1分以上前にの英語

前記賦形口金(1) により重合体濃度が10重量％以上20重量％未満である紡糸原液を紡糸することにより、比表面積が10m^2/g以上、濾水度が200ml以上、及び篩い分け試験による 150メッシュ通過分が10重量％以下であるセルロースアセテートフィブリルを製造できる。例文帳に追加

The spinning dope having ≥10 wt.% and <20 wt.% polymer concentration is spun by the forming spinneret 1 to produce a cellulose acetate fibril having ≥10 m2/g specific surface area, ≥200 ml freeness and ≤10 wt.% of 150 mesh passing material by a screening test. - 特許庁

前記分散剤の添加量は、前記赤色蛍光体の表面積１ｍ^2当たり０．０００１ｇ以上０．０２ｇ以下である。例文帳に追加

The addition amount of the dispersant is 0.0001 g or more and 0.02 g or less per surface area 1 m^2 of the red phosphor. - 特許庁

前記分散剤の添加量は、前記緑色蛍光体の表面積１ｍ^2当たり０．０００１ｇ以上０．０２ｇ以下である。例文帳に追加

The addition amount of the dispersant is 0.0001 g or more and 0.02 g or less per surface area 1 m^2 of the green phosphor. - 特許庁

前記コイルの回転速度を１回／分以上とし、該コイルの回転は、次工程ラインの入側に配置されたペイオフリールに対するコイル装着完了の30秒以上前に開始する。例文帳に追加

The rotational speed of the coil is taken as ≥1 rpm, the rotation of the coil starts ≥30 s before completing the mounting of the coil on a pay-off reel which is arranged on the inlet side of the next process line. - 特許庁

２次メッキ１１層中へのロウ材８の拡散層１１ｂが１μｍ以上でかつ前記２次メッキ１１層におけるロウ材８成分の拡散していない層１１ａの厚みが表面から１μｍ以上とする。例文帳に追加

The diffusion layer 11b of brazing filler metal 8 into a secondary plating 11 layer is made ≥1 μm, and the thickness of a layer 11a into which the component of the brazing filler metal 8 in the second plating 11 layer is not diffused is made ≥1 μm. - 特許庁

１分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物と、1分子内にフェノール性水酸基を２個以上有する化合物と、前記硬化促進剤とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。例文帳に追加

The epoxy resin composition contains a compound having ≥2 epoxy groups in one molecule, a compound having ≥2 phenolic hydroxy groups and the hardening accelerator. - 特許庁

前記分子内に１個以上のリン原子と１個以上のエチレン性不飽和結合とを有するリン原子含有不飽和単量体が、下記一般式（１）で表される化合物からなる。例文帳に追加

The phosphorus atom-containing unsaturated monomer having one or more of phosphorus atoms and one or more of ethylenic unsaturated bonds in a molecule is composed of a compound expressed in general formula (1) (in the formula, R1 denotes hydrogen atom or an alkyl group, R2 denotes hydrogen atom or a substituted or non-substituted alkyl group, and n denotes an integer of 1 to 6.). - 特許庁

出荷前の畳に対して、２日間以上、畳表が８０℃以上になるように加温して乾燥させるか、又は、畳表の水分含有率を１質量％以下になるまで乾燥させる畳の防カビ処理方法。例文帳に追加

The fungusproofing method is implemented by drying the tatami before shipment such that a tatami surface is heated to 80°C or more over two days or more, or by drying the tatami such that a water content of the tatami surface is reduced to 1 mass% or less. - 特許庁