CONTACT ALIGNERとは 意味・読み方・使い方

The aligner further comprises a mechanism (25) for buffering a pressing force being applied to the compound semiconductor wafer W from the mask M upon contact.例文帳に追加

マスクＭと化合物半導体ウェーハＷとが接触したときにマスクＭによる化合物半導体ウェーハＷへの押圧力を緩衝する緩衝機構（２５）を備える。 - 特許庁

To obtain a mask fixing tool for aligner that a member to be exposed and a mask can be closely brought into contact with each other by a pressing force being uniform as a whole without partially concentrating stress.例文帳に追加

被露光部材とマスクとを全体的に均一な押し付け力で、かつ、部分的な応力集中を伴うことなく密着可能な露光装置のマスク固定具を提案すること。 - 特許庁

The method for cleaning the aligner which is brought into contact with the reticle comprises the steps of providing a material, having a cleaning layer which has a tensile elastic modulus (in compliance with the testing method of JIS K7127) of 0.98 to 4,900 MPa, and conveying the material in the aligner to be cleaned.例文帳に追加

レチクルまたはレチクル状物のこれらが被洗浄装置と接する部位に、引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が０．９８〜４９００ＭＰａであるクリーニング層が設けられた材料を設け、被洗浄装置内を搬送することを特徴とするレチクルが接する装置のクリーニング方法である。 - 特許庁

An aligner device 10 includes bellows 9, which are fixed having an upper end in contact with a peripheral edge of a through-hole 31 in a bottom surface of the frame 3 and is also fixed, having a lower end, in contact with a peripheral edge of a hole part 42 on an upper surface of a support base 4.例文帳に追加

アライナ装置１０は、フレーム３の底面における貫通孔３１の周縁部に上端を密着して固定するとともに支持台４の上面における孔部４２の周縁部に下端を密着して固定したベローズ９を備えている。 - 特許庁

To provide a stage device and an aligner for holding a mask without the occurrence of damage generated by impact when a clamp for holding the mask with pressure holds the mask with pressure and when the clamp comes into contact with the mask.例文帳に追加

マスクを押圧保持するクランプがマスクを押圧保持した際や、クランプがマスクに当接した際の衝撃によるキズを生じさせることなくマスクを保持可能なステージ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner being used in a lithography process for a compound semiconductor wafer in which the compound semiconductor wafer is not cracked easily even upon contact with a mask.例文帳に追加

化合物半導体ウェーハに対するリソグラフィ工程において使用される露光装置であって、化合物半導体ウェーハとマスクとが接触してもウェーハ割れが生じにくい露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner being used in a lithography process for a compound semiconductor wafer in which the compound semiconductor wafer is not cracked easily even upon contact with a mask.例文帳に追加

化合物半導体ウェーハに対するリソグラフィ工程において使用される露光装置であって、化合物半導体ウェーハとマスクとが接触してもウェーハの割れが生じにくい露光装置を提供する。 - 特許庁

The transportation apparatus for transporting a substrate W1 to the aligner includes a first lift pin 11 for moving the substrate W1 in contact with a temperature adjuster 2 away from the adjuster 2, and a first probe 21 for measuring the amount of static charges on the substrate W1 from a side of the substrate W1 in contact with the adjuster 2.例文帳に追加

露光装置に基板Ｗ１を搬送する搬送装置は、温度調節部２に接する基板Ｗ１を、この温度調節部２から離間するように移動する第１リフトピン１１と、基板Ｗ１の温度調節部２との接面側から基板Ｗ１に帯電した電荷を計測する第１プローブ２１とを備えている。 - 特許庁