cathodic hydrogenとは 意味・読み方・使い方

At least either the lower layer or the upper layer is formed by a filtered cathodic arc process, and the lower layer contains amorphous carbon and at least either hydrogen or fluorine as a main component.例文帳に追加

下層と上層の少なくともいずれか一方がフィルタードカソディックアーク法によって形成され、下層がアモルファスカーボンおよび、水素とフッ素の少なくともいずれか一方を主成分として含有する。 - 特許庁

A magnetic recording film is film-deposited on a substrate, then a highly hard carbon film containing no hydrogen is formed by e.g. an FCA (Filtered Cathodic Arc) method, then the highly hard carbon film is immediately transferred into a hydrogenation chamber still in the vacuum and the surface of the highly hard carbon film is subjected to hydrogenation treatment to form a hydrogen-containing surface layer.例文帳に追加

基板上に磁気記録膜を成膜し、次に、水素を含まない高硬質炭素膜を、例えばＦＣＡ法で形成後、直ちに真空中のまま、水素化チャンバー中に移動させて、その高硬質炭素膜の表面を水素化処理して、水素含有表面層を形成する。 - 特許庁

The cell of the invention comprises an anodic compartment 10, wherein the metal to be dissolved acts as a consumable anode, and a cathodic compartment 9, containing a cathode 7 for hydrogen evolution, separated by a cation-exchange membrane 6 coping with the simultaneous transport of hydrogen ions and metal cations.例文帳に追加

溶解させる予定の金属が消耗陽極として働く陽極区画室１０及び水素発生のための陰極７を含む陰極区画室９を含むセルで、水素イオンと金属の陽イオンの同時輸送に対処した、陽イオン交換膜６によって分離されていることを特徴とする。 - 特許庁

The hydrogen separation method carried out by operating a process of preparing a hydrogen pump 1 apparatus provided with an electrolyte substrate 10 using a proton conductive ceramic as a base material, an anode chamber 13 provided in the anodic electrode 11 side of the electrolyte substrate 10 and a cathode chamber 14 provided in the cathodic electrode 12 side of the electrolyte substrate 10.例文帳に追加

本方法は、プロトン導電性セラミックスを基材とする電解質基板１０と、電解質基板１０のアノード電極１１側に設けられたアノード室１３と、電解質基板１０のカソード電極１２側に設けられたカソード室１４とをもつ水素ポンプ１装置を用意する工程を実行する。 - 特許庁

This method relates to a cathodic-arc film deposition method where a carbon target 11 is collided by cathode-arc discharge to form a plasma beam B containing carbon ions and a substrate 41 is irradiated with the plasma beam B to deposit a carbon film, and gaseous hydrogen is introduced during film deposition from a gaseous hydrogen feeding device 44 into a film deposition chamber 4.例文帳に追加

陰極アーク放電によりカーボンターゲット１１を衝撃してカーボンイオンを含むプラズマビームＢを生成し、そのプラズマビームＢを基板４１に照射してカーボン膜を成膜するカソーディックアーク成膜方法に関するものであって、成膜中に水素ガス供給装置４４から成膜チャンバ４内へと水素ガスを導入する。 - 特許庁

The nitrogen oxide decomposing element 1 has a conductive solid electrolyte film 2 through which hydrogen ions pass selectively, a first electrode layer 3 comprising an electron-conductive substrate and a catalyst for promoting anodic oxidation, a second electrode layer 4 comprising an electron-conductive substrate and a catalyst promoting cathodic reduction, and a platinum group element catalyst 6 which is arranged adjacently to the second electrode layer 4 and supported on a porous metal oxide 5.例文帳に追加

水素イオンを選択的に透過させる導電性の固体電解質膜２と、電子導電性基材と陽極酸化を促進する触媒よりなる第１の電極層３と、電子導電性基材と陰極還元を促進する触媒よりなる第２の電極層４と、第２の電極層４に隣接して配設され多孔体の金属酸化物５に担持された白金族触媒６を備えた窒素酸化物分解素子１を提案した。 - 特許庁