development of swellingとは 意味・読み方・使い方

An airbag cover 68 of synthetic resin which covers the upper part of the support member 59 and the collapsed airbag 23, includes a door part 76 which opens in such a manner that a rear edge side faces the front, with a hinge part 75 arranged in front of the support member 59 as a rotation center at the time of development and swelling of the airbag 23.例文帳に追加

支持部材５９と折り畳まれたエアバッグ２３との上方を覆う合成樹脂製のエアバッグカバー６８が、エアバッグ２３の展開膨張時に、支持部材５９の前方に配置されるヒンジ部７５を回転中心として、後縁側を前方に向けるように開く扉部７６を、備える。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition free of swelling of a film in development, developable with an aqueous alkali solution safe in work, not requiring heating at a high temperature, ensuring little volume shrinkage particularly in curing and excellent in dimensional stability.例文帳に追加

現像時のフィルムの膨潤がなく、また作業上安全なアルカリ水溶液で現像が可能であり、また高温による加熱処理を必要としないことに加えて、特にキュアー時の体積収縮が少なく寸法安定性に優れることを特徴とする新規な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide (1) a polymer compound of excellent reactivity to an acid and excellent heat stability showing slight swelling during its development for use in a photoresist composition, (2) a compound which is a raw material therefor, and (3) a photoresist composition of improved LWR comprising the polymer compound.例文帳に追加

１）酸に対する反応性および熱安定性に優れ、かつ、現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物用高分子化合物、２）その原料となる化合物を提供すること、および、３）該高分子化合物を含有してなるＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist material having high sensitivity and high resolution to high energy-beam exposure, small line-edge roughness because of controlled swelling at the time of development, small residual dross after development, excellent dry etching resistance, and suitably usable also for liquid immersion lithography, and provide a method for forming patterns by using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a photoresist pattern from a resist film with exposure and development, swelling a resist insoluble layer formed on the front surface of the photoresist pattern with the vapor of resist solvent sprayed from a nozzle 12 within the thermal flow apparatus 10, and shrinking the photoresist pattern attained by swelling the resist insoluble layer by heating the same pattern with a hot plate 11 for thermal flow.例文帳に追加

レジストパターン形成方法は、露光及び現像により、レジスト膜からフォトレジストパターンを形成する工程と、サーマルフロー装置１０内で、フォトレジストパターンの表面に形成されたレジスト難溶化層を、ノズル１２から噴霧するレジスト溶剤の蒸気で膨潤させる工程と、レジスト難溶化層を膨潤させたフォトレジストパターンを、ホットプレート１１で加熱し、サーマルフローさせてシュリンクする工程とを有する。 - 特許庁

To solve the following problem: disconnection or increase and unevenness in wiring resistance due to resist residue remaining in distribution holes, or impossibility of formation of a fine circuit pattern due to swelling by development, in forming a copper wiring circuit by a dual damascene method in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves using ArF lithography capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

微細パターン形成が可能なＡｒＦリソグラフィを用い、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン法で銅配線回路を作る場合、配線孔内に残るレジスト残渣の影響で断線や配線抵抗の増大およびバラツキが生じるという問題、あるいは現像膨潤によって微細回路パターン形成ができないという問題を解決することが本発明が解決する課題である。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a resist protective film for forming a protective film that does not have affinity with respect to an immersion liquid, can suppress the elution of low-molecular weight components from a resist layer or swelling in a resist film, can be removed easily in a process of alkali development after exposure, and can provide a preferable pattern profile.例文帳に追加

液浸液に対しては親和性を有さず、レジスト層からの低分子成分の溶出やレジスト膜の膨潤を抑制することができるとともに、露光後のアルカリ現像のプロセスで容易に除去でき、良好なパターンプロファイルを得ることができる保護膜を形成できるレジスト保護膜形成用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an acrylic acid derivative useful as a raw material of a polymer compound with less swelling in development, a polymer compound obtained by polymerizing a raw material containing the acrylic acid derivative, a photoresist composition with improved LWR (line width roughness) containing the polymer compound, and a method for producing the acrylic acid ester.例文帳に追加

現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用なアクリル酸誘導体、該アクリル酸誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前アクリル酸エステルの製造方法を提供する。 - 特許庁