Pitch shotとは 意味・読み方・使い方

a method of hitting the ball in golf, called pitch shot発音を聞く 例文帳に追加

ピッチショットという,ゴルフの球の打ち方 - EDR日英対訳辞書

Holmes shot the slide across the front of his lantern and left us in pitch darkness--such an absolute darkness as I have never before experienced.発音を聞く 例文帳に追加

ホームズが角灯の前の滑板をさっと動かし、真っ暗闇になった−−私が経験したことのない完全な闇だった。 - Arthur Conan Doyle『シャーロック・ホームズの冒険』

Thus, it is possible to acquire the error of a shot rotation θ and the error of shot magnification Mag. with an anti-clockwise direction as a positive direction from an X-axial step pitch Step X, Y-axial step pitch Step Y, X-axial linking deviation and Y-axial linking deviation.例文帳に追加

反時計回りを正方向としたショットローテーションθ誤差とショット倍率Mag.の誤差を、Ｘ軸方向ステップピッチStep X及びＹ軸方向ステップピッチStep YとＸ軸方向繋ぎ合わせズレ及びＹ軸方向繋ぎ合わせズレから得る。 - 特許庁

The baseball game board structured so as to shoot a ball from the pitching portion of a board surface modeled after a baseball park to the catching portion and hit back the shot ball by a batting portion, has a pitch operation portion having a plurality of knobs capable of being operated to shoot a ball and to vary the shot ball, and a pitch control plate 6 covering the pitch operation portion.例文帳に追加

野球場を模擬した盤面の投球部から捕球部へ向けてボールを発射し、発射されたボールをバッティング部で打ち返すように構成した野球ゲーム盤において、ボールを発射させるため及び発射されたボールに変化を与えるために操作可能とされたつまみを複数備えた投球操作部を有し、該投球操作部に覆設する投球制御プレート6を備えた野球ゲーム盤とする。 - 特許庁

To improve determination performance by allowing a pitch angle to be easily and correctly estimated without deviation from an actual value, in a running condition determination device for processing a shot image of a camera mounted on a vehicle to determine a running condition of the vehicle and a road surface condition from the pitch angle.例文帳に追加

車両に搭載されたカメラの撮影画像を処理してピッチ角からその車両の走行状態や路面状態を判定する走行状態判定装置において、ピッチ角を、簡単にかつ、実際との乖離なく正確に推定できるようにして判定性能を向上する。 - 特許庁

A machining marks 12 having pitch p are formed by one shot by emitting a pulse laser beam having a wavelength of 250-400 nm from a laser beam source and irradiating the laser beam 42 on the glass substrate 2 by a microlens array 40.例文帳に追加

レーザ光源から、波長が２５０〜４００ｎｍのパルスレーザ光を出射し、マイクロレンズアレイ４０により、レーザ光４２をガラス基板２に照射することにより、１ショットでピッチがｐの加工痕１２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for sequential exposure, and a mask for use in that method, in which a shot layout can be obtained at a uniform step pitch even when TEG regions are formed only at several points on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハ上に数点のＴＥＧ領域のみを形成した場合にも、均一なステップピッチのショットレイアウトにすることができる逐次露光方法、および、この逐次露光方法で用いられる逐次露光用マスクを提供する。 - 特許庁