basic aromatic ringとは 意味・読み方・使い方

The resist composition includes a phenolic compound (A), an acid generator (B) and an organic basic compound (C) having at least one aromatic ring in one molecule, at least one phenolic hydroxyl group and/or an oxy group (-O-) in one molecule, and a molecular weight of 400 or more.例文帳に追加

フェノール性化合物（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）と、芳香環を１分子中に１個以上有し、フェノール性水酸基及び／又はオキシ基（−Ｏ−）を１分子中に１個以上有する分子量４００以上の有機塩基性化合物（Ｃ）とを含有する、レジスト組成物。 - 特許庁

This antifungal component contains a compound represented by formula (I) (wherein R^1 represents a nitrogen-containing heterocyclic group or a group having a basic substituent group, the structural part containing A represents a six-membered aromatic ring which may have 1-3 nitrogen atoms), its salts, or their hydrates.例文帳に追加

下記の式（Ｉ）で示される化合物、その塩、またはそれらの水和物（式中、Ｒ^1は含窒素複素環基または塩基性置換基を有する基を示し、Ａを含む構造部分は、窒素原子を１〜３個有していてもよい６員の芳香環を示す）。 - 特許庁

This method for producing the isocyanate group-having (meth)acrylate derivative, comprising dehydrochlorinating the isocyanate group-having 3-chloropropionate derivative in the presence of a tertiary nitrogen-having basic nitrogen compound, is characterized in that the tertiary nitrogen of the basic nitrogen compound has at least one group except aromatic ring groups.例文帳に追加

本発明に係るイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステル誘導体を製造する方法は、イソシアネート基を有する３−クロロプロピオン酸エステル誘導体を、第３級窒素を有する塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素する方法であって、該塩基性窒素化合物の第３級窒素が、芳香環基以外の基を少なくとも１つ有することを特徴とする。 - 特許庁

A thermosetting resin compound 30 prepared by adding at least graphite by 5 to 70 wt.% in total amount to resin having non-lubrication and low friction rate, for example, aromatic hydrocarbon resin having a basic structure for connecting at least either of naphthalene and alkylnaphthalene through aromatic group having one ring or more by methylene connection is filled into a channel 20 formed on a tooth face of a helical gear 4 to mold integrally.例文帳に追加

はすば歯車４の歯面に形成した溝２０に無潤滑で低摩擦率の樹脂、例えば、ナフタレンおよびアルキルナフタレンの少なくとも一方が、１環以上の芳香族を介してメチレン結合により結合した基本構造を有する芳香族炭化水素樹脂に少なくとも黒鉛を全量にして５〜７０重量パーセント添加した熱硬化性樹脂組成物３０を充填して一体に成形した。 - 特許庁

The resist remover contains (a) at least one surfactant selected from aromatic ring-containing sulfonic acid type anionic surfactants, alkyl ether sulfuric ester salt type anionic surfactants and polyoxyethylene alkyl(phenyl)ether type nonionic surfactants each having a hydrophile-lipophile balance of ≥13, (b) a basic compound, (c) a chelating agent and (d) water.例文帳に追加

(a)芳香環含有スルホン酸系陰イオン型、アルキルエーテル硫酸エステル塩系陰イオン型、親水親油バランスが１３以上のポリオキシエチレンアルキル（フェニル）エーテル系非イオン型から選択される少なくとも１種の界面活性剤と、(b)塩基性化合物と、(c)キレート剤と、(d)水とを含有するレジスト用剥離液。 - 特許庁

The method for producing the thermosetting resin having a benzoxazine ring structure includes (1) a process for reacting a bifunctional phenol compound, a diamine compound, and an aldehyde compound in a mixed solvent of an aromatic nonpolar solvent and a 1-4C alcohol and (2) a process for cleaning the reaction solution with a basic aqueous solution after the reaction is completed.例文帳に追加

本発明は、（１）二官能フェノール化合物と、ジアミン化合物と、アルデヒド化合物とを、芳香族系の非極性溶媒と炭素数が１〜４であるアルコールとの混合溶媒中で反応させる工程と、（２）反応終了後、反応溶液を塩基性水溶液で洗浄する工程とを含む、ベンゾオキサジン環構造を有する熱硬化性樹脂の製造方法、に係る。 - 特許庁

A sulfonating agent is reacted with a triarylamine polymer expressed by formula (7) in a basic polar solvent, where in formula, Ar_1 represents a 6-20C aromatic group which may have a substitutent; m is an integer of 1 or more; Ar_5 represents a benzene ring optionally including a substituent selected from a halogen atom, alkyl, alkoxy, alkenyl, aryl, arylamine or heteroaryl group.例文帳に追加

式（７）（式中、Ａｒ_１は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族基を表し、ｍは１以上の整数であり、Ａｒ_５はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールアミノ基またはヘテロアリール基から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環を表す）で表されるトリアリールアミンポリマーに対し、スルホン化剤を塩基性極性溶媒中で反応させる。 - 特許庁

The resolcinolic hollow polymer particles are obtained by polymerizing at least one kind of monomer selected from among phenols having a structure where two or more hydroxyl groups are substituted for hydrogens in aromatic ring and at least one kind of monomer selected from among aldehydes including formaldehyde and furfral, by using micelles or vesicles formed by a cationic surfactant as a reaction mold, in the presence of a basic condensing agent containing caustic soda.例文帳に追加

芳香族環に２個以上のヒドロキシル基が置換した構造を持つフェノール類の中から選択された少なくとも１種類のモノマーと、ホルムアルデヒド、フルフラールを含むアルデヒド類の中から選択された少なくとも１種類のモノマーを、カチオン界面活性剤によって形成されるミセルないしはベシクルを反応鋳型として、この反応鋳型により苛性ソーダを含む塩基性縮合剤の存在下で重合させる。 - 特許庁