Plating-gasとは 意味・読み方・使い方

GAS WIPING NOZZLE, GAS WIPING NOZZLE SYSTEM AND PRODUCTION METHOD OF HOT-DIP PLATING METAL STRIP例文帳に追加

ガスワイピングノズル、ガスワイピングノズル装置および溶融めっき金属帯の製造方法 - 特許庁

To provide a plating apparatus which can remove any gas present between a substrate and a plating solution within a short period of time, and a plating process therefor.例文帳に追加

短時間で基板とめっき液との間の気体を排除することができるめっき装置およびめっき方法を提供する。 - 特許庁

PLATING-FREE SOLID WIRE FOR Ar-CO2 MIXED GAS SHIELDED ARC WELDING例文帳に追加

Ａｒ−ＣＯ２混合ガスシールドアーク溶接用めっきなしソリッドワイヤ - 特許庁

The plating device for a plating line has a constitution where a treatment tank 18 to be stored with a treatment liquid having gas emissive properties is coated with casing 25 capable of preventing the diffusion of gas.例文帳に追加

ガス発散性の処理液を貯留する処理槽１８が、ガスの拡散を防止可能なケーシング２５によって覆われる構成とした。 - 特許庁

In the plating process S114, electro-plating is performed by soaking the seed film in a plating solution in a plating bath to which the plating solution being bubbled by a nitrogen gas is supplied, using the seed film as a cathode.例文帳に追加

そして、かかるめっき工程Ｓ１１４では、窒素ガスでバブリングされているめっき液が供給されためっき槽中の前記めっき液に前記シード膜を浸漬させ、前記シード膜をカソードとして電解めっきを行なう。 - 特許庁

In the electroless plating device in which the work is immersed in the plating solution to perform the electroless plating, a gas bubbling means to perform the gas bubbling of the plating solution is provided.例文帳に追加

また、本発明に係る無電解めっき装置は、被めっき材をめっき液に浸漬して無電解めっきを行う無電解めっき装置であって、上記めっき液のガスバブリングを行うガスバブリング手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The external air shutoff cover 11 moves to the top of the plating tank 1 simultaneously when the electrolytic plating solution is sent to the plating tank 1 by the plating solution circulation pump 7, and an inert gas such as nitrogen is added from the inert gas feed nozzle 12 to replace the inside atmosphere in the plating tank 1 with an inert gas atmosphere.例文帳に追加

めっき液循環ポンプ７でめっき処理槽１内へ電解めっき液を送液すると同時に外気遮断蓋１１がめっき処理槽１上部に移動し、不活性ガス投入ノズル１２より窒素等の不活性ガスを添加し、めっき処理槽１内を不活性ガス雰囲気に置き換える。 - 特許庁

Then, when performing electrolytic plating to tape 22, the inside of each plating treating part 41 is filled with inert gas discharged from a gas nozzle 61.例文帳に追加

そして、テープ２２に対して電解メッキを行うとき、各メッキ処理部４１内はガスノズル６１から吐出される不活性ガスによって充満されている。 - 特許庁