ORTHOSILICATEとは 意味・読み方・使い方

Silicone compounds include tetramethyl orthosilicate, tetraethyl orthosilicate, tetrapropyl orthosilicate, trimethoxysilane, trietoxysilane, triethoxychlorsilane and the like.例文帳に追加

珪素化合物担持工程：固体シリカに珪素化合物を担持することにより、珪素が担持された固体を得る工程 チタン化合物担持工程：珪素化合物担持工程で得られた固体にチタン化合物を担持することにより、チタン含有珪素酸化物触媒を得る工程 珪素化合物としては、たとえばテトラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリエトキシクロロシラン等があげられる。 - 特許庁

To provide a method of forming an insulating film which makes possible further planarization during growth of the insulating film, using tetraethyl orthosilicate(TEOS) method.例文帳に追加

ＴＥＯＳ法を用いた絶縁膜の成長について、より平坦化を図り得る絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Successively, a second seed layer which can adjust a boron content and is used for forming the insulating film 18 is formed using triethyl borate, tetraethyl orthosilicate and oxygen gas, and the insulating film 18 comprising the BPSG film is formed using riethyl borate, triether phosphate, tetraethyl orthosilicate and ozone gas.例文帳に追加

続けて、トリエチルボレート、テトラエチルオルトシリケートおよび酸素ガスを使用してホウ素の含量調節が可能である絶縁膜形成のための第２シード層を形成し、トリエチルボレート、トリエチルホスフェート、テトラエチルオルトシリケートおよびオゾンガスを使用してＢＰＳＧ膜を含む絶縁膜１８を形成する。 - 特許庁

By taking at least one transition metal having valence of bivalent at least, reducing, the orthosilicate containing SiO44--tetranion as a building block.例文帳に追加

少なくとも二価の結合価を有する少なくとも一の遷移金属を取り込むことによって、ビルディングブロックとしてSiO_4^4-テトラニオンを含むオルトシリケートを使用する。 - 特許庁

This electrolytic water for alkali cleaning is produced by adding sodium metasilicate or sodium orthosilicate to raw water as the electrolyte to obtain an aqueous solution and electrolyzing the obtained aqueous solution in a diaphragm electrolytic cell 1.例文帳に追加

原水に電解質としてメタ珪酸ナトリウム又はオルト珪酸ナトリウムを添加し、この水溶液を有隔膜電解槽１で電気分解する。 - 特許庁

The skin touch feeling improver comprises, as the active ingredient, a silicic acid-related substance selected from the group consisting of sodium metasilicate, sodium orthosilicate and water-glass.例文帳に追加

メタケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸ナトリウム、水ガラスからなる群より選ばれるケイ酸関連物質を有効成分として含有する感触改善剤による。 - 特許庁

A selective oxidation semi- atmospheric pressure chemical vapor deposition (SELOX SACVD) comprises depositing silicon dioxide on the wafer, using an ozone-activated tetraethyl orthosilicate process.例文帳に追加

さらに、選択的酸化準大気圧化学気相堆積(SELOX SACVD）は、オゾン活性オルトケイ酸テトラエチルプロセスを用いて、ウェーハの上に二酸化ケイ素を堆積する。 - 特許庁

The polychloroprene-based latex composition has a polychloroprene and sodium orthosilicate as the essential components which are dispersed or dissolved in water.例文帳に追加

ポリクロロプレンとオルソケイ酸ナトリウムを必須成分とし、それらが水中に分散または溶解されていることを特徴とするポリクロロプレン系ラテックス組成物である。 - 特許庁