コンタクト露光装置の英語

露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。例文帳に追加

To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction. - 特許庁

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度で露光可能な露光方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method which can expose patterns of contact hole arrays having fine hole diameters or the patterns intermingled with the isolated contact holes and the contact hole arrays with high resolution without exchanging a mask and an apparatus for the same. - 特許庁

マスクとワークの位置合せを行っているときに、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a contact aligner and a contact aligning method such that when a mask and a work area positioned, a seal member does not come into contact with a mask stage. - 特許庁

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask. - 特許庁

デュアルダマシン法において、現在の半導体装置で使用可能な材料を用いて、コンタクトホールと配線溝パターンの露光の際に目ズレが生じても、コンタクトホールの開口径を確保する。例文帳に追加

To assure an opening diameter of a contact hole using a material which can be used with a current semiconductor device even a dislocation takes place at exposure of a contact hole and a wiring groove pattern, related to a dual damascene method. - 特許庁

均一な大きさの孤立ホールや密集したホール等のコンタクトホールが容易に形成できるコンタクトホールの形成方法および露光装置を得ること。例文帳に追加

To obtain a formation method of a contact hole which enables easy formation of a contact hole such as an isolated hole and a dense hole of a uniform size and an aligner. - 特許庁

既設露光装置における解像力以下のピッチを有するマスクを用いたコンタクトホール形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a contact hole by means of a mask having a pitch with not more than the resolution ability of existing exposure equipment. - 特許庁

大型の修正設備を要することなく容易に白欠陥を修正でき、ハードコンタクト露光を繰り返しても欠陥を生じることなく良好な露光状態にできる露光用ハードマスクの製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for producing a hard mask for exposure capable of easily modifying a blank defective part without requiring a large- sized modifying equipment and capable of attaining a good exposed state without causing defects even after repeated hard contact exposure. - 特許庁