関連欠陥の英語

フォトレジスト・マスクにおける現像に関連する欠陥を除去する方法例文帳に追加

METHOD OF REMOVING DEFECT RELEVANT TO DEVELOPMENT USING PHOTORESIST MASK - 特許庁

例えば、合成画像１００では、ベベル欠陥と他の表面欠陥１０３ａ〜１０３ｄおよび裏面欠陥１０４との関連付けは、ベベル欠陥の位置を投影点１０５ａ〜１０５ｆに投影することによりなされている。例文帳に追加

For example, the bevel defect is correlated with the other surface defects 103a-103d and the reverse surface defect 104, by projecting a position of the bevel defect in projection points 105a-105f, in the composition image 100. - 特許庁

ボイド３５は、窒化ガリウム基板１５の高欠陥エリア１５ｅに関連づけられており、窒化ガリウム膜１７の各高欠陥エリア１７ｅは窒化ガリウム基板１５の高欠陥エリア１５ｅの一つに関連づけられている。例文帳に追加

The void 35 is related to the high-defect area 15e of the gallium nitride substrate 15, and each high-defect area 17e in the gallium nitride film 17 is related to one of high-defect areas 15e of the gallium nitride substrate 15. - 特許庁

１つ又は複数の欠陥関連の機能を遂行するコンピュータ実行方法例文帳に追加

COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD FOR PERFORMING ONE OR MORE DEFECT-RELATED FUNCTIONS - 特許庁

１つ又は複数の欠陥関連の機能を遂行するコンピュータ実行方法を提供する。例文帳に追加

To provide computer-implemented methods for performing one or more defect-related functions. - 特許庁

特定の色に関連する画像形成素子(30)のうちの欠陥のあるものが検出される(302)。例文帳に追加

Defective ones among the image formation elements (30) associated with a particular color are detected (302). - 特許庁

窒化ガリウム基板１５の高欠陥エリア１５ｅに関連づけてボイド３５を形成することにより、該ボイド３５が高欠陥エリア１５ｅの欠陥の少なくとも一部の伝搬を阻止できる。例文帳に追加

By forming the void 35 while being related to the high-defect areas 15e of the gallium nitride substrate 15, the void 35 can block the propagation of at least one portion of the defects of the high-defect areas 15e. - 特許庁

パネルにおける画素欠陥をマッピングし、このマッピングにより得られた欠陥の情報をパネルと関連付け、パネル操作でこの欠陥の情報を利用して、隣接する画素の輝度を変化させて、欠陥画素を観察者に対して目立たなくさせる。例文帳に追加

Defective pixels in the display panel are mapped, defect information obtained by this mapping is associated with the panel, the defect information is utilized in a panel operation, luminance of neighboring pixels is altered and the defective pixels are made inconspicuous to an observer. - 特許庁