clean interfaceとは 意味・読み方・使い方

A film can be formed without exposing an interval between a cleaning step and a film forming step to air by connecting a cleaning chamber to a film forming chamber, and to hold clean an interface between respective films constituting TFT.例文帳に追加

洗浄室と成膜室をつなげることにより、洗浄工程と成膜工程の間を大気に曝すことなく成膜を行うことができ、ＴＦＴを構成する各被膜界面を清浄に保つことが可能となる。 - 特許庁

Thereby, the adhesion between the diffusion barrier layer and the copper film is accelerated and a clean interface layer can be formed.例文帳に追加

その供与分子は正に荷電した銅を金属銅に還元し、バリア層表面でフッ素と反応して揮発性フッ化ケイ素を生成し、それにより拡散バリア層と銅膜間の付着力を促進する、きれいな界面層を形成する。 - 特許庁

To suppress degradation of an air cleaning means for purifying air when performing environmental control of an interface which is a space for transferring an object to a processor installed in a clean room.例文帳に追加

クリーンルーム内に設置された処理装置へ処理対象物を移載するための空間であるインターフェースの環境制御を行なうにあたり、空気を浄化するための空気浄化手段の性能低下を抑える。 - 特許庁

To provide a method for keeping each coating interface, constituting a TFT in a clean state which will not be contaminated with contaminating impurities during fabrication process and for adding impurities to a crystalline semiconductor film without causing destruction of crystal.例文帳に追加

製造工程中ＴＦＴを構成する各被膜界面を汚染不純物に汚染されることなく清浄な状態に保ち、また、結晶質半導体膜に結晶破壊を起さずに不純物を添加する方法を提供する。 - 特許庁

Since the heat treatment is performed after the major surface of the operating region 18 in the epitaxial layer 12 is covered with the Schottky electrode 14, the major surface of the epitaxial layer can be kept in a clean state, resulting in a Schottky interface having high characteristics.例文帳に追加

本発明では、エピタキシャル層１２のうち動作領域１８の主面上がショットキー電極１４により覆われた後に熱処理を行なうので、エピタキシャル層の主面上を清浄な状態で保つことができ、特性の高いショットキー界面を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method by which a highly reliable TFT (thin film transistor) can be manufactured in a high yield by forming a clean semiconductor film/gate insulating film interface and, at the same time, upgrading a semiconductor film or both the semiconductor film and a gate insulating film.例文帳に追加

清浄な半導体膜／ゲート絶縁膜界面を形成すると共に、半導体膜の高品質化、或いは半導体膜及びゲート絶縁膜の双方の高品質化を図り、歩留り及び信頼性の高いＴＦＴの製造方法を実現する事。 - 特許庁

To provide a sputtering device and a thin film forming method, wherein a multilayer film having a clean interface can be formed at a substrate temperature optimal for each film quality, and a predetermined surface treatment can be continuously carried out on a deposited film surface.例文帳に追加

本発明は、清浄な界面を有する多層膜をぞれぞれの膜質に最適な基板温度で形成することができ、また、堆積した膜表面に所定の表面処理を連続的に施すことができるスパッタリング装置及び薄膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The environment of a wafer treatment device is kept clean by local cleaning, the wafer stuck with contaminants is cleaned by washing, cleanness thereof is kept and the surface of the wafer is protected for preventing recontamination so that cleanness on the interface of a device configuration can be provided.例文帳に追加

基板処理装置の環境を局所的クリーン化によって清浄に保ち、汚染物付着基板を洗浄にて清浄化し、その清浄性を保持し、再汚染防止のために基板表面の保護を行うことで、デバイス構成の界面の清浄性を得るものである。 - 特許庁