自然酸化の英語

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁

自然酸化物層が自然生成された半導体基板を、炉内またはＲＴＯ室（急速熱酸化室）に入れ、高温水素ガスを室内に導入して自然酸化物層を脱酸する。例文帳に追加

A semiconductor substrate 100, wherein a natural oxide layer 102 is naturally generated is put in a furnace or an RTO chamber (rapid thermal oxidation chamber) and a hot hydrogen gas is introduced into the chamber so that the natural oxide layer 102 is deoxidized. - 特許庁

自然酸化膜の除去方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

NATURAL OXIDE FILM REMOVING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

溶存酸素濃度が極めて小さいので、自然酸化が生じない。例文帳に追加

Since the dissolved oxygen concentration is considerably low, natural oxidation can be prevented. - 特許庁

自然酸化膜を除去したウェーハの炉外への取り出しによる自然酸化膜の再形成を防ぎ、しかも自然酸化膜に含まれた不純物に起因する酸化膜の面内膜厚均一性の低下を解消する半導体ウェーハの酸化膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an oxide film on a semiconductor wafer preventing the reformation of a natural oxide film due to an extraction to the outside of the oven of the wafer from which the natural oxide film is removed, and solving the deterioration of the in-plane film-thickness uniformity of the oxide film resulting from impurities contained in the natural oxide film. - 特許庁

酸化処理前における基板表面の初期酸化を抑えることができるとともに、自然酸化膜を除去できるようにする。例文帳に追加

To remove a naturally oxidized film and to suppress initial oxidization of a substrate surface before oxidization processing. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層をフッ酸洗浄して表面の自然酸化膜を除去する必要がない。例文帳に追加

It is no longer required to remove the naturally oxidized film on the surface by cleaning the amorphous silicon oxide film with hydrofluoric acid. - 特許庁

酸化前処理工程で、シリコンウェーハをアルゴンガスの雰囲気で熱処理し、自然酸化膜を除去する。例文帳に追加

In an oxidation pre-treatment process, the silicon wafer is treated thermally in the atmosphere of an argon gas, and the natural oxide film is removed. - 特許庁