Missing (film)とは 意味・読み方・使い方

When the counter substrate 2 is completed, inspection to detect a missing part 21 of the edge portion light-shielding film pattern 23 is not carried out or even if a missing part is detected, the substrate as completed is used to fabricate a liquid crystal display apparatus.例文帳に追加

対向基板２の完成時には、周縁部遮光膜パターン２３の欠落部２１について検出する検査を行わないか、または検出されても、そのまま、液晶表示装置を作成するのに用いる。 - 特許庁

To eliminate faults such as swelling and missing in the starting and ending parts of an electrode mixture coated film, which is indispensable for improving reliability of a lithium-ion secondary battery.例文帳に追加

リチウムイオン二次電池の信頼性向上に不可欠な、電極合剤塗膜の始終端部の盛上り、欠け等の不具合をなくすこと。 - 特許庁

To provide an element for easily detecting missing of a high melting- point metal silicide film, related to a gate electrode of a CMOS having a salicide structure.例文帳に追加

サリサイド構造のＣＭＯＳのゲート電極における高融点金属シリサイド膜の欠落を容易に検出し得る素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic thin-film transistor element wherein a leakage current is reduced, and the missing of pixels is few.例文帳に追加

リーク電流が低減し、且つ、画素欠陥の少ない有機薄膜トランジスタ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device by preventing peeling and missing of metal film formed at the external connecting terminals.例文帳に追加

外部接続端子に形成される金属膜の剥離、脱落を防止して、信頼性の高い半導体装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, the fuse 26 is supported by the interlayer insulating film 18 so that the pattern disruption and the pattern missing can be prevented.例文帳に追加

これにより、ヒューズ２６が層間絶縁膜１８により支持され、ヒューズのパターン倒れやパターン飛びを防止することができる。 - 特許庁

Accordingly, the ferroelectric material film (STN film) 57 having the crystal particle size of ≤100 nm without missing of oxygen can be obtained with crystallization of STN on the tantalum oxide film 66.例文帳に追加

そのため、酸化タンタル膜６６上にＳＴＮを結晶化すると、酸素欠損がなく、結晶粒径が１００ｎｍ以下の強誘電体膜（ＳＴＮ膜）５７が得られる。 - 特許庁

To provide a method for correcting a protective film for a photomask capable of correcting a transferred protective film by removing foreign matter included when a protective film for a photomask is transferred and dropping a mending solution for a protective film for a photomask on a produced missing part of the protective film to correct the protective film.例文帳に追加

フォトマスク用の保護膜を転写する際に挟み込んでしまった異物を除去し、保護膜の欠損部分にフォトマスク用保護膜補修液を滴下して保護膜の修正を行うことで、転写した保護膜を部分的に修正することができるフォトマスク用保護膜修正方法を提供する。 - 特許庁