4-6 sとは 意味・読み方・使い方

To provide a suitable salt of 4-[(3-chloro-4-fluorophenyl)amino]-6-{[4-(N, N-dimethylamino)-1-oxo-2-buten-1-yl]amino}-7-((S)-tetrahydrofuran-3-yloxy)-quinazoline for use as a pharmaceutically active component.例文帳に追加

本発明は、医薬製剤における活性成分として使用するための、4-[(3-クロロ-4-フルオロフェニル)アミノ]-6-{[4-(N,N-ジメチルアミノ)-1-オキソ-2-ブテン-1-イル]アミノ}-7-((S)-テトラヒドロフラン-3-イルオキシ)-キナゾリンの適切な塩に関する。 - 特許庁

The wheel 7 is attached to the corner 4 of the shelf 6 to form a shelf subunit S.例文帳に追加

物置棚６の４隅に車輪７を付設し、物置棚サブユニットＳを形成する。 - 特許庁

A rear air chamber S which is sealed with the case 1 and the circuit board 6, is formed at the back of the speaker 4.例文帳に追加

筐体１と回路基板６で密閉される後気室Ｓがスピーカ４の後方に形成される。 - 特許庁

Before cleaning the toilet bowl 1, the suction cup 5 of the device 4 is made to be adsorbed near the sensor unit S, and the sensor unit S is covered with the sensor cover 6.例文帳に追加

便器１を清掃する前に、センサ部Ｓの近傍に器具４の吸盤５を吸着させてセンサカバー６でセンサ部Ｓを覆う。 - 特許庁

The wind shielding material 8 is arranged in a space S between peripheral parts 5, 6 and 7 of an entrance 4 and a door 3, and the space S between the door 3 and the door 3.例文帳に追加

出入口４の周縁部５，６，７とドア３との間の隙間Ｓや、ドア３とドア３との間の隙間Ｓに、遮風材８を配設する。 - 特許庁

Wherein, Z is S or the like; X is CR^4 or the like; X^1 is O, S or the like; and R is CONR^5R^6, CO_2R^5, NR^5R^6, NR^5SO_2R^6, SO_2NR^5R^6 or the like.例文帳に追加

（式中、ＺはＳ，ＸはＣＲ^４，Ｘ^１はＯ，Ｓ，Ｒは−ＣＯＮＲ^５Ｒ^６，−ＣＯ_２Ｒ^５，−ＮＲ^５Ｒ^６，−ＮＲ^５ＳＯ_２Ｒ^６，−ＳＯ_２ＮＲ^５Ｒ^６等を示す。） - 特許庁

The lumbar support 4 is rotatable around a spindle 6, and a plurality of support surfaces S (S(1), S(2), S(3) and S(4)) are disposed at a plurality of positions with different distances from the spindle 6 on the outer surface of the lumbar support 4 for respective rotation positions as pressure receiving surfaces to stably support the lumbar support 4 at the prescribed positions.例文帳に追加

ランバーサポート４を支軸６を介して回転可能とし、そのランバーサポート４の外周に、所定回転位置で受圧面となり且つその受圧によりランバーサポート４を前記所定回転位置に安定保持する作用をなすサポート面Ｓ（Ｓ（１）、Ｓ（２）、Ｓ（３）、Ｓ（４））を回転位置ごとに支軸６からの距離を異ならせて複数箇所に設けることとした。 - 特許庁

Moreover, on the substrate treating chamber (4), the substrate supporting stand (7) is arranged in such a manner that a substrate (S) is supported parallel to the flows of plasma from the plasma blow-off ports (6).例文帳に追加

更に、前記基板処理室(4) には、基板(S) が前記プラズマ吹出口(6) からのプラズマの流れと平行して支持されるように、基板支持台(7) が配されている。 - 特許庁