deposition fractionとは 意味・読み方・使い方

Thus, when the thermal-sprayed film is used in a deposition-preventive tool, the film is not easily peeled even when a dispersive film deposition material is deposited, and the defective fraction of wafers can be reduced.例文帳に追加

そのため、防着治具として使用した場合、拡散する成膜材が付着しても簡単に剥がれることがなく、ウエハーの不良率を減少することができる。 - 特許庁

The molar fraction x_CO2 increase restrains the Boudouard reaction as a reaction from carbon monoxide to carbon dioxide and carbon so that carbon deposition is restrained (3).例文帳に追加

モル分率ｘ_ＣＯ２が増大すると、一酸化炭素から二酸化炭素及び炭素への反応であるBoudouard反応が抑制され、炭素の析出が抑制される（３）。 - 特許庁

A nitride semiconductor element 40 includes a low-temperature deposition buffer layer 42 containing AlN on a substrate 41, a first nitride semiconductor single-crystal layer 43 containing the AlN with a first AlN molar fraction, and a second nitride semiconductor single-crystal layer 44 which contains the AlN with a second AlN molar fraction, and the second molar fraction is larger than the first one.例文帳に追加

本発明の窒化物半導素子（４０）は、基板（４１）上にAlNを含む低温堆積緩衝層（４２）と第一のAlNモル分率でAlNを含む第一の窒化物半導体単結晶層（４３）と第二のAlNモル分率でAlNを含む第二の窒化物半導体単結晶層（４４）とを含み、第二のAlNモル分率が第一のAlNモル分率より大きい。 - 特許庁

A tungsten nitride carbide (WNC) film, that is a material not containing a chlorine fraction in stock gas of film deposition, is used for upper and lower electrodes of a capacitor to form the upper or lower electrode in an amorphous state.例文帳に追加

キャパシタの上部及び下部電極に、成膜の原料ガスに塩素分を含まない材料である窒化タングステン・カーバイド(ＷＮＣ)膜を用い、この上部又は下部電極をアモルファス状態で形成する。 - 特許庁

To improve the deposition speed of plating film and to improve the productivity by making the thicknesses of the plating films formed in required sections uniform, thereby improving the non-defective fraction in a barrel electroplating of articles to be plated of extremely small dimensions.例文帳に追加

極小寸法の被めっき物品をバレル電気めっきするに際して、所要部分に形成されるめっき膜の厚さを均一化させ良品率を向上させ、めっき膜の成膜速度を向上させ生産性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing compost which is capable of assuring large void fraction even in a deposition state by adequately regulating moisture in starting fermentation and is capable of performing good ripening by sufficiently supplying an initial amount of oxygen consumption necessary for fermentation decomposition.例文帳に追加

醗酵開始時の水分を適切に調整するとともに、堆積状態においても空隙率を大きく確保し、醗酵分解に必要な初期消費酸素量を十分に供給して良好な熟成を行うことができる堆肥の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A thin film prepared by dispersing metal and hetero-phase component incompatible with the metal is formed on the substrate composed of a material incompatible with the metal by a sputtering method or vacuum vapor deposition method in such a manner that the volume fraction of the hetero-phase component attains 20 to 65% and the thickness attains ≥1 μm.例文帳に追加

スパッタリング法または真空蒸着法により、金属と、該金属と相溶しない異相成分とが分散してなる薄膜を、前記異相成分の体積分率が２０〜６５体積％、厚さが１μｍ以上となるように、前記金属と相溶しない材質からなる基板上に形成する。 - 特許庁