Flat spinとは 意味・読み方・使い方

At the time of a high torque load, either one of flat parts 21 and 22 of the inner shaft 14 forming a width across flat makes contact with corresponding specification part 31 or 32 of the outer spin 13 to regulate relative rotation amounts of the inner spindle 14 and the outer spindle 13.例文帳に追加

高トルク負荷時には、二面幅を形成する内軸１４の平坦部２１，２２の何れか一方が外軸１３の対応する規制部３１，３２に当接し、内軸１４と外軸１３の相対回転量を規制する。 - 特許庁

Since the guide part 60 is provided with a surface 62 to be flat with the upper surface 10a of the spin base 10 and is provided with a sharp end part 61 in a sharp shape facing the recovery port 57, the liquid chemicals splashing from the spin base 10 accurately go to the recovery port 57.例文帳に追加

案内部６０は、スピンベース１０の上面１０ａと面一となる面６２を有するとともに、回収ポート５７に対向する尖鋭形状の尖端部６１を備えているため、スピンベース１０から飛散する薬液が正確に回収ポート５７に向かう。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing an inexpensive high quality single crystal insulating iron oxide film which has a flat and smooth surface and is free from the deterioration in the characteristics caused by N_2 or the like, and with which high efficiency spin injection is possible even in a coherent tunnel mechanism of a spin filter-type tunnel magnetoresistance element.例文帳に追加

平滑面を有し、Ｎ_２等により特性が劣化されていない、スピンフィルタ型トンネル磁気抵抗素子のコヒーレントトンネル機構でも高効率なスピン注入が可能な、安価で高品質の単結晶絶縁酸化鉄膜の作製方法を実現する。 - 特許庁

The spin cleaner 1 further includes a detachable flat rectifying plate 9 on the lower surface side of the silicon wafer W held by the spin table 4 to suppress adherence of a mist due to impurities to the lower surface of the silicon wafer W in cleaning, wherein the rectifying plate is held by the spin table 4 so as to be separated from the silicon wafer W.例文帳に追加

このスピン洗浄装置１は、スピンテーブル４に保持されるシリコンウェーハＷの下面側に、スピンテーブル４により、シリコンウェーハＷと離間するように保持された着脱可能な平板状の整流板９をさらに備え、洗浄の際に不純物によるミストがシリコンウェーハＷの下面に付着することを抑制する。 - 特許庁

The dielectric layer is manufactured by applying heat treatment on a flat film after forming the flat film by coating the coating composition on a substrate by using such methods as spraying, dip coating, spin coating, doctor blade coating, gravure coating, die coating, cap coating.例文帳に追加

さらに、これを、噴霧、ディップコーティング、スピンコーティング、ドクターブレードコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング等の手法によって基板上に塗布して平坦な膜を形成した後、熱処理することによって、誘電体層を製造することができる。 - 特許庁

A circuit 4 connected to TFT 2 is formed on a base board 1, and a flat insulation film 5 made of photosensitive polyimide by spin coat method in a manner to cover the circuit 4.例文帳に追加

ＴＦＴ２に接続された配線４を基板１上に形成し、この配線４を覆う状態でスピンコート法によって感光性ポリイミドからなる平化絶縁膜５を形成する。 - 特許庁

The obtained coating film is extremely flat over the whole surface, and such an annular protruding part of the outer circumference that is formed by the spin coating method is not formed.例文帳に追加

得られた塗膜は全面に渡って極めて平坦であり、スピン塗布法により形成したときに形成されるような外周部の環状の突出部は形成されない。 - 特許庁

Such a film can be formed by a spin coat method, so that a flat film can be formed on its surface, and a hydrogen barrier film 22 formed thereon is made uniform in thickness sufficient to keep hydrogen diffusion blocking performance.例文帳に追加

このような膜はスピンコート法で形成できるので容易にその表面が平坦な膜が得られ、従ってその上に形成される水素バリア膜２２の膜厚も一様となって水素拡散阻止能力が維持できる。 - 特許庁