bath-40とは 意味・読み方・使い方

The group registering apparatus 20 is installed in a reception desk of the public bath and the message devices (40, 60) are respectively installed in the front, a male bath, a female bath, and a resting room or the like.例文帳に追加

グループ登録装置２０は、銭湯のフロントに設置され、伝言装置（４０，６０）はフロント、男風呂、女風呂、及び休憩室等に、おのおの設置されている。 - 特許庁

Then, water used in the water-soaking step, Pleurotus cornucopiae in the thermostatic bath, and water in the thermostatic bath generated in the steaming step are put into a grinder set at about 40°C and are ground.例文帳に追加

その後、浸水工程で用いた水、恒温槽内にあるタモギタケ、及び蒸す工程で発生した恒温槽内の水を約40℃に設定した粉砕機に入れ粉砕する。 - 特許庁

An inert gas is discharged from a lower part of the bath 40 into the washings 42.例文帳に追加

不活性ガスは洗浄槽４０の下部から洗浄液４２に放出される。 - 特許庁

By connecting side parts 40 of a process liquid bath to the bottom 30 of a process liquid bath 30, where a substrate is held, a liquid processing by a process liquid can be applied to the substrate.例文帳に追加

基板を保持した処理液槽底部３０に処理液槽側部４０を接続することで、処理液による液処理を施すことができる。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus 1, a buffer bath 63 is provided in the middle of a path of a pure water supply part 40, and micro bubble generators 64a and 64b are provided in the buffer bath 63.例文帳に追加

この基板処理装置１は、純水供給部４０の経路途中にバッファ槽６３を設け、バッファ槽６３内にマイクロバブル発生器６４ａ，６４ｂを設けている。 - 特許庁

And the substrate W is held within the bath 20, under which condition IPA vapor flows FI are discharged toward an opening 20P of the bath 20 from the nozzles 40.例文帳に追加

そして、処理槽２０内に基板Ｗが保持された状態で供給ノズル４０からＩＰＡ蒸気流ＦＩを処理槽２０の開口部２０ｐに向けて吐出する。 - 特許庁

A part where the modular bath fixing frame 34 is arranged is to be a dead space 38 under a modular bath floor, and a storage battery unit 40 is housed between neighboring mounting base frames 32.例文帳に追加

ユニットバス固定フレーム３４が配設された部分はユニットバス床下デッドスペース３８とされており、蓄電池ユニット４０は隣り合う架台フレーム３２間に納められている。 - 特許庁

After cleaning of a substrate W is completed in a processing bath 20, pure water is discharged from the processing bath 20 while a nitrogen gas is supplied thereinto from supply nozzles 40.例文帳に追加

処理槽２０において基板Ｗの洗浄処理が終了した後、供給ノズル４０から窒素ガスを供給しつつ処理槽２０内から純水が排出される。 - 特許庁