bicyclohexylとは 意味・読み方・使い方

To provide a purification method that assures stable optical properties of 1,1'-bicyclohexyl suitable as a liquid for immersion exposure exhibiting excellent transmittance at 193 nm by efficiently removing impurities contained therein by using an adsorbent.例文帳に追加

吸着剤を用いる精製方法で、１９３ｎｍにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な１，１'−ビシクロヘキシル中に含まれる不純物を効率よく除去し、光学的性質が安定している。 - 特許庁

To provide a method for isomerizing a c,c-form and c,t-form in an isomeric mixture of 4,4'-bicyclohexyl dicarboxylic acids (BCHDA) to a t,t-form exhibiting a high melting point efficiently in a short time.例文帳に追加

４，４’−ビシクロヘキシルジカルボン酸異性体混合物中のｃ，ｃ−体及びｃ，ｔ−体から融点の高いｔ，ｔ−体へ、短時間で効率的に異性化する方法を提供する。 - 特許庁

The thermosetting resin composition comprises a novolak type phenol resin, a polyacetal resin and a curing catalyst composed of an alicyclic hydrocarbon compound such as 4,4'-bis(p-toluenesulfonic acid)bicyclohexyl, etc., containing a hydroxy group and a sulfonic acid group and having two ring structures.例文帳に追加

ノボラック型フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂及び４，４’−ビス（ｐ−トルエンスルホン酸）ビシクロヘキシル等の水酸基、スルホン酸基を有し、２つの環構造を有する脂環式炭化水素化合物よりなる硬化触媒を含む熱硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

Among tetrakisphenols having a core skeleton of a biscyclohexylalkane or a bicyclohexyl, a tetrakisphenol substituted with a sec-butyl group at a position adjacent to its 4-hydroxyphenyl group unexpectedly shows a remarkably low glass transition temperature or melting temperature and has excellent solubility to solvents.例文帳に追加

中心骨格がビスシクロヘキシルアルカン乃至ビシクロヘキシルであるテトラキスフェノール類において、４−ヒドロキシフェニル基の隣接位置にｓｅｃ−ブチル基が置換したテトラキスフェノール類が、意外にも著しく低いガラス転移温度または融点を示し、また、溶媒への溶解性にも優れている。 - 特許庁

The epoxy resin composition includes an epoxy compound and curing agent, wherein the epoxy compound contains a particular diepoxy bicyclohexyl compound and the content of isomer of the compound is 0.01-8 wt.% of the total amount of epoxy compound.例文帳に追加

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ化合物と、硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ化合物は、特定のジエポキシビシクロヘキシル化合物を含み、かつその化合物の異性体の含有量が該エポキシ化合物全体の０．０１〜８重量％である。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition can form a resist film to be used in a resist pattern forming method including a liquid immersion exposure step using bicyclohexyl as the liquid immersion exposure liquid, wherein the refractive index of the resist film to radiation having a wavelength of 193 nm is 1.64 to 1.75.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト膜を形成することができ、レジスト膜の、波長１９３ｎｍの放射線に対する屈折率が１．６４〜１．７５である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon having transmittance at a wavelength of 193 nm of ≥99% per 1 mm of the optical path length comprises successively passing at least one alicyclic saturated hydrocarbon compound selected from 1,1'-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene and trans-decahydronaphthalene through two or more columns packed with an adsorbent composed of at least one oxide selected from alumina, silica alumina and zeolite.例文帳に追加

波長１９３ｎｍにおける透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上である製造方法であって、１，１’−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンから選ばれた少なくとも１つの脂環式飽和炭化水素化合物をアルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも１つの酸化物からなる吸着剤が充填された２本以上のカラムを順に通過させる。 - 特許庁