銅ドープの英語

メカノルミネッセント材料は、ランタニドの錯体及びキレート化物；希土類イオンをドープしたアルミン酸塩、ケイ酸塩及びアルミノケイ酸塩；及び遷移金属又は希土類イオンをドープした硫酸亜鉛、硫酸マンガン、硫酸銅、硫酸カドミウム、酸化亜鉛から選択されるのが好ましい。例文帳に追加

The mechano-luminescent material is preferably selected from among lanthanoid complexes and chelate compounds; aluminates, silicates, and aluminosilicates, all doped with a rare earth ion; and zinc sulfate, manganese sulfate, copper sulfate, cadmium sulfate, and zinc oxide, all doped with a transition metal or a rare earth ion. - 特許庁

ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体を銅化合物及びフラックスともに焼成して該ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体に銅をドープする工程、得られた焼成物を解砕する工程、及び解砕された焼成物を洗浄する工程を含む蛍光体の製造方法によって上記課題を解決する。例文帳に追加

The problem is solved by a phosphor production method containing a step to dope copper to a group II-VI compound semiconductor by baking the group II-VI compound semiconductor together with a copper compound and a flux, a step to crush the baked product and a step to wash the baked and crushed product. - 特許庁

強誘電体層上に銅、鉛、又はビスマスが約２〜５原子量％の濃度でドープされたストロンチウムルテニウム酸化物及びイリジウムを含む上部電極を形成する。例文帳に追加

An upper electrode containing copper, lead or strontium ruthenium oxide doped with bismuth of concentration of about 2-5 atomic weight% and iridium is formed on the ferroelectric structure. - 特許庁

例示的な実施形態においては、金属基板はニッケル下地層および金またはパラジウムを表面ドープしたスズ層で被覆された銅合金を含む。例文帳に追加

In an exemplary embodiment, the metallic substrate contains the nickel surface layer and the copper alloy formed by coating gold or palladium with the tin layer subjected to surface doping. - 特許庁

銅二価塩や鉄三価塩が酸素の多電子還元触媒として作用することを利用して、可視光照射下において、金属イオンドープ酸化チタンに高い酸化分解活性を発現させることができる。例文帳に追加

The metal ion-doped titanium oxide is enabled to exhibit high oxidation and decomposition activity under visible light radiation by utilizing that the cupric salt and/or the ferric salt can work as a multi-electron reduction catalyst. - 特許庁

本発明の一態様においては、薄膜は、例えば、白金またはドープト白金のような電気的導電性物質であり、基体は、例えば銅ホイルのような金属ホイルである。例文帳に追加

In one aspect, the thin film is an electrically conductive material such as platinum or doped platinum, and the base body of the thin film is a metal foil such as a copper foil. - 特許庁

撥水性基体表面に疎水性シリコーン化合物含有層を形成し、当該疎水性シリコーン化合物含有層表面に、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄及び亜鉛からなる群から選択された金属元素の少なくとも１つがドープされたチタン酸化物を含む金属ドープチタン酸化物含有層を形成する親水化防汚方法例文帳に追加

A hydrophobic silicone compound-containing layer is formed on the surface of the water repellent substrate and a metal dope titanium oxide-containing layer containing titanium oxide, which is doped with at least one metal element selected from the group consisting of copper, manganese, nickel, cobalt, iron and zinc, is formed on the surface of the hydrophobic silicone compound-containing layer. - 特許庁

銅のような導電性材料を、燐、ホウ素、インジウム、錫、ベリリウムまたはそれらの組合せのようなドーパントと合金にし、基板表面上へのドープ済みの層の堆積均一性を改善し、且つ導電性材料の酸化を減少させる。例文帳に追加

An electrically conductive material such as copper is alloyed with a dopant such as phosphorus, boron, indium, tin, beryllium or their combination to improve the uniformity of the deposition of the doped layer onto the surface of the substrate and also to reduce the oxidation of the electrically conductive material. - 特許庁