natural oxidation film thickness. - 特許庁
ハウスマン鉱として自然に見つけられたマンガンの酸化物例文帳に追加
an oxide of manganese found naturally as hausmannite発音を聞く - 日本語WordNet
半導体製造工程における自然酸化膜除去方法例文帳に追加
NATIVE OXIDE FILM REMOVING METHOD IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS - 特許庁
この酸化膜の厚みは、自然酸化膜よりは大きく80nm以下の範囲である。例文帳に追加
The oxide film is thicker than a native oxide but not thicker than 80 nm. - 特許庁
自然界では、最大280ppmの二酸化炭素までは許容されます例文帳に追加
Nature naturally has allowed carbon dioxide to go up to 280 parts per million. - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
自然界ではコランダムとして存在する酸化アルミニウムの総称例文帳に追加
any of various forms of aluminum oxide occurring naturally as corundum発音を聞く - 日本語WordNet
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Weblio専門用語対訳辞書での「自然酸化」の英訳 |
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自然酸化
自然酸化~
「自然酸化」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 440件
アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加
A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁
自然酸化物層が自然生成された半導体基板を、炉内またはRTO室(急速熱酸化室)に入れ、高温水素ガスを室内に導入して自然酸化物層を脱酸する。例文帳に追加
A semiconductor substrate 100, wherein a natural oxide layer 102 is naturally generated is put in a furnace or an RTO chamber (rapid thermal oxidation chamber) and a hot hydrogen gas is introduced into the chamber so that the natural oxide layer 102 is deoxidized. - 特許庁
自然酸化膜の除去方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加
NATURAL OXIDE FILM REMOVING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
溶存酸素濃度が極めて小さいので、自然酸化が生じない。例文帳に追加
Since the dissolved oxygen concentration is considerably low, natural oxidation can be prevented. - 特許庁
自然酸化膜を除去したウェーハの炉外への取り出しによる自然酸化膜の再形成を防ぎ、しかも自然酸化膜に含まれた不純物に起因する酸化膜の面内膜厚均一性の低下を解消する半導体ウェーハの酸化膜形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for forming an oxide film on a semiconductor wafer preventing the reformation of a natural oxide film due to an extraction to the outside of the oven of the wafer from which the natural oxide film is removed, and solving the deterioration of the in-plane film-thickness uniformity of the oxide film resulting from impurities contained in the natural oxide film. - 特許庁
酸化処理前における基板表面の初期酸化を抑えることができるとともに、自然酸化膜を除去できるようにする。例文帳に追加
To remove a naturally oxidized film and to suppress initial oxidization of a substrate surface before oxidization processing. - 特許庁
アモルファス酸化シリコン層をフッ酸洗浄して表面の自然酸化膜を除去する必要がない。例文帳に追加
It is no longer required to remove the naturally oxidized film on the surface by cleaning the amorphous silicon oxide film with hydrofluoric acid. - 特許庁
酸化前処理工程で、シリコンウェーハをアルゴンガスの雰囲気で熱処理し、自然酸化膜を除去する。例文帳に追加
In an oxidation pre-treatment process, the silicon wafer is treated thermally in the atmosphere of an argon gas, and the natural oxide film is removed. - 特許庁
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