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at face value methodとは 意味・読み方・使い方
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「at face value method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
A resistance value change is detected under the condition where a magnetoresistive thin film 22 face is inclined at a prescribed angle θ with respect to a magnetic field-directional vertical face, in this magnetic measuring method for evaluating the unidirectional magnetic field Mx intensity, by detecting the resistance value change of a magnetoresistive thin film 22.例文帳に追加
磁気抵抗薄膜２２の抵抗値変化を検出することによって一方向磁界Ｍｘの強度を評価する磁気測定方法において、上記磁気抵抗薄膜２２面を磁界方向の鉛直面に対して所定角度θ傾斜させた状態で上記抵抗値変化を検出する。 - 特許庁
As for an evaluation method, a needle 3 is dropped from the vertical direction to a stacked face of the needlestick injury-preventive members 1 and 2 at a speed of 500 mm/min and a resistance value at the time when the needle penetrates them is measured by a load cell 4.例文帳に追加
評価方法は上記針刺し防止部材１，２の積層面に対して、５００ｍｍ／分の速度で垂直方向から針３をおろし、針が貫通するとき抵抗値をロードセル４にて測定する。 - 特許庁
To provide a method for measuring each of resistance value of the surface and back face in a both side vapor deposition film without forming non-vapor deposited parts in an online system with the improved precision at the time of measuring the resistance value of the film.例文帳に追加
フィルムの抵抗値を測定する際の精度を向上させること、およびオンライン方式において、非蒸着部を形成せずに両面蒸着フィルムの表面および裏面のそれぞれの抵抗値を測定する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel by which a gap in the panel can be efficiently adjusted to a prescribed value at a low cost by a simple configuration and a liquid crystal depositing on the side face of the panel can be removed.例文帳に追加
簡易な構成で、安価に、効率良く、パネルのギャップを所定の値にすることができ、パネル側面に付着する液晶を除去することができる液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
In the surface treatment method of the face panel for the image display device coating film of at least the uppermost layer is formed by spray- coating of a coating material, then drying the coating and its haze (cloud value) after the drying is specified to <3.0%.例文帳に追加
画像表示装置用フェースパネルの表面処理方法において、少なくとも最上層の塗膜を、塗料をスプレー塗布した後に乾燥させることで形成し、乾燥後にヘーズ（曇価）３．０％未満とする。 - 特許庁
In a process of the execution of the excavation method, vertical earth pressure immediately above a working face is calculated based on a relationship between an overburden depth and weight per unit volume of the ground, and the interior of the chamber 5 is controlled so as to be set at set pressure P0 that is larger than vertical earth pressure P by a predetermined value.例文帳に追加
土被り深さと地盤の単位体積重量との関係に基づいて切羽直上の鉛直土圧を算出し、この鉛直土圧Ｐよりもチャンバ５内が所定圧だけ大きい設定圧力Ｐ０となるように管理する。 - 特許庁
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「at face value method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
Alternatively, the method for producing the sheet glass in this invention comprises a stage where a base material glass sheet is worked in such a manner that the average surface roughness at the side face in the sheet glass reaches a prescribed value or below in accordance with the section modulus of the sheet glass to be produced.例文帳に追加
また、本発明に係る薄板ガラスの製造方法は、製造する薄板ガラスの断面係数に応じて該薄板ガラスの側面の平均表面粗さが所定値以下となるように母材ガラス板を加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
In the optical element manufacturing method, the optical element is manufactured by processing the RVO_4 monocrystal so that the maximum value of the angular difference between the {100} face of {100} face of the RVO_4 monocrystal and at least one plane of the optical element is ≥0° and ≤1°.例文帳に追加
および光学素子の製造方法において、ＲＶＯ_４（ＲはＢを除くIII族元素）単結晶の｛１００｝面または｛１１０｝面と、製造される光学素子の少なくとも１つの平面との角度差の最大値が０゜以上１゜以下になるように前記ＲＶＯ_４単結晶を加工して、光学素子を製造する光学素子の製造方法。 - 特許庁
A cathode electrode CL is formed using a transparent electrode at only a required portion and using an electrode material with a low resistance value such as a printed-metal electrode in the portion other than that, thereby a manufacturing process of the nano material electron source by a back face exposure method can be introduced while securing low resistance of the cathode electrode.例文帳に追加
必要な部分にのみ透明電極を用い、それ以外は印刷金属電極等の抵抗値の低い電極材料を用いてカソード電極ＣＬを形成することにより、カソード電極ＣＬの低抵抗化を確保した上で、背面露光法によるナノ材料電子源の作製プロセスを導入することができる。 - 特許庁
In the sputtering method in an oxidation mode for depositing an optical multilayer film on a substrate face within a vacuum tank, the total pressure in the vacuum tank is controlled in the process of depositing the optical multilayer film, thus at least either the sputtering voltage or sputtering current is held to prescribed value or prescribed width.例文帳に追加
真空槽内で基板面上に光学多層膜の成膜をする為の酸化モードでのスパッタ方法であって、前記光学多層膜の成膜中に前記真空槽内の全圧を調節することによってスパッタ電圧又はスパッタ電流の少なくとも一方を所定値又は所定幅に保つスパッタ方法。 - 特許庁
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